CN111665690A - 一种对位标识、显示基板母板及对位方法 - Google Patents

一种对位标识、显示基板母板及对位方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111665690A
CN111665690A CN201910178193.2A CN201910178193A CN111665690A CN 111665690 A CN111665690 A CN 111665690A CN 201910178193 A CN201910178193 A CN 201910178193A CN 111665690 A CN111665690 A CN 111665690A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mark
sub
portions
alignment
same
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910178193.2A
Other languages
English (en)
Inventor
冯京
栾兴龙
刘鹏
王志冲
李付强
袁广才
董学
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201910178193.2A priority Critical patent/CN111665690A/zh
Publication of CN111665690A publication Critical patent/CN111665690A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073Alignment marks and their environment
    • G03F9/7076Mark details, e.g. phase grating mark, temporary mark
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073Alignment marks and their environment
    • G03F9/708Mark formation

Abstract

本发明公开了一种对位标识、显示基板母板及对位方法,通过将对位标识中相交于同一交点的标记部中的至少两条标记部进行分割,以使该标记部具有间隔排列的多个子标记部。这样可以使具有交点的标记部的边界增多,提高对位标识的识别能力。这样在对对位标识进行识别时,可以使识别得到的图像中的相交于同一交点的标记部的对比度和清晰度提高,以使获取到交点位置的准确性提高,进而提高对位精度。

Description

一种对位标识、显示基板母板及对位方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种对位标识、显示基板母板及对位方法。
背景技术
在平板显示器的制造过程中,通常会应用曝光、显影等工艺。其中,曝光机通过对基板上的对位标识进行识别,以控制基板进行对位,从而对基板的预定位置执行曝光。然而,当对位标识被较多膜层覆盖时,可能会导致曝光机识别出的对位标识不清楚,甚至识别不到对位标识,从而会影响基板的对位精准度,进而影响基板上预定位置的曝光效果。
发明内容
本发明实施例提供一种对位标识、显示基板母板及对位方法,用以提高对位标识的识别能力。
本发明实施例提供的对位标识,包括:条状设置的多条标记部;其中,至少两条所述标记部相交于同一交点;
所述相交于同一交点的标记部中的至少两条具有间隔排列的多个子标记部。
可选地,在本发明实施例中,覆盖所述交点的子标记部为第一子标记部,除所述交点处的子标记部之外的其余子标记部为第二子标记部,同一所述标记部中,所述第一子标记部的图形与所述第二子标记部的图形不同。
可选地,在本发明实施例中,同一所述标记部中,各所述第二子标记部沿所述标记部的延伸方向排列,且各所述第二子标记部的延伸方向与所述标记部的延伸方向具有大于0°且小于或等于90°的夹角。
可选地,在本发明实施例中,同一所述标记部中,各所述第二子标记部沿垂直于所述标记部的延伸方向排列,且各所述第二子标记部的延伸方向与所述标记部的延伸方向相同。
可选地,在本发明实施例中,所述标记部中覆盖同一交点的第一子标记部共用同一个子标记部。
可选地,在本发明实施例中,所述第一子标记部的尺寸大于所述第二子标记部的尺寸。
可选地,在本发明实施例中,各所述第二子标记部的图形相同。
可选地,在本发明实施例中,部分所述标记部相交于同一交点,其余所述标记部均匀分布于相邻的两个具有同一交点的标记部之间的间隙中。
可选地,在本发明实施例中,各所述标记部相交于同一交点。
可选地,在本发明实施例中,所述相交于同一交点的标记部中任意相邻的两条标记部之间的夹角相同。
可选地,在本发明实施例中,各所述标记部分别具有间隔排列的多个子标记部。
可选地,在本发明实施例中,各所述标记部由所述交点所在中心向四周呈放射状延伸。
相应地,本发明实施例还提供了一种显示基板母板,包括:非显示区和多个显示区;所述非显示区包括至少四个对位标识;其中,所述对位标识为上述对位标识。
可选地,在本发明实施例中,所述对位标识分别位于所述衬底基板的边角。
