CN106842838A - 对位标记及基板对位方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种对位标记及基板对位方法。所述对位标记包括：条状的主对位标记、以及与所述主对位标记垂直相交的多个条状的辅助对位标记，所述多个辅助对位标记包括：一第一辅助对位标记、至少两个宽度不同的第二辅助对位标记、以及至少两个宽度不同的第三辅助对位标记，所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记相对于主对位标记的位置不同，在基板对位时，可通过任意一个辅助对位标记与主对位标记的交汇区域的中心点坐标求出对位标记整体的中心点坐标，以完成对位标记中心点的定位，能够在对位镜头的视野不变的情况下，增大对位标记的可检测范围，减少基板对位时间，提升基板对位效率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种对位标记及基板对位方法。
背景技术
随着显示技术的发展，平板显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display，LCD)及有机发光二极管显示器件(Organic Light EmittingDisplay，OLED)。
液晶显示器件和有机发光二极管显示器件的制作过程都包括多个光刻制程以及检测制程，而在执行光刻制程以及一些检测制程之前，都必须先使基板对位到正确的位置，以保证曝光或检测的准确性。而对位标记(Mark)便是用来支持基板对位操作的，对于精度较高的对位往往还分为粗对位和细对位两个步骤，其中在细对位标记正常的情况下，粗对位正常进行后切换高倍率镜头进行细对位都能顺利进行。
如图1所示，在基板粗对位的过程中，基板100上的四角分设有四个对位标记200，所述对位标记200的呈十字形，对位时将对位机台的对位镜头300移动到相应的对位位置，使得对位标记200出现在对位镜头300的视野范围内，再将十字形的中心点调整到对位的中心位置，以完成对位。在上述粗对位的过程中对位镜头视野范围很小，通常为1mm×1mm，稍有偏差就会出现对位镜头300移动到相应的对位位置后，对位镜头300的视野范围内没有对位标记200的情况，此时需要让对位镜头300在周围移动搜索以寻找到对位标记200才能完成定位，造成对位时间增加，生产效率降低。
因此，如何在现有的设备和光学系统不改变(即镜头的视野范围不变)的情况下，增大粗对位标记的可侦测范围成为了一个厄待解决的问题，特别是在有源有机发光二极管显示器件(Active Matrix Organic Light Emitting Display，AMOLED)的触控面板(TouchPanel)的半板制程中，由于基板的位置精度控制困难，使得这个问题更加重要。
发明内容
本发明的目的在于提供一种对位标记，能增大对位标记的可检测范围，减少基板对位时间，提升基板对位效率。
本发明的目的还在于提供一种基板对位方法，能增大对位标记的可检测范围，减少基板对位时间，提升基板对位效率。
为实现上述目的，本发明提供了一种对位标记，包括：条状的主对位标记、以及与所述主对位标记垂直相交的多个条状的辅助对位标记；
所述多个辅助对位标记沿所述主对位标记的延伸方向间隔排列；
所述多个辅助对位标记包括：一与所述主对位标记的中点垂直相交的第一辅助对位标记、与所述主对位标记垂直相交的至少两个第二辅助对位标记和至少两个第三辅助对位标记，所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记分别设置在所述第一辅助对位标记的两侧；
各个第二辅助对位标记的宽度不同，每一个第二辅助对位标记位于所述主对位标记的上方的部分长度均大于其位于所述主对位标记的下方的部分长度；
各个第三辅助对位标记的宽度不同，每一个第三辅助对位标记位于所述主对位标记的上方的部分长度均小于其位于所述主对位标记的下方的部分长度；
所述第一辅助对位标记位于所述主对位标记的上方的部分长度等于其位于所述主对位标记的下方的部分长度。
所述第二辅助对位标记的宽度和第三辅助对位标记的宽度随着其距离所述主对位标记的中点的增大而增大。
所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记的数量均为两个。
所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记的宽度均大于所述第一辅助对位标记的宽度。
