JP2018045748A - 回路付サスペンション基板、および、回路付サスペンション基板の製造方法 - Google Patents

回路付サスペンション基板、および、回路付サスペンション基板の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】スライダおよび電子素子を円滑に搭載することができる回路付サスペンション基板、および、回路付サスペンション基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
発光素子Lが挿通される開口4と、開口4の縁に配置されるベース絶縁層12と、ベース絶縁層12の一方面S1に配置される磁気ヘッド接続端子13Aと、ベース絶縁層の他方面S2に配置される発光素子接続端子15Aとを備える回路付サスペンション基板1において、ベース絶縁層12に、磁気ヘッド接続端子が配置される第1部分12Aと、第1部分12Aから開口4へ向かって延び、一方面S1から他方面S2へ向かって凹むように第1部分12Aよりも薄く、かつ、発光素子接続端子15Aに重なる第2部分12Bとを設け、スライダSを、第2部分12Bに重なるように搭載する。
【選択図】図3

Description

本発明は、回路付サスペンション基板、および、回路付サスペンション基板の製造方法に関する。
従来、ハードディスクドライブに実装される回路付サスペンション基板として、磁気ヘッドを有するスライダが搭載可能な回路付サスペンション基板が知られている。
このような回路付サスペンション基板において、熱アシスト磁気記録方式を採用するために、磁気ヘッドを有するスライダと、スライダに搭載される発光素子とを備えるスライダユニットを搭載することが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
この回路付サスペンション基板には、発光素子が挿通される開口部が設けられている。そして、回路付サスペンション基板は、上面に設けられるヘッド側端子で磁気ヘッドと電気的に接続され、下面に設けられる素子側端子で光学素子と電気的に接続される。
特開2013−200934号公報
しかし、特許文献1に記載の回路付サスペンション基板において、スライダおよび発光素子を、さらに円滑に搭載したいという要望がある。
そこで、本発明の目的は、スライダおよび電子素子を円滑に搭載することができる回路付サスペンション基板、および、回路付サスペンション基板の製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明[1]は、磁気ヘッドを備えるスライダと、前記磁気ヘッドをアシストするための電子素子とを搭載可能であり、前記スライダが搭載されたときに前記電子素子が挿通される開口を有する回路付サスペンション基板であって、前記開口の縁に配置される絶縁層と、前記絶縁層の厚み方向において前記絶縁層の一方面に配置され、前記スライダが搭載されたときに前記磁気ヘッドに対して電気的に接続される第1端子と、前記厚み方向において前記絶縁層の他方面に配置され、前記スライダが搭載されたときに前記電子素子に対して電気的に接続される第2端子とを備え、前記絶縁層は、前記第1端子が配置される第1部分と、前記厚み方向と直交する面方向において前記第1部分から前記開口に向かって延びる第2部分であって、前記スライダが搭載されたときに、前記厚み方向において前記スライダと重なる第2部分とを備え、前記第2部分は、前記厚み方向において、前記一方面から前記他方面へ向かって近づくように前記第1部分よりも薄く、かつ、前記第2端子に重なり、前記スライダは、前記厚み方向において、前記第2部分に対向する第1面と、前記第1面に対して前記第2部分の反対側に配置される第2面とを有し、前記第1面は、前記スライダが搭載されたときに、前記第1端子と前記第2端子との間に配置される、回路付サスペンション基板を含む。
このような構成によれば、第2部分が、絶縁層の一方面から他方面へ向かって近づくように第1部分よりも薄く形成されている。
そのため、第2部分の厚み方向一方側の空間を利用して、スライダを第2部分の厚み方向一方側に配置することができる。これにより、第2部分の厚み方向一方側の空間を利用して、スライダが絶縁層に接触することを避けつつ、スライダを第1端子に近づけるとともに、光学素子を第2端子に近づけることができる。