相应地,本发明实施例还提供了一种显示基板母板的对位方法,包括:
在所述显示基板母板的非显示区中形成至少四个对位标识;其中,所述对位标识为上述对位标识;
根据形成的所述对位标识,控制所述显示基板母板与曝光机的曝光系统进行对位。
本发明有益效果如下:
本发明实施例提供的对位标识、显示基板母板及对位方法,通过将对位标识中相交于同一交点的标记部中的至少两条标记部进行分割,以使该标记部具有间隔排列的多个子标记部。这样可以使具有交点的标记部的边界增多,提高对位标识的识别能力。这样在对对位标识进行识别时,可以使识别得到的图像中的相交于同一交点的标记部的对比度和清晰度提高,以使获取到交点位置的准确性提高,进而提高对位精度。
附图说明
图1a为相关技术中的对位标识的结构示意图之一;
图1b为相关技术中的对位标识的结构示意图之二;
图2a为本发明实施例提供的对位标识的结构示意图之一;
图2b为本发明实施例提供的对位标识的结构示意图之二;
图2c为本发明实施例提供的对位标识的结构示意图之三;
图3为本发明实施例提供的对位标识的结构示意图之四;
图4为本发明实施例提供的对位标识的结构示意图之五;
图5为本发明实施例提供的对位标识的结构示意图之六;
图6为本发明实施例提供的对位标识的结构示意图之七;
图7a为本发明实施例提供的对位标识的图片;
图7b为现有技术中的对位标识的图片;
图8为本发明实施例提供的显示基板母板的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的,技术方案和优点更加清楚,下面结合附图,对本发明实施例提供的对位标识、显示基板母板及对位方法的具体实施方式进行详细地说明。应当理解,下面所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。并且在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。需要注意的是,附图中各图形的形状和尺寸不反映真实比例,目的只是示意说明本发明内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
一般采用激光直接成像(Laser Direct Imaging,LDI)技术的曝光机对基板上的光刻胶进行曝光时,需要将基板与曝光机的激光头进行对位,以使激光头可以对需要曝光的位置进行曝光。一般在基板上设置如图1a所以的“十”字型结构的对位标识、如图1b所示的“米”字型结构的对位标识,以通过这些对位标识的交点确定对位点。然而,在对位标识被基板上的较多膜层覆盖时,可能会导致曝光机识别出的对位标识不清楚,甚至识别不到对位标识,从而会影响基板的对位精准度,进而影响基板上预定位置的曝光效果。
基于此,本发明实施例提供了一种对位标识,如图2a至图2c所示,可以包括:条状设置的多条标记部100_m(1≤m≤M,M代表标记部的总数,图2a以M=4为例,图2b和图2c以M=8为例);其中,至少两条标记部相交于同一交点;并且,相交于同一交点的标记部中的至少两条具有间隔排列的多个子标记部110。
本发明实施例提供的上述对位标识,通过将对位标识中相交于同一交点的标记部中的至少两条标记部进行分割,以使该标记部具有间隔排列的多个子标记部。这样可以使具有交点的标记部的边界增多,提高对位标识的识别能力。这样在对对位标识进行识别时,可以使识别得到的图像中的相交于同一交点的标记部的对比度和清晰度提高,以使获取到交点位置的准确性提高,进而提高对位精度。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图2a与图2b所示,可以使相交于同一交点的标记部中的全部标记部分别具有间隔排列的多个子标记部。或者,也可以使相交于同一交点的标记部中的两条、三条或四条等数量的标记部具有间隔排列的多个子标记部。当然,在实际应用中,具有间隔排列的多个子标记部的标记部的数量,可以根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图2a至图2c所示,可以使相交于同一交点的标记部中任意相邻的两条标记部之间的夹角相同。这样可以使相交于同一交点的标记部均匀设置。例如,如图2a和图2c所示,相交于同一交点的标记部为4条,其分别为标记部100_1~100_4,标记部100_1和100_2之间的夹角、标记部100_2和100_3之间的夹角、标记部100_3和100_4之间的夹角、标记部100_1和100_4之间的夹角均为直角,以使每个相邻两条标记部之间的夹角相同。这样可以使相交于同一交点的标记部形成“十”字型结构。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图2a所示,可以使各标记部100_m相交于同一交点。例如,对位标识具有4条标记部100_1~100_4,这4条标记部100_1~100_4可以均相交于同一交点,从而可以使对位标识的主体形成“十”字型结构。当然,对位标识也可以具有8条标记部,这8条标记部可以均相交于同一交点,并且,每相邻两条标记部之间的夹角可以为45°。这样可以使对位标识的主体形成“米”字型结构。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图2b与图2c所示,可以使部分标记部相交于同一交点,其余标记部均匀分布于相邻的两个具有同一交点的标记部之间的间隙中。