JPH02112223A - アライメントマーク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、二つの物体を所定の位置関係にする際に用い
るアライメントマークに係り、特に半導体製造装置のグ
ローバルアライメン］・におけるウェハの位置合せに好
適なアライメントマークに関する。

〔従来の技術〕

半導体製造工程にはウェハ上の区切られた各領域にマス
クパターンまたはレティクル上に形成されたパターンを
順次転写して半導体集積回路を形成する工程がある。こ
の］−程においては、既に転写形成されているパターン
上に、更に別のバタンを正確に位置合せして転写する必
要がある。そして、ウェハ上に形成されているパターン
に対し、次に転写するパターンを高精度に位置合せする
ためには、まずウェハ自体を任意の位置に高い精度で設
置する必要がある。この際の位置合せをグロバルアライ
メントと呼ぶ。グローバルアライメントは、０．２μｍ
程度のサブミクロンオーダの精度を必要とする場合があ
り、このような場合にはアライメント光学系も分解能を
上げるために高倍率にして、例えば１００μｍ口以下の
視野の狭いものが用いられる。ところが、ウェハの機械
的プリアライメントの精度は数百μｍ程度の誤差に達す
る場合がある。したがって、アライメント光学系の視野
が１００μｍ口以下で、プリアライメントにおける誤差
か数百μｍ程度であると、アライメント光学系の視野の
中にウェハ上のアライメントマークが必ずしも入るとは
限らないので、アライメントマークを探索する必要があ
る。

そこで、従来よりスループットや歩留りの向上の点から
アライメント光学系の視野の中にウェハ上のアライメン
トマークを迅速かつ正確に入れるための種々の対策が講
じられてきた。ここで、ウェハの高精度の位置合せを細
アライメントと呼び、アライメント光学系の視野の中に
アライメントマークを入れる大まかな位置合せを粗アラ
イメントと呼ぶ。

この種の技術として、特公昭６２−５７００８号公報に
開示されているものがある。これは、先ずウェハ上の離
間した三箇所に形成したアライメントマーク近傍を、比
較的視野の大きい低倍率の粗アライメント光学系の視野
で捕える。

第１７図（ａ）は粗アライメント光学系の視野を示す図
である。図中、Ｆｌは一方のアライメントマーク近傍近
傍の視野を示し、Ｆ２は他方のアライメントマーク近傍
近傍の視野を示し、ＦｌおよびＦ２からアライメント光
学系の視野を構成している。ＬＭ、ＲＭはウェハ上に離
間して形成されている十字型をしたアライメントマーク
であり、十字の交差点が位置合せの中心部となる。ＬＳ
。

Ｒ３は視野Ｆｌ、Ｆ２に現われる基準マークである。そ
して、視野内にアライメントマークＬＭＲＭが入ったな
らば、更に倍率を上げる。同図（ｂ）は高倍率で捕えた
細アライメント光学系の視野を示す図である。そして、
アライメントマクＬＭ、ＲＭの中心部を基準マークＬＳ
、Ｒ８の中心部に移動させ、中心部が一致したら、互い
の傾きを一致させ、細アライメントを終了する。第１７
図（Ｃ）は細アライメントが終了したときのアライメン
ト光学系の視野を示す図である。図示の如く基準マーク
ＬＳ、Ｒ８の中心部とアライメントマークＬＭ、ＲＭの
中心部とが一致し、互いの傾きが等しくなった状態を呈
している。

次に、特開昭６２−２１２１９号公報に開示されている
他の技術を第１８図および第１９図を参照して説明する
。第１８図に示すように、十字型をしたアライメントマ
ークＭを粗アライメント光学系の視野Ｆに入れ、この視
野画像の濃淡データをそれぞれＸ軸方向およびＹ軸方向
に加算する。

濃淡データを加算するとアライメントマークＭの外形を
示すエツジ部分は他の部分に比して突出した高濃度で検
出される。したがって視野ＦにアライメントマークＭの
中心部が捕えられているときは、Ｙ軸方向に伸びるエツ
ジの位置とＸ軸方向に伸びるエツジの位置とを求めるこ
とがでる。このためＸ軸およびＹ軸より得られる位置情
報からアライメントマークＭの中心位置を求めることか
できる。そして求めた中心位置にウェハを移動させた後
、細アライメントを行なう。また、第１９図に示すよう
に、視野Ｆの中にアライメントマークＦの右端を含むＸ
軸方向部分だけが入っている場合には、視野画像の濃淡
データを加算することにより、Ｘ軸方向に伸びるエツジ
のＹ座標が求められ、またそのエツジの右端のＸ座標が
検出できる。