そして、スライダが第1端子に近づき、光学素子が第2端子に近づいた状態で、第1端子をスライダに接続し、第2端子を光学素子に接続することができる。
その結果、回路付サスペンション基板は、スライダおよび電子素子を、円滑に搭載することができる。
本発明[2]は、前記第2部分が、前記第1部分から前記開口に向かうにつれて、前記一方面から前記他方面へ向かって傾斜する傾斜面を備える、上記[1]の回路付サスペンション基板を含む。
このような構成によれば、簡易な構成で、第2部分の厚み方向一方側に空間を形成することができる。
本発明[3]は、前記第2端子の一部が、前記厚み方向において、前記第1端子の一部と重なる、上記[1]または上記[2]の回路付サスペンション基板を含む。
このような構成によれば、第1端子および第2端子のいずれか一方の全部が、第1端子および第2端子のいずれか他方と重なるような場合と比べて、第1端子とスライダとの接続部分と、第2端子と光学素子との接続部分とを、ずらして配置することができる。
その結果、第1端子とスライダとの接続部分と、第2端子と光学素子との接続部分とが短絡することを、より確実に防止できる。
なお、第1端子と第2端子とを、互いに重ならないように大きくずらして配置すると、回路付サスペンション基板が大型化するおそれがある。
しかし、上記の構成によれば、第2端子の一部が第1端子の一部と重なっているので、第1端子とスライダとの接続部分と、第2端子と光学素子との接続部分とが短絡することを、より確実に防止できながら、回路付サスペンション基板の大型化を抑制できる。
本発明[4]は、前記電子素子が、前記スライダに支持される本体部と、前記本体部から突出し、光を出射するための出射部とを備え、前記第2端子は、複数設けられ、複数の前記第2端子のうちの少なくとも1つは、前記スライダが搭載されたときに、前記本体部に電気的に接続され、前記厚み方向において前記第2部分に重なる、上記[1]から上記[3]のいずれか1つの回路付サスペンション基板を含む。
このような構成によれば、光学素子の本体部に接続される第2端子を、光学素子の本体部の近くに配置することができる。
その結果、光学素子と第2端子とをより円滑に接続することができる。
本発明[5]は、磁気ヘッドを備えるスライダと、前記磁気ヘッドをアシストするための電子素子とを搭載可能であり、前記スライダが搭載されたときに前記電子素子が挿通される開口を有する回路付サスペンション基板であって、前記開口の縁に配置される絶縁層と、前記絶縁層の厚み方向において前記絶縁層の一方面に配置され、前記スライダが搭載されたときに前記磁気ヘッドに対して電気的に接続される第1端子と、前記厚み方向において前記絶縁層の他方面に配置され、前記スライダが搭載されたときに前記電子素子に対して電気的に接続される第2端子とを備え、前記絶縁層は、前記第1端子が配置される第1部分と、前記厚み方向と直交する第1面方向において前記第1部分から前記開口に向かって延びる第2部分であって、前記スライダが搭載されたときに、前記厚み方向において前記スライダと重なる第2部分とを備え、前記第2部分は、前記第1部分から前記開口に向かうにつれて、前記一方面から前記他方面へ向かって傾斜する傾斜面を備え、前記スライダは、前記厚み方向において、前記第2部分に対向する第1面と、前記第1面に対して前記第2部分の反対側に配置される第2面とを有し、前記第1面は、前記スライダが搭載されたときに、前記第1端子と前記第2端子との間に配置される、回路付サスペンション基板を含む。
このような構成によれば、第2部分が、第1部分から開口に向かうにつれて、一方面から他方面へ向かって傾斜する傾斜面を備える。
そのため、第2部分の厚み方向一方側の空間を利用して、スライダを第2部分の厚み方向一方側に配置することができる。これにより、第2部分の厚み方向一方側の空間を利用して、スライダが絶縁層に接触することを避けつつ、スライダを第1端子に近づけるとともに、光学素子を第2端子に近づけることができる。
そして、スライダが第1端子に近づき、光学素子が第2端子に近づいた状態で、第1端子をスライダに接続し、第2端子を光学素子に接続することができる。
その結果、回路付サスペンション基板は、スライダおよび電子素子を、円滑に搭載することができる。