例如,对位标识具有8条标记部100_1~100_8,其中,标记部100_1~100_4相交于同一交点,标记部100_5分布于标记部100_1和100_2之间的间隙中,标记部100_6分布于标记部100_2和100_3之间的间隙中,标记部100_7分布于标记部100_3和100_4之间的间隙中,标记部100_8分布于标记部100_4和100_1之间的间隙中,这样也可以形成“米”字型结构的对位标识。当然,设置在相邻的两个具有同一交点的标记部之间的间隙中标记部也可以为两条、三条等数值,这需要根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
进一步地,为了提高整个对位标识的识别能力,如图2a与图2c所示,可以使每一个标记部分别具有间隔排列的多个子标记部,以提高整个对位标识的识别能力。如图2a所示,可以使每个标识部100_1~100_4分别具有间隔排列的多个子标记部。如图2c所示,可以使每个标识部100_1~100_8分别具有间隔排列的多个子标记部。当然,也可以仅使相交于同一交点的标记部具有间隔排列的多个子标记部,而其余标识部不具有间隔排列的多个子标记部。例如,图2b所示,可以使标识部100_1~100_4分别具有间隔排列的多个子标记部。而标识部100_5~100_8不具有间隔排列的多个子标记部。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图2a至图2c所示,可以使各标记部由交点所在中心向四周呈放射状延伸。
需要说明的是,在本发明实施例中,每个标记部具有的子标记部的数量可以根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
在具体实施时,在本发明是实施例中,如图2a至图2c所示,覆盖交点的子标记部为第一子标记部110_a,除交点处的子标记部之外的其余子标记部为第二子标记部110_b。其中,每个相交于同一交点的标记部可以具有第一子标记部110_a和多个第二子标记部110_b。并且,同一标记部中,第一子标记部110_a的图形与第二子标记部110_b的图形不同。具体地,第一子标记部110_a的图形和第二子标记部110_b的图形可以分别从规则图形,例如正方形、长方形、圆形、菱形等图形中选取。或者,第一子标记部110_a的图形和第二子标记部110_b的图形也可以分别从不规则图形中选取,在此不作限定。或者,也可以使第一子标记部110_a的图形与第二子标记部110_b的图形相同。当然,在实际应用中,第一子标记部110_a的图形与第二子标记部110_b的图形可以根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
在具体实施时,在本发明是实施例中,如图2a至图2c所示,标记部中覆盖同一交点的第一子标记部110_a共用同一个子标记部。这样可以使相交于同一交点的标记部中的第一子标记部为同一个,例如,110_a可以即作为标记部100_1中的第一子标记部,又可以同时作为标记部100_2~100_4中的第一子标记部。
进一步地,可以使第一子标记部的尺寸大于第二子标记部的尺寸。这样可以采用第一子标记部作为起始点,以使标记部以第一子标记部的中心向四周呈放射状进行延伸。
在具体实施时,在本发明实施例中,可以使同一标记部中,各第二子标记部沿标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向具有90°的夹角。其中,可以使每一标记部中的各第二子标记部沿标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向具有90°的夹角,这样可以降低设计标记部的难度。例如,如图2a与图2c所示,以标记部100_3为例,在标记部100_3中,各第二子标记部110_b沿标记部100_3的延伸方向F1排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f1与标记部100_3的延伸方向F1具有90°的夹角,即第二子标记部110_b的延伸方向f1与标记部100_3的延伸方向F1垂直。以标记部100_2为例,在标记部100_2中,各第二子标记部110_b沿标记部100_2的延伸方向F2排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f2与标记部100_2的延伸方向F2具有90°的夹角,即第二子标记部110_b的延伸方向f2与标记部100_2的延伸方向F2垂直。其余同理,在此不作赘述。为了降低图形的制备难度,在相交于同一交点的标记部形成“十”字型结构时,可以使第一子标记部110_a设置为正方形,使第二子标记部110_b的图形为长方形。例如该正方形各边的边长可以为30μm,该长方形的长边的边长可以设置为30μm,短边的边长可以设置为3μm。当然,在实际应用中,第一子标记部110_a和第二子标记部110_b的各边的边长可以根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