したがってアライメントマークＭの中心までの距離およ
び中心方向を求めることができる。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上述したアライメントマークを用いたグロー
バルアライメントでは、高精度の位置合せを短時間で行
なうべく、粗と細のアライメント光学系を別個に構成し
たり、光学系の一部を切換えて使用したりしていた。こ
のため、光学系が複雑になると共に、粗アライメントと
細アライメントとの互いの中心が一致していないときは
、アライメント手段の切換えの際に中心軸を一致させる
作業が必要となり、作業能率が悪い上、高い精度が得ら
れないという問題があった。

本発明は上記問題点を除去するためになされたもので、
アライメント光学系の構成を単純化でき、位置合せの高
精度化および高速化を図り得るアライメントマークを提
供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記１」的を達成するために、位置合せ中心部
に位置合せを行なうための細アライメントマークを配置
し、この細アライメントマークを中心としてアライメン
ト光学系の視野よりも十分広い領域に、前記位置合せ中
心部までの距離およびその中心部の方向を算定可能な情
報を含む粗アライメントマークを配置するようにした。

また、位置合せ中心部に位置合せを行なうための細アラ
イメントマークを配置し、この細アライメントマークを
中心としてアライメント光学系の視野よりも十分広い領
域に、前記位置合せ中心を原点として直交する２軸のう
ちの少なくとも一方の軸までの距離およびその軸の方向
を算定可能な情報を含む粗アライメントマークを配置す
るものとした。

〔作用〕

本発明は上記手段を講じたことにより、アライメント光
学系の視野に粗アライメントマークの一部を容易に入れ
ることができ、視野に入った粗アライメントマークの形
状から位置合せ中心部までの距離および方向が求められ
、この求めた位置合せ中心に関する情報に基づいて位置
合せ対称物を移動させることにより細アライメントマー
クを視野内に入れることができ、視野内に入った細アラ
イメントマークを用いて高精度な位置合せを行なうこと
ができるものとなる。

また、別の手段を講じたことにより、アライメント光学
系の視野に入った粗アライメントマークの一部の形状か
ら、位置合せ中心までの距離および方向、または位置合
せ中心を原点として直交する二軸のうちの少なくとも一
つの軸までの距離および方向を求めることができ、この
求めた情報に基づいて位置合せ対称物を移動させること
により細アライメントマークを視野内に入れることがで
き、視野内に入った細アライメントマークにより高粘度
呑な位置合せを行なうことができるものとなる。

〔実施例〕

本発明の実施例を具体的に説明する前に、本発明の基本
概念を第１図を参照して説明する。高精度な位置合せを
行なう細アライメントマークＦＭを中心として、その周
辺にアライメント光学系の視野Ｆより十分広い範囲に亙
り粗アライメントマクＲＭを配置して、視野Ｆの中に粗
アライメントマークＲＭの一部分が少なくとも一箇所は
入るようにしている。このようにすることにより、例え
ば視野Ｆの中に粗アライメントマークＲＭの中のＰが入
ったとする。そうすると、視野Ｆから中心Ｏまでの距離
はＰの曲率半径として求められ、位置合せ中心０の方向
を曲率中心の方向として求めることができる。このデー
タに基づいて位置合せを行ない視野Ｆの中心部に位置合
せ中心を移動させ、その後、細アライメントマークＦＭ
を用いて位置合せを行なうことにより、高精度な位置合
せを行なうことができる。なお、同図には位置合せ中心
０を中心とした同心円形状をした粗アライメントマーク
ＲＭを配置したものを示している。

第２図は本発明に係るアライメントマークの第１実施例
を示す図である。このアライメントマークは、中心部に
細アライメントマークとしての十字マーク１０を配置し
、この十字マーク１ｏの中心、すなわち位置合せ中心を
中心として同心円状に粗アライメントマークとしての同
心円状マーク１１を配置した形状をしいる。図に示す破
線Ｆは固体撮像素子の視野Ｆを示しており、−片が７０
μｍの正方形をしている。この視野Ｆは稜線ＦＲにより
９つの同一形状をした正方形の領域に区分されている。