本発明[6]は、磁気ヘッドを備えるスライダと、前記磁気ヘッドをアシストするための電子素子とが搭載されたときに前記電子素子が挿通される開口を有し、前記開口の縁に配置される絶縁層と、前記絶縁層の厚み方向において前記絶縁層の一方面に配置される第1端子と、前記厚み方向において前記絶縁層の他方面に配置される第2端子とを備える回路付サスペンション基板の製造方法であって、金属基板の上に感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光性樹脂層を階調露光することにより、第1部分と、前記厚み方向と直交する面方向において前記第1部分から前記開口に向かって延び、前記第1部分よりも薄い第2部分とを備える前記絶縁層を形成する工程と、前記第1部分の上に第1端子を形成する工程と、前記金属基板をエッチングして、前記開口を形成するとともに、前記厚み方向において前記第2部分に重なるように、前記金属基板から形成される部分を含む前記第2端子を形成する工程とを含む、回路付サスペンション基板の製造方法を含む。
この方法によれば、階調露光により、第1部分と第2部分とを備える絶縁層を、容易に形成することができる。
その結果、スライダおよび電子素子を円滑に搭載することができる回路付サスペンション基板を、容易に製造できる。
本発明の回路付サスペンション基板によれば、スライダおよび電子素子を円滑に搭載することができる。
また、本発明の回路付サスペンション基板の製造方法によれば、スライダおよび電子素子を円滑に搭載することができる回路付サスペンション基板を、容易に製造できる。
図1は、本発明の回路付サスペンション基板の一実施形態を示す平面図であって、回路付サスペンション基板の先端部を示す。 図2は、図1に示す回路付サスペンション基板を厚み方向他方側から見た平面図である。 図3は、図1に示す回路付サスペンション基板のA−A断面図である。 図4Aから図4Cは、図1に示す回路付サスペンション基板の製造方法を説明する説明図であって、図4Aは、金属基板を準備する工程を示し、図4Bは、図4Aに続き、金属基板の上に感光性樹脂層を形成し、感光性樹脂層を階調露光する工程を示し、図4Cは、図4Bに続き、階調露光された感光性樹脂層を現像して、金属基板の上にベース絶縁層を形成する工程を示す。 図5Aから図5Cは、図4Aから図4Cとともに、図1に示す回路付サスペンション基板の製造方法を説明する説明図であって、図5Aは、図4Cに続き、ベース絶縁層の上に第1導体パターンを形成する工程を示し、図5Bは、図5Aに続き、ベース絶縁層および第1導体パターンの上にカバー絶縁層を形成する工程を示し、図5Cは、図5Bに続き、金属基板をエッチングして、金属支持基板および第2導体パターンを形成する工程を示す。 図6は、図1に示す回路付サスペンション基板に搭載されるスライダおよび光学素子の斜視図である。 図7Aおよび図7Bは、回路付サスペンション基板に対するスライダおよび光学素子の搭載を説明する説明図であって、図7Aは、回路付サスペンション基板の開口に光学素子を挿通し、回路付サスペンション基板のスライダ搭載部にスライダを載置した状態を示し、図7Bは、図7Aに続き、スライダおよび光学素子を先側へ寄せた状態を示す。 図8は、図7Bに示す回路付サスペンション基板を厚み方向一方側から見た平面図を示す。 図9は、図7Bに示す回路付サスペンション基板を厚み方向他方側から見た平面図を示す。 図10は、回路付サスペンション基板の変形例を示す断面図である。
図1から図3を参照して、回路付サスペンション基板1の構成について説明する。
回路付サスペンション基板1は、ハード・ディスク・ドライブ(詳しくは、熱アシスト磁気記録方式を採用するハード・ディスク・ドライブ)のヘッド・ジンバル・アセンブリを構成する一部品である。回路付サスペンション基板1は、図1に示すように、紙面上下方向に延びる。以下の説明において、回路付サスペンション基板1が延びる方向を、先後方向とする。先後方向は、回路付サスペンション基板1の厚み方向と直交する面方向の一例である。回路付サスペンション基板1は、磁気ヘッドHを備えるスライダSと、磁気ヘッドHをアシストするための電子素子の一例としての発光素子Lとを搭載可能である(図3参照)。磁気ヘッドHは、ハード・ディスクの記録面からのデータの読み取り、および、ハード・ディスクの記録面に対するデータの書き込みを実行するための電子素子である。