JP2018054847A - 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 160
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 claims abstract description 7
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 163
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 60
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 32
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 29
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 29
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 18
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 17
- 238000003079 width control Methods 0.000 description 12
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 3
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
まず、第1実施形態について、図1〜図3に基づいて説明する。
まず、図1を用いて第1実施形態に係る露光装置10の構成について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置10の構成を概略的に示す図である。露光装置10は、液晶表示装置(フラットパネルディスプレイ)に用いられる矩形のガラス基板P(以下、単に基板Pと称する)を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置である。
次に、上述した露光装置10の基板ステージPSTにおいて、Y粗動ステージ23Y、X粗動ステージ23X、微動ステージ、およびその他各種センサ等の駆動に使用される電力を供給する電力供給システムについて説明する。
1次回路200Aは、電源201と、バックブーストコンバータ202と、第1インバータ203と、第1送電コイル204Aと、第1制御装置205Aと、DC/DCコンバータ207と、を備える。
露光装置10は、露光動作を行う際に予め決められた軌道で基板ステージPSTが駆動される。そのため、供給電圧最適化部211は、基板ステージPSTの軌道に基づくフィードフォワード制御を行うことができる。
フィードバック制御では、供給電圧最適化部211は、2次回路300Aで実際に消費された電力に基づいて、バックブーストコンバータ202に出力する供給電圧振幅指令値を変更する。具体的には、供給電圧最適化部211は、後述する2次回路300Aの第2制御装置307Aが備える負荷電力算出部311から、2次回路300Aで実際に消費された電力(以後、実消費電力と記載する)の情報を無線通信により受信する。なお、露光装置10内はたとえばBluetooth(登録商標)等の無線通信によって、通信が可能となっている。供給電圧最適化部211は、2次回路300Aにおける実消費電力に基づいて、第1送電コイル204Aに供給が必要な電圧を算出する。
2次回路300Aは、たとえばY粗動ステージ23Yに配置され、第1受電コイル301A、コンバータ302、第1モータードライバ303、エンコーダ等を含む各種センサ330、モーター331、第2インバータ304、第2送電コイル305A、DC/DCコンバータ306、電圧計309、および第2制御装置307Aを備える。
3次回路400Aは、たとえばX粗動ステージ23Xに設けられ、第2受電コイル401A、コンバータ402、電圧計403、第2モータードライバ404、X粗動ステージ23Xの位置を検出するためのエンコーダ等を含む各種センサ430、モーター431、第3モータードライバ405、微動ステージ21の位置を検出するためのエンコーダ等を含む各種センサ440、ボイスコイルモーター18X、18Y、18Z、DC/DCコンバータ406、および第3制御装置407Aを備える。
次に、本実施形態における第1送電コイル204A、第1受電コイル301A、第2送電コイル305A、及び第2受電コイル401Aの配置について説明する。図3(a)及び図3(b)は、第1実施形態における第1送電コイル204A、第1受電コイル301A、第2送電コイル305A、及び第2受電コイル401Aの配置の一例を示す図である。
第1実施形態では、2次回路300Aの第2インバータ304のスイッチング信号のパルス幅を変更して、第2送電コイル305Aから送電する電力を変更していたが、第2送電コイル305Aに供給する電圧の振幅を変更して、第2送電コイル305Aから送電する電力を変更してもよい。
第1実施形態およびその変形例1では、1次回路が備えるバックブーストコンバータ202により、第1送電コイル204Aに印加される電圧の振幅を変更し、第1送電コイル204Aが送電する電力を変更していた。変形例2および3では、第1インバータ203に出力するスイッチング信号のパルス幅を変更して、第1送電コイル204Aに電圧を印加する時間を変更することで、第1送電コイル204Aが送電する電力を変更する。