同心円状マーク１１のパターン幅およびパターン間隔は
２６μｍに設定されており、アライメントマークのどこ
に視野Ｆがあろうとも、いずれかの同心円状マーク１１
の外周線または内周線と稜線ＦＲとは三箇所以上で交差
する。

第３図（ａ）〜（ｄ）は、第２図に示した視野Ｆを抜出
して示す図である。第４図は第３図（ａ）に示す視野Ｆ
を拡大して示す図である。

このようなアライメントマークを用いた位置合せは、第
２図（ｄ）に示すように、十字マーク１０の中心が視野
Ｆ内にあるときは、その十字マーク１０を用いて細アラ
イメントを行なう。また、視野Ｆ内に十字マーク１ｏの
中心が入っていない場合は、次のようにする。第４図を
用いて説明すると、任意の半径の円周について、異なる
３点の座標が求まれば、円の中心方向と半径の大きさを
求めることができる。したがって稜線ＦＲと同心円状マ
ーク１］の外周線および内周線との交点の組みａ、ｂ、
ｃ、ｄまたはｅ、ｆ、ｇ、ｈがらアライメントマークの
中心方向と中心までの距離を求めることができる。また
、第３図（ｂ）（ｃ）に示す場合においても、上記同様
にして稜線ＦＲと同心円状のマーク１１の外周線または
内周線との交点の組から中心方向と中心までの距離を求
める。このようにして求めた方向および距離のブタに基
づいて粗アライメントを行ない、視野Ｆに細アライメン
トマークとしての十字マーク１ｏを入れる。そして十字
マーク１ｏを用いて細アライメントを行ない高精度の位
置合せを行なう。

次に、上記アライメントマークを用いた具体的な位置合
せについて説明する。

第５図はグローバルアライメント光学系の構成を示す図
である。同図に示すグローバルアライメント光学系は、
対物レンズ１１、ビームスプリッタ１２、不図示のアラ
イメント用光源からの光を伝達するための光ファイバ１
３、結像レンズ１４、撮像レンズ１５、固体撮像索子（
または撮像管）１６とから構成されている。なお、１０
は位置合せ対象としてのウェハであり、図示していない
搬送手段により搬送されて、図示していないウェハステ
ージ上の所定の位置に保持されている。また、このアラ
イメント光学系の視野は約７０μｍ口である。固体撮像
素子６は約縦７５０×横５００個の画素を有し、１画素
がウェハ１０上の約０．１　μｍ強に相当する。

このように構成されたグローバルアライメント光学系に
おいては、光ファイバ１３を通ってきた光はビームスプ
リッタ１２で反射されて対物レンズ１１を通ってウェハ
１０に照射される。ウェハ１０に照射され、反射した光
は、ビームスプリッタ１２．結像レンズ１４．撮像レン
ズ１５を介して固体撮像索子１６上に像を結ぶ。

このようなグローバルアライメント光学系において位置
合せを行なうときは、先ずウェハ１０上のアライメント
マークをアライメント光学系の視野内に入る位置まで移
動させる。ここでの位置合せ精度は機械的なプリアライ
メント精度による。

また、ウェハ１０上のアライメントマークの形成領域は
、機械的なプリアライメントの位置合せ精度範囲より大
きくとってあり一辺または直径（本実施例ではアライメ
ントマークの形状が円形状であるため直径）が約４００
μｍ強である。そして、アライメント光学系の視野内に
入っているアライメントマークの像が固体撮像素子１６
から取込まれる。固体撮像素子１６より取込まれたアラ
イメントマークの像を画像処理して、この画像処理から
得られた画像データからアライメントマークの中心部の
位置情報を読取り、位置合せ中心が視野の中心近傍にく
るように位置合せする。ここで、視野中心近傍に細アラ
イメントマークがない場合、または位置合せ精度が足り
ない場合は、アライメントマークの像を固体撮像索子１
６から取込み、位置情報を読取り、その読取った位置情
報に基づき細アライメントマークが視野の中心近傍にく
るように位置合せするといった作業を繰返し行なう。