発光素子Lは、レーザー光などの光をハード・ディスクの記録面に出射してハード・ディスクの記録面を加熱することにより、磁気ヘッドHによるハード・ディスクの記録面に対するデータの書き込みをアシストするための電子素子である。なお、ハード・ディスク・ドライブが熱アシスト磁気記録方式を採用する場合、磁気ヘッドHをアシストするための電子素子としては、ハード・ディスクの記録面を加熱することができれば特に限定されず、例えば、マイクロ波を発生させる電子素子であってもよい。以下の説明において、スライダSが搭載される側が、回路付サスペンション基板1の先側であり、その反対側が、回路付サスペンション基板1の後側である。また、先後方向および厚み方向の両方と直交する方向が、回路付サスペンション基板1の幅方向である。回路付サスペンション基板1は、スライダSを支持するとともに、磁気ヘッドHおよび発光素子Lをハード・ディスク・ドライブの制御基板に電気的に接続する。
回路付サスペンション基板1は、スライダSが搭載されるスライダ搭載部2と、配線パターン(具体的には、後述する第1導体パターン13および第2導体パターン15)が形成される配線部3とを備える。
スライダ搭載部2は、平面視略矩形の平板形状に形成されている。スライダ搭載部2は、凸形状の開口4を有する。開口4には、スライダSが搭載されたときに、発光素子Lが挿通される。詳しくは、開口4は、発光素子Lの本体部L1(図6参照)が挿通される平面視略矩形状の幅広部分4Aと、発光素子Lの出射部L2(図6参照)が挿通される平面視略矩形状の幅狭部分4Bとを有する。幅狭部分4Bは、幅広部分4Aの先側に配置される。幅狭部分4Bは、幅方向において、幅広部分4Aよりも短い。幅狭部分4Bは、幅広部分4Aの幅方向中央部と連続する。
配線部3は、アウトリガー部3Aと、ケーブル部3Bとを備える。アウトリガー部3Aは、スライダ搭載部2を囲むように、スライダ搭載部2の周りに配置されている。詳しくは、アウトリガー部3Aは、平面視略矩形の枠形状に形成されている。アウトリガー部3Aの先側の内周縁は、スライダ搭載部2の先端部と連続する。アウトリガー部3Aの後側の内周縁は、スライダ搭載部2の後端部に対して、間隔を隔てる。アウトリガー部3Aの幅方向の内周縁は、スライダ搭載部2の幅方向端部に対して、間隔を隔てる。ケーブル部3Bは、アウトリガー部3Aの後端部から後方へ延びる。
また、より詳しくは、回路付サスペンション基板1は、図1から図3に示すように、金属支持基板11と、絶縁層の一例としてのベース絶縁層12と、第1導体パターン13と、カバー絶縁層14と、第2導体パターン15とを備える。
金属支持基板11は、図2および図3に示すように、スライダ搭載部2および配線部3に設けられる。金属支持基板11には、開口11Aが形成される。開口11Aは、先後方向において、スライダ搭載部2の中央から、アウトリガー部3Aの先端にわたって形成されている。開口11Aは、平面視略矩形状に形成されている。
金属支持基板11の厚みは、例えば、15μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、30μm以下である。
ベース絶縁層12は、図1および図3に示すように、第1導体パターン13が形成される部分に設けられる。具体的には、ベース絶縁層12は、スライダ搭載部2の先端部と、配線部3とに設けられる。ベース絶縁層12は、スライダ搭載部2の先端部において、開口4の先側の縁に配置される。詳しくは、ベース絶縁層12は、金属支持基板11の開口11A(図2参照)の先側半分を覆うように、金属支持基板11の上面に形成されている。これにより、金属支持基板11の開口11Aのうち、ベース絶縁層12から露出される部分が、開口4として機能する。また、ベース絶縁層12は、回路付サスペンション基板1の厚み方向において、金属支持基板11と第1導体パターン13との間に配置される。これにより、ベース絶縁層12は、金属支持基板11と第1導体パターン13とを絶縁する。また、ベース絶縁層12は、スライダ搭載部2の先端部において、第1部分12Aと、第2部分12Bとを備える。
第1部分12Aは、幅方向において、スライダ搭載部2の全幅にわたって延びる。また、第1部分12Aは、先後方向に延びる。