相邻的两个辅助对位标记之间的距离相等。
本发明还提供一种基板对位方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板，在所述基板上形成一对位标记，所述对位标记包括：条状的主对位标记、以及与所述主对位标记垂直相交的多个条状的辅助对位标记；
所述多个辅助对位标记沿所述主对位标记的延伸方向间隔排列；
所述多个辅助对位标记包括：一与所述主对位标记的中点垂直相交的第一辅助对位标记、与所述主对位标记垂直相交的至少两个第二辅助对位标记和至少两个第三辅助对位标记，所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记分别设置在所述第一辅助对位标记的两侧；
各个第二辅助对位标记的宽度不同，每一个第二辅助对位标记位于所述主对位标记的上方的部分长度均大于其位于所述主对位标记的下方的部分长度；
各个第三辅助对位标记的宽度不同，每一个第三辅助对位标记位于所述主对位标记的上方的部分长度均小于其位于所述主对位标记的下方的部分长度；
所述第一辅助对位标记位于所述主对位标记的上方的部分长度等于其位于所述主对位标记的下方的部分长度；
步骤S2、记录每一个第二辅助对位标记的宽度和其距离所述主对位标记的中点的距离、以及每一个第三辅助对位标记的宽度和其距离所述主对位标记的中点的距离；
步骤S3、提供一对位机台，所述对位机台包括对位镜头，将所述对位镜头移动到预设的对位位置，使得所述对位镜头的视野范围内出现一个辅助对位标记，记录该辅助对位标记与主对位标记的交汇的区域的中心点的坐标；
步骤S4、比较所述对位镜头的视野中的辅助对位标记位于所述主对位标记的上方的部分长度及其位于所述主对位标记的下方的部分长度的大小，根据比较结果确定该辅助对位标记的种类；
当该辅助对位标记为第二辅助对位标记或第三辅助对位标记时，则进入步骤S5；
当该辅助对位标记为第一辅助对位标记时，则以该辅助对位标记与主对位标记的交汇的区域的中心点的坐标作为对位标记的中心点的坐标完成基板的对位；
步骤S5、测量该辅助对位标记的宽度，根据该辅助对位标记的宽度确定其距离主对位标记的中点的距离；根据该辅助对位标记的种类、该辅助对位标记距离主对位标记的中点的距离、以及该辅助对位标记与主对位标记的交汇的区域的中心点的坐标求出所述对位标记的中心点的坐标，根据对位标记的中心点的坐标完成基板的对位。
所述第二辅助对位标记的宽度和第三辅助对位标记的宽度随着其距离所述主对位标记的中点的距离的增大而增大。
所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记的数量均为两个。
所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记的宽度均大于所述第一辅助对位标记的宽度。
相邻的两个辅助对位标记之间的距离相等。
本发明的有益效果：本发明提供一种对位标记，包括：条状的主对位标记、以及与所述主对位标记垂直相交的多个条状的辅助对位标记；所述多个辅助对位标记沿所述主对位标记的延伸方向间隔排列，所述多个辅助对位标记包括：一与所述主对位标记的中点垂直相交的第一辅助对位标记、与所述主对位标记垂直相交的至少两个第二辅助对位标记和至少两个第三辅助对位标记，所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记分别设置在所述第一辅助对位标记的两侧，所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记相对于主对位标记的位置不同，在基板对位时，可通过任意一个辅助对位标记与主对位标记的交汇区域的中心点坐标求出对位标记整体的中心点坐标，以完成对位标记中心点的定位，能够在对位镜头的视野不变的情况下，增大对位标记的可检测范围，减少基板对位时间，提升基板对位效率。本发明还提供一种基板对位方法，增大对位标记的可检测范围，减少基板对位时间，提升基板对位效率。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的基板对位过程示意图；
图2为本发明的对位标记的示意图；
图3为本发明的基板对位方法步骤S3的示意图；
图4为本发明的基板对位方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2，本发明提供一种对位标记，包括：条状的主对位标记11、以及与所述主对位标记11垂直相交的多个条状的辅助对位标记12；