なお、ウェハ１０の位置合せはアライメントマクに細ア
ライメントマークが形成されているか否かにより位置合
せ制御に多少の違いがある。

第６図は細アライメントマークを有するアライメントマ
ークを用いて位置合せを行なうときのフロー図である。

先ず、視野内にウェハ上のアライメントマークが入るよ
うにウェハをセットしくステップＳ］）、視野にアライ
メントマークが入っているか否か判断する（ステップＳ
２）。視野内にアライメントマークが入っていないとき
は、視野に捕えられている粗アライメントマークの形状
から位置情報を読取り（ステップＳ３）、位置合せ中心
までの距離と方向を算出しくステップＳ４）、算出結果
に基づいてウェハを移動させて位置合せを行なう（ステ
ップＳ５）。ステップＳ５で位置合せを行なったら、ス
テップＳ２に戻る。上記ステップＳ２からステップＳ５
の操作を繰返し、ステップＳ２で視野内にアライメント
マクの中心が入っていると判断されると、ステップＳ６
に移行して必要な精度で位置合せが行われているか否か
判断される。精度が足りないと判断されると、視野内の
細アライメント形状から高精度な位置情報が読取られ（
ステップＳ７）、この読取った位置情報により位置合せ
中心までの距離と方向を算出しくステップＳ８）、この
算出結果に基づいてウェハを移動させる（ステップＳ９
）。

ウェハの移動が終了したら再びステップＳ６に戻る。必
要な精度が得られるまで上記ステップＳ６からステップ
Ｓ９までの操作を繰返し行なう。そして、ステップＳ６
で必要な精度で位置合せが行われていると判断されたな
らば位置合せを終了する。

第７図は細アライメントマークを持たないアライメント
マークを用いた場合の位置合せを行なうときのフロー図
である。先ず、視野内にウエノ１上のアライメントマー
クが入るようにウエノ＼をセットしくステップ５１１）
、セットが終了したら必要な精度で位置合せが行われて
いるか否か判断する（ステップ５１２）。精度が足りな
いと判断されたときは視野内のアライメントマークの形
状から位置情報を読取り（ステップ８１３）、位置合せ
中心までの距離と方向を算出しくステップ５１４）、こ
の算出結果に基づいてウエノ１を移動させる（ステップ
５１５）。上記ステップＳ１２からステップＳ１５まで
の操作を繰返すことによりステップＳ１２において必要
な精度で位置合せが行われていると判断されたときに位
置合せを終了する。

このように第１実施例によれば、細アライメントマーク
の周辺にアライメント光学系の視野よりも十分広い領域
にわたり、位置合せ中心部までの距離および方向を求め
ることのできる粗アライメントマークを配置したので、
粗アライメント光学系から細アライメント光学系へ切換
えることなく高精度な位置合せを容易に行なうことがで
き、しかも光学系の切替がないことから位置合せに要す
る時間を短縮することができ、さらにアライメント光学
系の構成を簡素化することができる。

第８図および第９図はアライメントマークの第２実施例
を示す図であり、第８図はマーク全体の形状を示す図で
あり、第９図は一軸について中心から端までの各線パタ
ーン幅および各線パターン間隔を示す図である。このア
ライメントマークは、位置合せ中心を原点としたＸＹ平
面上に、Ｘ軸。

Ｙ軸を基準として線対称な線パターンを形成している。

この線パターンは、Ｙ軸に平行な線パターンにＸ軸方向
の位置情報を持たせ、Ｘ軸に平行な線パターンにＹ軸方
向の位置情報を持たせている。

そのため、アライメントマークの中心であり、かつ、位
置合せの中心となる原点を直交するＸ軸。

Ｙ軸を比較的太い線で形成し、このＸ軸１　Ｙ軸に最も
近い位置の線ａから所定間隔離れた線ｄまでを細い線パ
ターンとし、線ｄからアライメントマ一りの外形線まで
を太い線パターン幅としている。

また、各軸から細い線ａまでの線パターン間隔を６０μ
ｍとし、線ａと線すとの間を５μｍとし、１１ｊｌｂか
ら線Ｃまでの各線パターン間隔を１０μ【ｎとし、線Ｃ
から線ｆまでの各線パターン間隔を１５μｍとし、線ｆ
からアライメントマークの外形線までの線パターン間隔
を２０μｍとしている。