第1部分12Aの厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上であり、例えば、20μm以下、好ましくは、15μm以下である。
第2部分12Bは、先後方向において、第1部分12Aの後側に配置されている。第2部分12Bは、先後方向において、第1部分12Aから、開口4の幅広部分4Aに向かって延びる。また、第2部分12Bは、幅方向において、開口4の幅狭部分4Bの両側に配置されている。第2部分12Bは、厚み方向一端部が後方へ突出するような断面視楔形状を有している。詳しくは、第2部分12Bは、厚み方向において、ベース絶縁層12の一方面S1から、ベース絶縁層12の他方面S2へ向かって近づくように、第1部分12Aよりも薄く形成されている。言い換えると、第2部分12Bの厚みは、第1部分12Aから開口4に向かうにつれて、徐々に薄くなる。第2部分12Bは、第1部分12Aから開口4に向かうにつれて、一方面S1から他方面S2へ向かって傾斜する傾斜面S3を備える。
第2部分12Bの先後方向長さは、例えば、5μm以上、好ましくは、10μm以上であり、例えば、100μm以下、好ましくは、50μm以下である。
第2部分12Bの先後方向長さは、第1部分12Aの厚みよりも長い。具体的には、第2部分12Bの先後方向長さは、第1部分12Aの厚みに対して、例えば、1.5倍以上、好ましくは、2倍以上であり、例えば、20倍以下である。
傾斜面S3と他方面S2とから形成される鋭角θは、例えば、5°以上であり、例えば、30°以下、好ましくは、20°以下である。
第1導体パターン13は、厚み方向において、ベース絶縁層12の一方面S1に配置されている。第1導体パターン13の厚みは、例えば、3μm以上、好ましくは、5μm以上、例えば、50μm以下、好ましくは、20μm以下である。第1導体パターン13は、複数(具体的には、9つ)の第1端子の一例としての磁気ヘッド接続端子13Aと、複数(具体的には、4つ)の接続パッド13Bと、複数(具体的には、13本)の配線13Cとを備える。
複数の磁気ヘッド接続端子13Aは、厚み方向において、第1部分12Aの一方面S1に配置されている。磁気ヘッド接続端子13Aの個数は、磁気ヘッドHの端子T1(図6参照)の個数と同じである。複数の磁気ヘッド接続端子13Aは、互いに間隔を隔てて、幅方向に並列配置されている。磁気ヘッド接続端子13Aは、平面視略矩形状(角ランド形状)に形成されている。1つの磁気ヘッド接続端子13Aは、スライダSが搭載されたときに、磁気ヘッドHの1つの端子T1(図6参照)に対して電気的に接続される。
磁気ヘッド接続端子13Aの幅は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
また、磁気ヘッド接続端子13A間の間隔は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
複数の接続パッド13Bは、先後方向において、複数の磁気ヘッド接続端子13Aの先側に配置されている。複数の接続パッド13Bは、アウトリガー部3Aに配置されている。接続パッド13Bの個数は、第2導体パターン15の接続パッド15B(図2参照)の個数と同じである。複数の接続パッド13Bは、互いに間隔を隔てて、幅方向に並列配置されている。接続パッド13Bは、平面視略円形状(丸ランド形状)に形成されている。複数の接続パッド13Bは、それぞれ、ベース絶縁層12に貫通形成されるビア12C内に充填されている。
接続パッド13Bの直径は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
また、接続パッド13Bの間隔は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
複数の配線13Cは、アウトリガー部3Aおよびケーブル部3Bに配置されている。複数の配線13Cの個数は、複数の磁気ヘッド接続端子13Aおよび複数の接続パッド13Bの総数と同じである。複数の配線13Cは、互いに間隔を隔てている。1つの配線13Cは、複数の磁気ヘッド接続端子13Aおよび複数の接続パッド13Bのうちの1つに接続される。複数の配線13Cのそれぞれの端部には、図示しない外部接続端子が設けられる。外部接続端子は、ハード・ディスク・ドライブの制御基板に電気的に接続される。