所述多个辅助对位标记12沿所述主对位标记11的延伸方向间隔排列；所述多个辅助对位标记12包括：一与所述主对位标记11的中点垂直相交的第一辅助对位标记121、与所述主对位标记11垂直相交的至少两个第二辅助对位标记122和至少两个第三辅助对位标记123，所述第二辅助对位标记122和第三辅助对位标记123分别设置在所述第一辅助对位标记121的两侧；各个第二辅助对位标记122的宽度不同，每一个第二辅助对位标记122位于所述主对位标记11的上方的部分长度均大于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度；各个第三辅助对位标记123的宽度不同，每一个第三辅助对位标记123位于所述主对位标记11的上方的部分长度均小于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度；所述第一辅助对位标记121位于所述主对位标记11的上方的部分长度等于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度。
优选地，如图2所示，所述第二辅助对位标记122的宽度和第三辅助对位标记123的宽度随着其距离所述主对位标记11的中点的距离的增大而增大。
具体地，所述第二辅助对位标记122和第三辅助对位标记123的宽度均大于所述第一辅助对位标记121的宽度。
具体地，如图2所示，所述第二辅助对位标记122和第三辅助对位标记123的数量均为两个，优选地，其中第一辅助对位标记121的宽度为X，靠近所述第一辅助对位标记121的一第二辅助对位标记122和一第三辅助对位标记123的宽度为1.1X，远离所述第一辅助对位标记121的一第二辅助对位标记122和一第三辅助对位标记123为1.2X，所述第二辅助对位标记122位于所述主对位标记11的上方的部分长度为4Y，所述第二辅助对位标记122位于所述主对位标记11的下方的部分长度为3Y，所述第三辅助对位标记123位于所述主对位标记11的上方的部分长度为3Y，所述第三辅助对位标记123位于所述主对位标记11的下方的部分长度为4Y。
具体地，相邻的两个辅助对位标记12之间的距离相等，所述相邻的两个辅助对位标记12之间的距离为相邻的两个辅助对位标记12的竖直中心线之间的距离，具体如图3所示，相邻的两个辅助对位标记12之间距离均为a，优选地，所述相邻的两个辅助对位标记12之间距离为0.5mm。
值得一提的是，本发明的对位标记可应用于各种需要进行基板对位的场景，尤其可应用于AMOLED的触控面板的半板制程中。
需要说明的是，请参阅图3，利用本发明的对比标记的进行基板对位的过程为：首先，在基板上制作上述的对位标记，随后将对位机台的对位镜头移动到相应的对位位置，此时在对位镜头的视野范围内将会出现一个辅助对位标记12，由于对位镜头的视野范围的限制，所述对位镜头的视野范围也仅能出现一个辅助对位标记12，此时首先比较该辅助对位标记12相对于主对位标记11的位置，也即比较辅助对位标记12位于所述主对位标记11的上方的部分长度及其位于所述主对位标记11的下方的部分长度的大小，当所述辅助对位标记12位于所述主对位标记11的上方的部分长度大于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度，则确定该辅助对位标记12为第二辅助对位标记122，当所述辅助对位标记12位于所述主对位标记11的上方的部分长度小于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度，则确定该辅助对位标记12为第三辅助对位标记123，当所述辅助对位标记12位于所述主对位标记11的上方的部分长度等于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度，则确定该辅助对位标记12为第一辅助对位标记121，若对位镜头的视野范围的辅助对位标记12为第一辅助对位标记121，则记录该辅助对位标记12与主对位标记11的交汇区域的中心点的坐标，该坐标即为整个对位标记的中心点的坐标，若对位镜头的视野范围内的辅助对位标记12为第三辅助对位标记123、或第二辅助对位标记122，则记录该辅助对位标记12与主对位标记11的交汇区域的中心点的坐标，同时继续测量该辅助对位标记12的宽度，并根据其宽度确定其与第一辅助对位标记121之间的距离，进而计算得出整个对位标记的中心点的坐标，具体为若该辅助对位标记12与主对位标记11的交汇区域的中心点的坐标(p，q)，则整个对位标记的中心点的坐标为(p+k，q)或(p-k，q)，其中，所述k为该辅助对位标记12距离第一辅助对位标记121的距离，当所述辅助对位标记12为第三辅助对位标记123时，则整个对位标记的中心点的坐标为(p-k，q)，当所述辅助对位标记12为第二辅助对位标记122时，则整个对位标记的中心点的坐标为(p+k，q)。