第1実施形態およびその変形例1〜3に係る2次回路において、第2制御装置307Aは供給電圧最適化部313を備えていなくてもよい。図7は、変形例4に係る電力供給システム100A4のブロック図であり、図8は、変形例5に係る電力供給システム100A5のブロック図である。
変形例4および5において、第3制御装置407Aの負荷電力算出部411は、無線通信により第1制御装置205Aが備える供給電圧最適化部211に実消費電力を送信していたが、図9および図10に示すように、第2制御装置307Aが備える負荷電力算出部311に無線通信により送信してもよい。
第2実施形態は、露光装置10の構成は第1実施形態と同様であるが、電力供給システムの構成が第1実施形態と異なる。図11は、第2実施形態に係る電力供給システム100Bのブロック図である。なお、図の簡略化のため、電力供給システム100Bでは、フィードバック制御を行っていないが、フィードフォワード制御とともにフィードバック制御を行ってもよい。また、電力供給システム100Bにおいて、フィードフォワード制御を行わず、フィードバック制御を行ってもよい。
1次回路200Bは、複数の第1インバータ203と、各第1インバータ203と接続される複数の第1送電コイル204Bと、を備える。その他の構成は、図2の1次回路200Aと同様であるため、詳細な説明を省略する。
2次回路300Bは、図2の2次回路300Aと比較して、第2インバータ304および第2送電コイル305Aを有していない。その他の構成は、図2の2次回路300Aと同様であるため、詳細な説明を省略する。
3次回路400Bは、第2受電コイル401Bが、第1送電コイル204Bが送電した電力を受電する点が、図2の3次回路400Aと異なる。その他の構成は、図2の3次回路400Aと同様であるため、詳細な説明を省略する。
次に、本実施形態に係る第1送電コイル204B、第1受電コイル301B、及び第2受電コイル401Bの配置について説明する。図12(a)及び図12(b)は、第2実施形態に係る第1送電コイル204B、第1受電コイル301B、及び第2受電コイル401Bの配置を示す図である。
第3実施形態は、Y粗動ステージ23Yの駆動方法が第1及び第2実施形態と異なる。より具体的には、Y粗動ステージ23Yをボールネジにより駆動し、X粗動ステージ23XをXリニアモーターにより駆動する。
1次回路200Cは、図2の1次回路200Aの構成に加えて、第4モータードライバ206と、モーター221と、センサ220と、を備える。
2次回路300Cでは、図2の2次回路300Aと比較して、第1モータードライバ303と、モーター331と、が省略されている。モーター331は、DC/DCコンバータ306に接続されている。Y粗動ステージ23Yは、ボールネジにより駆動されるためである。2次回路300Cのその他の主な構成は、図2の2次回路300Aと同様であるため詳細な説明を省略する。
3次回路400Cは、第2受電コイル401Cが、第1受電コイル301Cを介して第1送電コイル204Cが送電した電力を受電する点が、図2の3次回路400Aと異なる。その他の構成は、図2の3次回路400Aと同様であるため、詳細な説明を省略する。
次に、本実施形態における第1送電コイル204C、第1受電コイル301C、及び第2受電コイル401Cの配置について説明する。図14(a)及び図14(b)は、第3実施形態における第1送電コイル204C、第1受電コイル301C、及び第2受電コイル401Cの配置を示す図である。
第4実施形態は、Y粗動ステージ23YをYリニアモーターで駆動し、X粗動ステージ23Xをボールネジによって駆動する。この場合、第1実施形態に係る電力供給システム100Aの構成を採用することができる。
第5実施形態は、Y粗動ステージ23YおよびX粗動ステージ23Xをそれぞれボールネジによって駆動する。この場合、第1実施形態に係る電力供給システム100Aの構成を採用することができる。
23X X粗動ステージ
23Y Y粗動ステージ
200A〜200C 1次回路
204A〜204C 第1送電コイル
300A〜300C 2次回路
301A〜301C 第1受電コイル
305A 第2送電コイル
400A〜400C 3次回路
401A〜401C 第2受電コイル
PST 基板ステージ
Claims (20)
- 固定部に対して、移動可能な移動体と、
前記固定部に設けられ、電磁誘導現象又は磁界共振現象を利用して電力を送電する第1送電部と、
前記移動体に設けられ、前記第1送電部が送電した電力を受電する受電部と、
を備える移動体装置。 - 前記第1送電部は、前記移動体の移動軌道に基づいて算出された電力を送電する請求項1記載の移動体装置。
- 前記第1送電部は、前記移動体の消費電力に基づいて算出された電力を送電する請求項1又は2に記載の移動体装置。
- 前記移動体は、前記固定部に対して移動可能な第1移動体と、前記第1移動体に設けられ、前記第1移動体に対して移動可能な第2移動体と、を含み、
前記受電部は、前記第1移動体に設けられた第1受電部と、前記第2移動体に設けられた第2受電部と、を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記第1送電部は、前記第1移動体の移動軌跡、前記第1移動体の消費電力、前記第2移動体の移動軌跡、および前記第2移動体の消費電力に基づいて算出された電力を送電する請求項4に記載の移動体装置。