配線13Cの幅は、例えば、5μm以上、好ましくは、8μm以上、例えば、200μm以下、好ましくは、100μm以下である。
また、配線13C間の幅方向間隔は、例えば、5μm以上、好ましくは、8μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、100μm以下である。
カバー絶縁層14は、図3に示すように、ベース絶縁層12の一方面S1に配置されている。カバー絶縁層14は、複数の配線13Cおよび複数の接続パッド13Bを被覆する。なお、磁気ヘッド接続端子13Aおよび図示しない外部接続端子は、カバー絶縁層14から露出される。
第1導体パターン13の上に配置される部分において、カバー絶縁層14の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μmであり、例えば、15μm以下、好ましくは、10μm以下である。
ベース絶縁層12の上に配置される部分において、カバー絶縁層14の厚みは、第1導体パターン13の上に配置される部分の厚みよりも厚く、例えば、2μm以上、好ましくは、4μmであり、例えば、20μm以下、好ましくは、15μm以下である。
第2導体パターン15は、図2および図3に示すように、金属支持基板11の開口11A内において、ベース絶縁層12の他方面S2に配置されている。第2導体パターン15の厚みは、金属支持基板11の厚みと同じであり、例えば、15μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、30μm以下である。第2導体パターン15は、複数(具体的には、4つ)の第2端子の一例としての発光素子接続端子15Aと、複数(具体的には、4つ)の接続パッド15Bと、複数(具体的には、4つ)の配線15Cとを備える。
複数の発光素子接続端子15Aは、厚み方向において、ベース絶縁層12の他方面S2に配置される。発光素子接続端子15Aの個数は、発光素子Lの端子T2(図6参照)の個数と同じである。複数の発光素子接続端子15Aは、互いに間隔を隔てて、幅方向に並列配置されている。発光素子接続端子15Aは、先後方向に延びる。発光素子接続端子15Aは、平面視略矩形状(角ランド形状)に形成されている。詳しくは、複数の発光素子接続端子15Aのうちの1つは、先後方向において、開口4の幅狭部分4Bの先側に配置される。また、複数の発光素子接続端子15Aのうちの3つは、幅方向において、開口4の幅狭部分4Bと並んで配置される。また、複数の発光素子接続端子15Aのうちの3つの後端は、厚み方向において、第2部分12Bの他方面S2に配置される。すなわち、複数の発光素子接続端子15Aのうちの少なくとも1つ(具体的には3つ)は、厚み方向において、第2部分12Bに重なる。なお、これら3つの発光素子接続端子15Aの後端縁は、厚み方向において、第2部分12Bの後端縁と重なる。また、発光素子接続端子15Aは、厚み方向において、磁気ヘッド接続端子13Aと重なる。詳しくは、発光素子接続端子15Aは、その一部が、厚み方向において、磁気ヘッド接続端子13Aの一部と重なり、その他の部分が、厚み方向において、磁気ヘッド接続端子13Aと重ならないように、磁気ヘッド接続端子13Aに対して幅方向にずれている。すなわち、発光素子接続端子15Aの一部は、厚み方向において、磁気ヘッド接続端子13Aの一部と重なる。1つの発光素子接続端子15Aは、スライダSが搭載されたときに、発光素子Lの1つの端子T2(図6参照)に対して電気的に接続される。
発光素子接続端子15Aの幅は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
また、発光素子接続端子15A間の間隔は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
複数の接続パッド15Bは、図2および図3に示すように、先後方向において、複数の発光素子接続端子15Aの先側に配置されている。複数の接続パッド15Bは、幅方向において、互いに間隔を隔てている。接続パッド15Bは、平面視略円形状(丸ランド形状)に形成されている。第2導体パターン15の1つの接続パッド15Bは、第1導体パターン13の1つの接続パッド13Bに対して、電気的に接続される。