进一步地，所述辅助对位标记12距离第一辅助对位标记121的距离可根据相邻的两个辅助对位标记12之间距离确定，例如：当确定对位镜头的视野范围的辅助对位标记12为第三辅助对位标记123，且该第三辅助对位标记123的宽度为1.2x时，则可以确定该第三辅助对位标记123距离第一辅助对位标记121的距离k为2a。
请参阅图4，本发明还提供一种基板对位方法，包括如下步骤：
步骤S1、请参阅图3，提供一基板，在所述基板上形成一对位标记2，所述对位标记2包括：条状的主对位标记11、以及与所述主对位标记11垂直相交的多个条状的辅助对位标记12；所述多个辅助对位标记12沿所述主对位标记11的延伸方向间隔排列；所述多个辅助对位标记12包括：一与所述主对位标记11的中点垂直相交的第一辅助对位标记121、与所述主对位标记11垂直相交的至少两个第二辅助对位标记122和至少两个第三辅助对位标记123，所述第二辅助对位标记122和第三辅助对位标记123分别设置在所述第一辅助对位标记121的两侧；各个第二辅助对位标记122的宽度不同，每一个第二辅助对位标记122位于所述主对位标记11的上方的部分长度均大于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度；各个第三辅助对位标记123的宽度不同，每一个第三辅助对位标记123位于所述主对位标记11的上方的部分长度均小于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度；所述第一辅助对位标记121位于所述主对位标记11的上方的部分长度等于其位于所述主对位标记11的下方的部分长度。
优选地，如图3所示，所述第二辅助对位标记122的宽度和第三辅助对位标记123的宽度随着其距离所述主对位标记11的中点的距离的增大而增大。
具体地，所述第二辅助对位标记122和第三辅助对位标记123的宽度均大于所述第一辅助对位标记121的宽度。
具体地，如图3所示，所述第二辅助对位标记122和第三辅助对位标记123的数量均为两个，优选地，其中第一辅助对位标记121的宽度为X，靠近所述第一辅助对位标记121的一第二辅助对位标记122和一第三辅助对位标记123的宽度为1.1X，远离所述第一辅助对位标记121的一第二辅助对位标记122和一第三辅助对位标记123为1.2X，所述第二辅助对位标记122位于所述主对位标记11的上方的部分长度为4Y，所述第二辅助对位标记122位于所述主对位标记11的下方的部分长度为3Y，所述第三辅助对位标记123位于所述主对位标记11的上方的部分长度为3Y，所述第三辅助对位标记123位于所述主对位标记11的下方的部分长度为4Y。
具体地，相邻的两个辅助对位标记12之间的距离相等，所述相邻的两个辅助对位标记12之间的距离为相邻的两个辅助对位标记12的竖直中心线之间的距离，具体如图3所示，相邻的两个辅助对位标记12之间距离均为a，优选地，所述相邻的两个辅助对位标记12之间距离为0.5mm。
步骤S2、记录每一个第二辅助对位标记122的宽度和其距离所述主对位标记11的中点的距离、以及每一个第三辅助对位标记123的宽度和其距离所述主对位标记11的中点的距离。
具体地，所述辅助对位标记12距离第一辅助对位标记121的距离可根据相邻的两个辅助对位标记12之间距离确定，例如：当确定对位镜头的视野范围的辅助对位标记12为第三辅助对位标记123，且该第三辅助对位标记123的宽度为1.2x时，则可以确定该第三辅助对位标记123距离第一辅助对位标记121的距离k为2a。
步骤S3、提供一对位机台，所述对位机台包括对位镜头3，将所述对位镜头3移动到预设的对位位置。
优选地，所述对位镜头3的视野范围能且仅能容纳一个辅助对位标记12。
步骤S4、比较所述对位镜头3的视野中的辅助对位标记12位于所述主对位标记11的上方的部分长度及其位于所述主对位标记11的下方的部分长度的大小，根据比较结果确定该辅助对位标记12的种类；
当该辅助对位标记12为第二辅助对位标记122或第三辅助对位标记123时，则进入步骤S5；