在具体实施时,在本发明实施例中,可以使同一标记部中,各第二子标记部沿标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向具有大于0°且小于90°的夹角。其中,可以使各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向具有20°、30°、40°、50°、60°等数值的夹角。当然,在实际应用中,各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向的夹角的具体数值可以根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
在具体实施时,在本发明实施例中,针对于具有多个间隔排列的子标记部的所有标记部,可以使部分标记部中的各第二子标记部沿标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向具有大于0°且小于90°的夹角,其余部分标记部中的各第二子标记部沿标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向具有90°的夹角。例如,如图3所示,标记部110_1和110_3中的各第二子标记部110_b沿标记部的延伸方向F1排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f1与标记部的延伸方向F1具有大于0°且小于90°的夹角。标记部100_2和110_4中的各第二子标记部110_b沿标记部的延伸方向F2排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f2与标记部的延伸方向F2具有90°的夹角。
在具体实施时,针对于具有多个间隔排列的子标记部的所有标记部,在本发明实施例中,如图4所示,也可以使每一标记部中,各第二子标记部沿标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向具有大于0°且小于90°的夹角。例如,如图4所示,标记部110_1和110_3中的各第二子标记部110_b沿标记部的延伸方向F1排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f1与标记部的延伸方向F1具有大于0°且小于90°的夹角。标记部100_2和110_4中的各第二子标记部110_b沿标记部的延伸方向F2排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f2与标记部的延伸方向F2页可以具有大于0°且小于90°的夹角。
在具体实施时,针对于具有多个间隔排列的子标记部的所有标记部,在本发明实施例中,如图5所示,可以使同一标记部中,各第二子标记部沿垂直于标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向相同。例如,标记部100_2和100_4中,各第二子标记部110_b沿垂直于标记部的延伸方向F2排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f2与标记部的延伸方向F2相同。
在具体实施时,针对于具有多个间隔排列的子标记部的所有标记部,在本发明实施例中,可以使部分标记部中,各第二子标记部沿垂直于标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向相同。其余部分标记部中,各第二子标记部沿标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向具有大于0°且小于或等于90°的夹角。例如图5所示,标记部100_2和100_4中,各第二子标记部110_b沿垂直于标记部的延伸方向F2排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f2与标记部的延伸方向F2相同。标记部100_1和100_3中,各第二子标记部110_b沿标记部的延伸方向F1排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f1与标记部的延伸方向F1垂直。
当然,在具体实施时,针对于具有多个间隔排列的子标记部的所有标记部,在本发明实施例中,如图6所示,可以使每一标记部中,各第二子标记部沿垂直于标记部的延伸方向排列,且各第二子标记部的延伸方向与标记部的延伸方向相同。这样可以降低子标记部的设计难度。例如图6所示,标记部100_2和100_4中,各第二子标记部110_b沿垂直于标记部的延伸方向F2排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f2与标记部的延伸方向F2相同。标记部100_1和100_3中,各第二子标记部110_b沿垂直于标记部的延伸方向F1排列,且各第二子标记部110_b的延伸方向f1与标记部的延伸方向F1相同。
在具体实施时,在本发明实施例中,可以使各第二子标记部的图形相同。例如图2a所示,可以使每个第二子标记部110_b的图形均设置为相同的长方形。需要说明的是,本发明中的图形相同指的可以是:同一标记部中的第二子标记部通过平移可以重叠,不同标记部中的第二子标记部可以通过选择进行重叠。例如图2a所示,标记部100_1中的第二子标记部110_b可以通过平移进行重叠。标记部100_1中的第二子标记部110_b顺时针旋转90°后的图形与标记部100_2中的第二子标记部110_b重叠,其余同理,在此不作赘述。