接続パッド15Bの直径は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
また、接続パッド15Bの間隔は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
複数の配線15Cは、幅方向において、互いに間隔を隔てている。1つの配線15Cは、1つの発光素子接続端子15Aと、1つの接続パッド15Bとを電気的に接続する。
配線15Cの幅は、例えば、5μm以上、好ましくは、8μm以上、例えば、200μm以下、好ましくは、100μm以下である。
また、配線15C間の幅方向間隔は、例えば、5μm以上、好ましくは、8μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、100μm以下である。
図4Aから図5Cを参照して、回路付サスペンション基板1の製造方法について説明する。
回路付サスペンション基板1を製造するには、図4Aに示すように、まず、金属基板Mを用意する。
金属基板Mを形成する材料としては、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、銅−ベリリウム、りん青銅などの金属材料が挙げられ、好ましくは、ステンレスが挙げられる。
次いで、図4Bに示すように、金属基板Mの上面に、感光性樹脂のワニスを均一な厚みで塗布し、乾燥する。これにより、金属基板Mの上面に、均一な厚みを有する感光性樹脂層Fを形成する。
感光性樹脂としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂が挙げられる。好ましくは、ポリイミド樹脂が挙げられる。
次いで、フォトマスクPを感光性樹脂層Fの上側に配置し、フォトマスクPを介して、感光性樹脂層Fを階調露光する。
フォトマスクPは、遮光部分P1、全透過部分P2および半透過部分P3からなる階調パターンを備えている。
遮光部分P1は、感光性樹脂層Fのうち、ベース絶縁層12を形成しない部分に対向される。遮光部分P1は、感光性樹脂層Fへの光を遮光する。
全透過部分P2は、感光性樹脂層Fのうち、第2部分12B以外のベース絶縁層12を形成する部分に対向される。全透過部分P2は、感光性樹脂層Fへの光を透過する。
半透過部分P3は、感光性樹脂層Fのうち、第2部分12Bを形成する部分に対向される。半透過部分P3は、感光性樹脂層Fへの光を、全透過部分P2を透過する光よりも低い強度に減衰させつつ透過する。
次いで、感光性樹脂層Fを現像する。
すると、感光性樹脂層Fのうち、遮光部分P1に対向した部分は、現像液によって溶解され、除去される。また、感光性樹脂層Fのうち、全透過部分P2に対向した部分は、現像液によって溶解されず、残存する。また、感光性樹脂層Fのうち、半透過部分P3に対向した部分は、現像液によって部分的に溶解され、全透過部分P2に対向した部分よりも薄い厚みで残存する。
その後、必要に応じて、感光性樹脂層Fを加熱硬化する。
これにより、図4Cに示すように、金属基板Mの上面に、ベース絶縁層12が、上記したパターンで形成される。すなわち、第1部分12Aと、第2部分12Bとを備えるベース絶縁層12が形成される。
次いで、図5Aに示すように、ベース絶縁層12の上面に、第1導体パターン13を、アディティブ法またはサブトラクティブ法などにより形成する。これにより、第1部分12Aの上に磁気ヘッド接続端子13Aが形成される。
第1導体パターン13を形成する材料は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはそれらの合金などの導体材料などが挙げられ、好ましくは、銅が挙げられる。
次いで、第1導体パターン13を被覆するように、金属基板M、ベース絶縁層12の上に、感光性樹脂のワニスを塗布し、乾燥させた後、露光および現像して、加熱硬化する。
これにより、図5Bに示すように、カバー絶縁層14が、上記したパターンで形成される。
カバー絶縁層14を形成する材料としては、上記したベース絶縁層12と同様の感光性樹脂が挙げられる。