当该辅助对位标记12为第一辅助对位标记121时，则以该辅助对位标记12与主对位标记11的交汇的区域的中心点的坐标作为对位标记2的中心点的坐标完成基板的对位；
步骤S5、测量该辅助对位标记12的宽度，根据该辅助对位标记12的宽度确定其距离主对位标记11的中点的距离；
根据该辅助对位标记12的种类、该辅助对位标记12距离主对位标记11的中点的距离、以及该辅助对位标记12与主对位标记11的交汇的区域的中心点的坐标求出对位标记2的中心点的坐标，根据对位标记2的中心点的坐标完成基板的对位。
综上所述，本发明提供一种对位标记，包括：条状的主对位标记、以及与所述主对位标记垂直相交的多个条状的辅助对位标记；所述多个辅助对位标记沿所述主对位标记的延伸方向间隔排列，所述多个辅助对位标记包括：一与所述主对位标记的中点垂直相交的第一辅助对位标记、与所述主对位标记垂直相交的至少两个第二辅助对位标记和至少两个第三辅助对位标记，所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记分别设置在所述第一辅助对位标记的两侧，所述第二辅助对位标记和第三辅助对位标记相对于主对位标记的位置不同，在基板对位时，可通过任意一个辅助对位标记与主对位标记的交汇区域的中心点坐标求出对位标记整体的中心点坐标，以完成对位标记中心点的定位，能够在对位镜头的视野不变的情况下，增大对位标记的可检测范围，减少基板对位时间，提升基板对位效率。本发明还提供一种基板对位方法，增大对位标记的可检测范围，减少基板对位时间，提升基板对位效率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种对位标记，其特征在于，包括：条状的主对位标记(11)、以及与所述主对位标记(11)垂直相交的多个条状的辅助对位标记(12)；
所述多个辅助对位标记(12)沿所述主对位标记(11)的延伸方向间隔排列；
所述多个辅助对位标记(12)包括：一与所述主对位标记(11)的中点垂直相交的第一辅助对位标记(121)、与所述主对位标记(11)垂直相交的至少两个第二辅助对位标记(122)和至少两个第三辅助对位标记(123)，所述第二辅助对位标记(122)和第三辅助对位标记(123)分别设置在所述第一辅助对位标记(121)的两侧；
各个第二辅助对位标记(122)的宽度不同，每一个第二辅助对位标记(122)位于所述主对位标记(11)的上方的部分长度均大于其位于所述主对位标记(11)的下方的部分长度；
各个第三辅助对位标记(123)的宽度不同，每一个第三辅助对位标记(123)位于所述主对位标记(11)的上方的部分长度均小于其位于所述主对位标记(11)的下方的部分长度；
所述第一辅助对位标记(121)位于所述主对位标记(11)的上方的部分长度等于其位于所述主对位标记(11)的下方的部分长度。
2.如权利要求1所述的对位标记，其特征在于，所述第二辅助对位标记(122)的宽度和第三辅助对位标记(123)的宽度随着其距离所述主对位标记(11)的中点的距离的增大而增大。
3.如权利要求1所述的对位标记，其特征在于，所述第二辅助对位标记(122)和第三辅助对位标记(123)的数量均为两个。
4.如权利要求1所述的对位标记，其特征在于，所述第二辅助对位标记(122)和第三辅助对位标记(123)的宽度均大于所述第一辅助对位标记(121)的宽度。
5.如权利要求1所述的对位标记，其特征在于，相邻的两个辅助对位标记(12)之间的距离相等。
6.一种基板对位方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板(1)，在所述基板(1)上形成一对位标记(2)，所述对位标记(2)包括：条状的主对位标记(11)、以及与所述主对位标记(11)垂直相交的多个条状的辅助对位标记(12)；
所述多个辅助对位标记(12)沿所主对位标记(11)的延伸方向间隔排列；
所述多个辅助对位标记(12)包括：一与所述主对位标记(11)的中点垂直相交的第一辅助对位标记(121)、与所述主对位标记(11)垂直相交的至少两个第二辅助对位标记(122)和至少两个第三辅助对位标记(123)，所述第二辅助对位标记(122)和第三辅助对位标记(123)分别设置在所述第一辅助对位标记(121)的两侧；
各个第二辅助对位标记(122)的宽度不同，每一个第二辅助对位标记(122)位于所述主对位标记(11)的上方的部分长度均大于其位于所述主对位标记(11)的下方的部分长度；