- 前記第1移動体に設けられ、電磁誘導現象又は磁界共振現象を利用して電力を送電する第2送電部を備え、
前記第1送電部は、電力を送電する第1送電コイルを含み、
前記第1受電部は、前記第1送電コイルと対向し、前記第1送電コイルから電力を受電する第1受電コイルを含み、
前記第2送電部は、前記第1受電コイルが受電した電力の一部を送電する第2送電コイルを含み、前記第2移動体の移動軌跡、および前記第2移動体の消費電力に基づいて算出された電力を送電し、
前記第2受電部は、前記第2次送電コイルと対向し、前記第2送電コイルから電力を受電する第2受電コイルを含む請求項4に記載の移動体装置。 - 前記第2送電部は、前記第2送電コイルに供給する電圧の振幅を変更することにより、前記第2送電部が送電する電力を制御する請求項6に記載の移動体装置。
- 前記第2送電部は、前記第2送電コイルに電圧を印加する時間を変更することにより、前記第2送電部が送電する電力を制御する請求項6又は7に記載の移動体装置。
- 前記第1送電部は、電力を送電する第1送電コイルを含み、
前記第1受電部は、前記第1送電コイルと対向し、前記第1送電コイルから電力を受電する第1受電コイルを含み、
前記第2受電部は、前記第1送電コイルと対向し、前記第1送電コイルから電力を受電する第2受電コイルを含む請求項4又は5に記載の移動体装置。 - 前記第1送電部は、電力を送電する第1送電コイルを含み、
前記第1受電部は、前記第1送電コイルと対向し、前記第1送電コイルから電力を受電する第1受電コイルを含み、
前記第2受電部は、前記第1受電コイルと対向し、前記第1送電コイルから前記第1受電コイルを介して電力を受電する第2受電コイルを含む請求項4又は5に記載の移動体装置。 - 前記第1受電部は、前記第1受電コイルと対向し、前記第1受電コイルから電力を受電する第1ピックアップコイルを含む請求項6〜10のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第2受電部は、前記第2受電コイルと対向し、前記第2受電コイルから電力を受電する第2ピックアップコイルを含む請求項6〜11のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1送電コイルは、前記第1受電コイルとの対向を維持するように移動する請求項6〜12のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1送電部は、前記第1送電コイルに供給する電圧の振幅を変更することにより、前記第1送電部が送電する電力を制御する請求項6〜13のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1送電部は、前記第1送電コイルに電圧を印加する時間を変更することにより、前記第1送電部が送電する電力を制御する請求項6〜14のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 物体を露光して、前記物体にパターンを形成する露光装置であって、
前記物体を保持する請求項1〜15のいずれか一項に記載の移動体装置を備える露光装置。 - 前記物体は、フラットパネルディスプレイに用いられる基板である請求項16に記載の露光装置。
- 前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が500mm以上である請求項17に記載の露光装置。
- 請求項16〜18のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。 - 請求項16〜18のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016190382A JP6889534B2 (ja) | 2016-09-28 | 2016-09-28 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、およびデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016190382A JP6889534B2 (ja) | 2016-09-28 | 2016-09-28 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018054847A true JP2018054847A (ja) | 2018-04-05 |
JP6889534B2 JP6889534B2 (ja) | 2021-06-18 |
Family
ID=61835719
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016190382A Active JP6889534B2 (ja) | 2016-09-28 | 2016-09-28 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6889534B2 (ja) |
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---|---|
JP6889534B2 (ja) | 2021-06-18 |
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