需要说明的是,图3至图6仅是以相交于同一交点的标记部进行说明的,其余标记部的实施方式也可以参照图3至图6所示的实施方式,具体在此不作赘述。
并且,以对位标识中的各标记部分别具有间隔排列的多个子标记部为例,还获取本发明实施提供的对位标识和现有技术中的对位标识的图片。其中,图7a为本发明实施提供的对位标识的图片,图7b为现有技术中的对位标识的图片。通过图7a和图7b可以看出,本发明实施例提供的对位标识的清晰度更高。这样可以提高对位的精准度。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示基板母板,如图8所示,可以包括:非显示区BB和多个显示区AA;非显示区包括至少四个对位标识200;其中,对位标识为本发明实施例提供的上述任一对位标识。该显示基板母板解决问题的原理与前述对位标识相似,因此该显示基板母板的实施可以参见前述对位标识的实施,重复之处在此不再赘述。
在具体实施时,在本发明实施例中,可以在显示基板母板上设置4个对位标识。或者,也可以在显示基板母板上设置5、6、7、8等数量个对位标识,这需要根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
在具体实施时,在本发明实施例中,如图8所示,对位标识分别位于衬底基板的边角。例如,对位标识分别位于衬底基板的一个边角上。
在具体实施时,在本发明实施例中,位于衬底基板母板上的对位标识的尺寸可以设置为1000μm。当然,不同制备工艺中所需对位标识的尺寸不同,因此对位标识的尺寸可以根据实际应用环境来设计确定,在此不作限定。
在实际应用中,在将显示基板母板制备完成后,还会对显示基板母板进行切割,以将非显示区BB切割去除,剩余显示区AA中的部分。从而根据显示区AA中的部分形成显示面板。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示基板母板的对位方法,可以包括如下步骤:
在显示基板母板的非显示区中形成至少四个对位标识;其中,对位标识为本发明实施例提供的上述任一对位标识;
根据形成的对位标识,控制显示基板母板与曝光机的曝光系统进行对位。
在具体实施时,在本发明实施例中,根据形成的对位标识,控制显示基板母板与曝光机的曝光系统进行对位,具体可以包括:通过CCD成像系统获取静态每个对位标识的图像,根据图像中对位标识的交点,控制显示基板母板与曝光机的曝光系统进行对位。由于本发明实施例提供的对位标识中相交于同一交点的标记部中的至少两条标记部进行分割,以使具有交点的标记部的边界增多,这样在获取到的对位标识的图像中,相交于同一交点的标记部的对比度和清晰度提高,以使获取到交点位置的准确性提高,进而在进行对位时可以提高对位精度。
本发明实施例提供的对位标识、显示基板母板及对位方法,通过将对位标识中相交于同一交点的标记部中的至少两条标记部进行分割,以使该标记部具有间隔排列的多个子标记部。这样可以使具有交点的标记部的边界增多,提高对位标识的识别能力。这样在对对位标识进行识别时,可以使识别得到的图像中的相交于同一交点的标记部的对比度和清晰度提高,以使获取到交点位置的准确性提高,进而提高对位精度。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (15)

1.一种对位标识,其特征在于,包括:条状设置的多条标记部;其中,至少两条所述标记部相交于同一交点;
所述相交于同一交点的标记部中的至少两条具有间隔排列的多个子标记部。
2.如权利要求1所述的对位标识,其特征在于,覆盖所述交点的子标记部为第一子标记部,除所述交点处的子标记部之外的其余子标记部为第二子标记部,同一所述标记部中,所述第一子标记部的图形与所述第二子标记部的图形不同。
3.如权利要求2所述的对位标识,其特征在于,同一所述标记部中,各所述第二子标记部沿所述标记部的延伸方向排列,且各所述第二子标记部的延伸方向与所述标记部的延伸方向具有大于0°且小于或等于90°的夹角。
4.如权利要求2所述的对位标识,其特征在于,同一所述标记部中,各所述第二子标记部沿垂直于所述标记部的延伸方向排列,且各所述第二子标记部的延伸方向与所述标记部的延伸方向相同。
5.如权利要求2所述的对位标识,其特征在于,所述标记部中覆盖同一交点的第一子标记部共用同一个子标记部。
6.如权利要求5所述的对位标识,其特征在于,所述第一子标记部的尺寸大于所述第二子标记部的尺寸。
7.如权利要求2所述的对位标识,其特征在于,各所述第二子标记部的图形相同。
8.如权利要求1-7任一项所述的对位标识,其特征在于,部分所述标记部相交于同一交点,其余所述标记部均匀分布于相邻的两个具有同一交点的标记部之间的间隙中。
9.如权利要求1-7任一项所述的对位标识,其特征在于,各所述标记部相交于同一交点。
10.如权利要求1-7任一项所述的对位标识,其特征在于,所述相交于同一交点的标记部中任意相邻的两条标记部之间的夹角相同。
11.如权利要求1-7任一项所述的对位标识,其特征在于,各所述标记部分别具有间隔排列的多个子标记部。
12.如权利要求1-7任一项所述的对位标识,其特征在于,各所述标记部由所述交点所在中心向四周呈放射状延伸。