各个第三辅助对位标记(123)的宽度不同，每一个第三辅助对位标记(123)位于所述主对位标记(11)的上方的部分长度均小于其位于所述主对位标记(11)的下方的部分长度；
所述第一辅助对位标记(121)位于所述主对位标记(11)的上方的部分长度等于其位于所述主对位标记(11)的下方的部分长度；
步骤S2、记录每一个第二辅助对位标记(122)的宽度和其距离所述主对位标记(11)的中点的距离、以及每一个第三辅助对位标记(123)的宽度和其距离所述主对位标记(11)的中点的距离；
步骤S3、提供一对位机台，所述对位机台包括对位镜头(3)，将所述对位镜头(3)移动到预设的对位位置，使得所述对位镜头(3)的视野范围内出现一个辅助对位标记(12)，记录该辅助对位标记(12)与主对位标记(11)的交汇的区域的中心点的坐标；
步骤S4、比较所述对位镜头(3)的视野中的辅助对位标记(12)位于所述主对位标记(11)的上方的部分长度及其位于所述主对位标记(11)的下方的部分长度的大小，根据比较结果确定该辅助对位标记(12)的种类；
当该辅助对位标记(12)为第二辅助对位标记(122)或第三辅助对位标记(123)时，则进入步骤S5；
当该辅助对位标记(12)为第一辅助对位标记(121)时，则以该辅助对位标记(12)与主对位标记(11)的交汇的区域的中心点的坐标作为对位标记(2)的中心点的坐标完成基板的对位；
步骤S5、测量该辅助对位标记(12)的宽度，根据该辅助对位标记(12)的宽度确定其距离主对位标记(11)的中点的距离；
根据该辅助对位标记(12)的种类、该辅助对位标记(12)距离主对位标记(11)的中点的距离、以及该辅助对位标记(12)与主对位标记(11)的交汇的区域的中心点的坐标求出所述对位标记(2)的中心点的坐标，根据对位标记(2)的中心点的坐标完成基板的对位。
7.如权利要求6所述的基板对位方法，其特征在于，所述第二辅助对位标记(122)的宽度和第三辅助对位标记(123)的宽度随着其距离所述主对位标记(11)的中点的距离的增大而增大。
8.如权利要求6所述的基板对位方法，其特征在于，所述第二辅助对位标记(122)和第三辅助对位标记(123)的数量均为两个。
9.如权利要求6所述的基板对位方法，其特征在于，所述第二辅助对位标记(122)和第三辅助对位标记(123)的宽度均大于所述第一辅助对位标记(121)的宽度。
10.如权利要求6所述的基板对位方法，其特征在于，相邻的两个辅助对位标记(12)之间的距离相等。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710258537.1A CN106842838B (zh) | 2017-04-19 | 2017-04-19 | 对位标记及基板对位方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| CN201710258537.1A CN106842838B (zh) | 2017-04-19 | 2017-04-19 | 对位标记及基板对位方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN106842838A true CN106842838A (zh) | 2017-06-13 |
| CN106842838B CN106842838B (zh) | 2018-07-10 |
Family
ID=59142995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201710258537.1A Active CN106842838B (zh) | 2017-04-19 | 2017-04-19 | 对位标记及基板对位方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN106842838B (zh) |
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- 2017-04-19 CN CN201710258537.1A patent/CN106842838B/zh active Active
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN106842838B (zh) | 2018-07-10 |
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