すなわち、Ｘ、Ｙの二軸に近い位置にある線を細い線と
し、これらよりも遠い位置に線を太い線としている。ま
た、線パターン間隔は位置合せ中心に近いほど狭く、遠
くなるほど広くなるように配置されいる。なお、上記し
た線パターン間隔は、−辺が７０μｍの正方形の視野で
アライメントを行なうことを前提として設定している。

このようなアライメントマークを用いてアライメントを
行なうと、−辺が７０μｍの視野の中に線パターン間隔
または線パターン幅の変化する箇所が必ず一箇所は入っ
てくるので、任意の異なる座標で異なる情報を得ること
ができる。

すなわち、視野に入った線パターン間隔または線パータ
ン幅の変り目等を予め決められているアライメントマー
ク全体の形状に照らし合せることにより、Ｘ軸およびＹ
軸までの距離を求めることができ、その変り目の両側の
パターン配置がら中心方向を求めることができ、アライ
メントマークの中心位置に高精度かつ容易に位置合せを
行なうことができる。

第１０図および第１１図は第８図に示した第２実施例の
変形例を示す図である。本変形例も第２実施例と同様に
、Ｘ軸、Ｙ軸を対称に線パターンを所定の間隔で配列し
た例である。このアライメントパターンは、中心に近付
くにしたがって線パターン幅が狭くなり、がっ、線パタ
ーン間隔が狭くなる線パターンが形成されている。具体
的には、第１１図に示すように、軸方向に進むにしたが
い線パターン幅が４．８．１２μｍ・・・と太くなり、
線パターン間隔が３０．２６．２２μｍといった具合に
狭くなり、任意の線パターン幅とその線に隣接する線パ
ターン間隔との和が３０μｍになるように設定されてい
る。

このように本変形例に係るアライメントマークは、中心
軸およびその両隣の３つの線パターン幅だけが等しく、
中心軸から片側だけについて見ると、線パターン間隔お
よび線パターン幅はすべて異なっている。このため、−
辺が７０μｍの正方形をした視野で捕えると、二つ以上
の線パターンまたは線パターン間隔が見えるので、中心
までの距離および方向を求めることができる。

第１２図および第１３図はアライメントマークの第３実
施例を示す図であり、第１２図はアライメントマークの
全体の形状を示す図であり、第１３図は一軸についての
中心から端までを示している。このアライメントマーク
は位置合せの中心をＸＹ平而面原点におき、第１象限お
よび第■象限には、Ｙ軸に平行な線パターンを第１０図
および第１１図に示すアライメントマークと同様の線パ
ターン幅および線パターン間隔で配列し、第■象限およ
び第■象限には、Ｘ軸に平行の線パターンを第１および
第■象限同様の線パターン幅および線パターン間隔で配
列している。したがって、第１および第■象限の線パタ
ーンはＹ軸までの距離の情報を持っており、第■および
第■象限の線パターンはＸ軸までの距離の情報を持って
いる。

このアライメントマークを用いて位置合せを行なう場合
は、第１２図に示すアライメントマークの他に、このア
ライメントマークと鏡像関係にある他のアライメントマ
ークを同時に用いる。なお、二つのアライメントマーク
で対応する各象限は互いに異なる軸の情報を持つことに
なる。

このようなアライメントマークを用いて位置合せを行な
うには、先ずアライメント光学系の二つの視野Ｆに各別
に二つのアライメントマークを入れる。両方の視野Ｆに
同一象限の線パターンが入っている場合、互いに奇数象
限または偶数象限が入っている場合、または少なくとも
一方の視野ＦにＸ軸もしくはＹ軸が入っている場合には
、予めわかっているアライメントマーク全体の形状に照
らし合せることにより、各視野Ｆがらそれぞれ異なる軸
までの距離が求められる。また、その他の場合には、二
つの視野Ｆから同一の軸までの距離が求められ、その軸
の入る位置までウェハを移動させることにより、他の軸
までの距離情報が得られる。このようにして得られた二
軸の情報に基づいて位置合せを行なう。

上記した第３実施例によれば、四分割した一つの象限に
一つの軸に関する情報しか持たせていないので、マーク
形状を単純化することができ、したがって、一つのしく
についての演算処理でよいことから画像処理に要する時
間を短縮化でき、さらに各種の画像処理を容易に行なう
ことができる。