13.一种显示基板母板,其特征在于,包括:非显示区和多个显示区;所述非显示区包括至少四个对位标识;其中,所述对位标识为如权利要求1-12任一项所述的对位标识。
14.如权利要求13所述的显示基板母板,其特征在于,所述对位标识分别位于所述衬底基板的边角。
15.一种显示基板母板的对位方法,其特征在于,包括:
在所述显示基板母板的非显示区中形成至少四个对位标识;其中,所述对位标识为如权利要求1-12任一项所述的对位标识;
根据形成的所述对位标识,控制所述显示基板母板与曝光机的曝光系统进行对位。
CN201910178193.2A 2019-03-08 2019-03-08 一种对位标识、显示基板母板及对位方法 Pending CN111665690A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910178193.2A CN111665690A (zh) 2019-03-08 2019-03-08 一种对位标识、显示基板母板及对位方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910178193.2A CN111665690A (zh) 2019-03-08 2019-03-08 一种对位标识、显示基板母板及对位方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111665690A true CN111665690A (zh) 2020-09-15

Family

ID=72381685

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910178193.2A Pending CN111665690A (zh) 2019-03-08 2019-03-08 一种对位标识、显示基板母板及对位方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111665690A (zh)

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04333213A (ja) * 1991-05-08 1992-11-20 Olympus Optical Co Ltd アライメントマーク
JPH096016A (ja) * 1995-06-22 1997-01-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板およびその位置合わせ方法
US20050069790A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Stefan Gruss Method for reducing an overlay error and measurement mark for carrying out the same
US20070048629A1 (en) * 2005-09-01 2007-03-01 Sajan Marokkey Overlay target for polarized light lithography
US20070146587A1 (en) * 2005-12-23 2007-06-28 Innolux Display Corp. Liquid crystal display with positional marks
CN102004347A (zh) * 2009-09-02 2011-04-06 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶显示器及基板
CN102087488A (zh) * 2009-12-04 2011-06-08 台湾积体电路制造股份有限公司 具有对准标记的装置及用于制作半导体组件的方法
CN102692831A (zh) * 2012-05-28 2012-09-26 京东方科技集团股份有限公司 对位标识及在曝光工艺中采用该对位标识制作工件的方法
JP2015075347A (ja) * 2013-10-07 2015-04-20 株式会社ディスコ アライメント方法
CN106707682A (zh) * 2017-01-05 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法
CN106773525A (zh) * 2017-03-01 2017-05-31 合肥京东方光电科技有限公司 掩模板、对位方法、显示面板、显示装置及其对盒方法
CN106842838A (zh) * 2017-04-19 2017-06-13 武汉华星光电技术有限公司 对位标记及基板对位方法
JP2018066798A (ja) * 2016-10-18 2018-04-26 株式会社フジクラ アライメントマーク、アライメントマーク対、及びアライメント方法

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04333213A (ja) * 1991-05-08 1992-11-20 Olympus Optical Co Ltd アライメントマーク
JPH096016A (ja) * 1995-06-22 1997-01-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板およびその位置合わせ方法
US20050069790A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Stefan Gruss Method for reducing an overlay error and measurement mark for carrying out the same
US20070048629A1 (en) * 2005-09-01 2007-03-01 Sajan Marokkey Overlay target for polarized light lithography
US20070146587A1 (en) * 2005-12-23 2007-06-28 Innolux Display Corp. Liquid crystal display with positional marks
CN102004347A (zh) * 2009-09-02 2011-04-06 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶显示器及基板
CN102087488A (zh) * 2009-12-04 2011-06-08 台湾积体电路制造股份有限公司 具有对准标记的装置及用于制作半导体组件的方法
CN102692831A (zh) * 2012-05-28 2012-09-26 京东方科技集团股份有限公司 对位标识及在曝光工艺中采用该对位标识制作工件的方法
JP2015075347A (ja) * 2013-10-07 2015-04-20 株式会社ディスコ アライメント方法
JP2018066798A (ja) * 2016-10-18 2018-04-26 株式会社フジクラ アライメントマーク、アライメントマーク対、及びアライメント方法
CN106707682A (zh) * 2017-01-05 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法
CN106773525A (zh) * 2017-03-01 2017-05-31 合肥京东方光电科技有限公司 掩模板、对位方法、显示面板、显示装置及其对盒方法
CN106842838A (zh) * 2017-04-19 2017-06-13 武汉华星光电技术有限公司 对位标记及基板对位方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105301678B (zh) 柱状透镜片、显示装置及电子设备
TW201437738A (zh) 光罩及其製造方法以及半導體裝置
US11227839B2 (en) Display substrate motherboard and method for manufacturing the same
CN102645855A (zh) 增强型全局对准标记和光刻版图
CN111665690A (zh) 一种对位标识、显示基板母板及对位方法
US8513822B1 (en) Thin overlay mark for imaging based metrology
KR930002676B1 (ko) 기판위에 규칙적으로 배열된 동일 패턴들을 제조하기 위한 스텝-앤-리피트 공정에 사용된 패턴 데이타 검증용 장치
CN105182681B (zh) 一种掩模板及在同一硅片上加工多种深度结构的方法
US6389680B1 (en) Method of manufacturing electronic component
CN110568646A (zh) 显示面板及其制作方法
JP3580992B2 (ja) フォトマスク
CN113419485A (zh) 定位打孔方法、设备、存储介质及装置
CN113782545B (zh) 阵列基板及显示面板
CN220693511U (zh) 一种用于封装电子元器件的管壳及激光雷达
JP2015206927A (ja) フォトマスク及び半導体装置の製造方法
CN117631437B (zh) 一种半导体晶圆的对位标记的摆放方法
CN104849970A (zh) 用于背面光刻工艺的对准标记及其对准方法
WO2024026906A1 (zh) 一种封装极性标识设计方法、系统、电子设备和存储介质
CN116643436A (zh) 显示屏及切割方法
CN111579220B (zh) 一种分辨率板
CN215642144U (zh) 初始显示基板、初始显示面板、显示面板
JP5933180B2 (ja) 基板とマスクの位置合わせ構造
KR102617622B1 (ko) 오버레이 마크 및 이를 이용한 오버레이 계측방법 및 반도체 디바이스 제조방법
CN113408120B (zh) 标记位置设定方法及装置
CN219397630U (zh) 靶标和位姿追踪系统

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200915