また、画像処理を行なって１８られる位置情報の精度を
向上させることができる。

第１４図〜第１６図は前記第３実施例の変形例を示す図
である。このアライメントマークは、ＸＹ平面上に第１
２図に示すアライメントマークと同様に各象限毎に一つ
の軸情報を持たせた線パターンを配置している。なお、
各線パターンは軸情報を持たない隣接する象限に一端部
をずれ込ませている。アライメントマーク中心部は、正
方形をした細アライメントマークが配置されている。

各象限における線パターンは、第１１図に示すように、
線パターン幅と線パターン間隔とを同じ幅にし、１．０
，１５．２０．２５．３０ａｍといった順序で中心軸（
Ｘ軸、Ｙ軸）から徐々に太くしている。なお、幅２０μ
ｍ以上に線は、例えばＹ軸に平行な線パターンであれば
Ｙ軸との対向側に、それぞれ４μｍの間隔をあけて４μ
ｍ幅の細い線パターンが設けられている。この細い線パ
ターンにより軸方向を検出できる。なお、図中破線で示
す正方形は、本変形例で用いられるアライメント光学系
の視野Ｆであり、−辺が７０　／／　ｍに設定されてい
る。

このアライメントマークも上記第３実施例と同様の効果
を得ることができる。

〔発明の効果〕

以上詳記したように本発明によれば、アライメント光学
系の視野よりも十分広い領域に細アライメントマークを
中心として位置合せ中心までの距離および方向を求める
ことのできる粗アライメン！・マークを配置したので、
アライメント光学系の切替を行なわずに細アライメント
光学系のみて高精度の位置合せを行なうことができ、し
かも光学系の切替を必要としないことから位置合せに要
する時間を短縮化でき、さらにアライメント光学系の構
成を簡素化することのできるアライメン！・マクを提供
できる。

また、細アライメントマークの周辺に會番台巻位置合せ
中心 を原点とする２軸のうちの少なくとも一つの軸までの距
離および方向を求めることのできる粗アライメントマー
クを配置したので、マーク形状を４１純化でき、従って
位置情報を得るための画像処理に要する時間を短縮化で
き、作業能率の向上を図り得ると共に、画像処理して得
られる位置情報の精度を向上させ得るアライメントマー
クを提供てきる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第１６図は本発明の実施例および変形例を示す
図で、第１図は本発明の概念図、第２図〜第７図は第１
実施例を示す図であり、第２図はアライメントマークの
形状を示す図、第３図（ａ）〜（ｄ）はアライメント光
学系の視野を示す図、第４図は第３図（ａ）に示す視野
の拡大図、第５図はグローバルアライメント光学系の構
成図、第６図および第７図は位置合せを行なうときのフ
ロ図、第８図および第９図は第２実施例を示す図であり
、第８図はアライメントマークの形状を示す図、第９図
はアライメントマークの具体的な線パターンを示す図、
第１０図および第１１図は第２実施例の変形例を示す図
であり、第１０図はアライメントマークの形状を示す図
、第１１図はアライメントマークの具体的な線パターン
を示す図、第１２図および第１３図は第３実施例を示す
図であり、第１２図はアライメントマークの形状を示す
図、第１３図はアライメントマークの具体的な線パター
ンを示す図、第１４図〜第１６図は第３実施例の変形例
を示す図で、第１４図はアライメントマークの形状を示
す図、第１５図はアライメントマークの具体的な線パタ
ーンを示す図、第１６図は細アライメントマークの形状
を示す図である。第１７図〜第１９図は従来の位置合せ
方法を示す図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）位置合せ中心部に位置合せを行なうための細アラ
   イメントマークを配置し、この細アライメントマークを
   中心としてアライメント光学系の視野よりも十分広い領
   域に、前記位置合せ中心部までの距離およびその中心部
   の方向を算定可能な情報を含む粗アライメントマークを
   配置してなるアライメントマーク。
2. （２）位置合せ中心部に位置合せを行なうための細アラ
   イメントマークを配置し、この細アライメントマークを
   中心としてアライメント光学系の視野よりも十分広い領
   域に、前記位置合せ中心を原点として直交する２軸のう
   ちの少なくとも一方の軸までの距離およびその軸の方向
   を算定可能な情報を含む粗アライメントマークを配置し
   てなるアライメントマーク。