その後、図5Cに示すように、金属基板Mをエッチングして、金属基板Mからなる金属支持基板11、および、金属基板Mから形成される部分を含む第2導体パターン15を形成する。これにより、厚み方向において第2部分12Bに重なるように、発光素子接続端子15Aが形成される。また、このとき、開口4が形成される。なお、第2導体パターン15は、金属基板Mから形成される部分のみから形成されてもよい。また、発光素子接続端子15Aがメッキ処理された場合など、発光素子接続端子15Aは、金属基板Mから形成される部分と、金属基板Mから形成されていない部分(例えば、メッキ層)とを含んでもよい。
金属基板Mをエッチングするには、例えば、ドライエッチング(例えば、プラズマエッチング)やウェットエッチング(例えば、化学エッチング)などの方法が用いられる。
これにより、回路付サスペンション基板1が完成する。
図6から図9を参照して、回路付サスペンション基板1に対するスライダSおよび発光素子Lの搭載について説明する。
スライダSは、図6および図7Bに示すように、先後方向に延びる板形状を有している。スライダSは、厚み方向において、第2部分12Bに対向する第1面S11と、第1面S11に対して第2部分12Bの反対側に配置される第2面S12とを有する。スライダSは、磁気ヘッドHと、磁気ヘッドHに電気的に接続される複数(具体的には9つ)の端子T1とを備える。
磁気ヘッドHは、スライダSの先端部に配置されている。
複数の端子T1は、スライダSの先端面に配置されている。複数の端子T1は、幅方向において、互いに間隔を隔てて並列配置されている。端子T1は、厚み方向に延びる角ランド形状に形成されている。
発光素子Lは、スライダSの第1面S11に配置されている。発光素子Lは、スライダSに支持される本体部L1と、本体部L1から突出し、光を出射するための出射部L2と、複数(具体的には4つ)の端子T2とを備える。
本体部L1は、厚み方向に延びる角柱形状を有している。本体部L1は、厚み方向の一端部において、スライダSの第1面S11における先端部よりも後側に接続されている。
出射部L2は、本体部L1の幅方向中央から先側へ突出している。出射部L2は、スライダSの先端面よりも先側へ突出している。これにより、出射部L2は、スライダSの先側を通過するように、厚み方向一方側へ光を出射することができる。出射部L2は、厚み方向に延びる角柱形状を有している。
複数の端子T2は、発光素子Lの先端面に配置されている。詳しくは、複数の端子T2のうちの1つは、出射部L2の先端面に配置されている。また、複数の端子T2のうち、残りの3つは、本体部L1の先端面に配置されている。複数の端子T2は、幅方向において、互いに間隔を隔てて並列配置されている。端子T2は、厚み方向に延びる角ランド形状に形成されている。
そして、スライダSをスライダ搭載部2に搭載するには、まず、図7Aに示すように、発光素子Lを開口4に挿入し、スライダSを、厚み方向一方側からスライダ搭載部2に載置する。すると、スライダSの端子T1は、対応する磁気ヘッド接続端子13Aの後側に配置される。また、発光素子Lの端子T2は、対応する発光素子接続端子15Aの後側に配置される。また、第1面S11は、厚み方向において、磁気ヘッド接続端子13Aと発光素子接続端子15Aとの間に配置される。
次いで、図7Bに示すように、スライダSおよび発光素子Lを、スライダSの端子T1が対応する磁気ヘッド接続端子13Aに近づき、発光素子Lの端子T2が対応する発光素子接続端子15Aに近づくように、先側へ寄せる。
このとき、第2部分12Bが一方面S1から他方面S2へ向かって近づくように第1部分12Aよりも薄く形成されているので、第2部分12Bの厚み方向一方側の空間を利用して、スライダSの先端部を第2部分12Bの厚み方向一方側に配置することができる。これにより、第2部分12Bの厚み方向一方側の空間を利用して、スライダSがベース絶縁層12に接触することを避けつつ、スライダSの端子T1を対応する磁気ヘッド接続端子13Aに近づけるとともに、発光素子Lの端子T2を対応する発光素子接続端子15Aに近づけることができる。
すると、図8に示すように、スライダSの先端部は、厚み方向において、第2部分12Bと重なる。すなわち、第2部分12Bは、厚み方向において、スライダSと重なる。また、図9に示すように、発光素子Lの本体部L1は、開口4の幅広部分4A内に配置され、発光素子Lの出射部L2は、開口4の幅狭部分4B内に配置される。
このとき、スライダSの端子T1と、対応する磁気ヘッド接続端子13との先後方向距離は、例えば、200μm以下、好ましくは、50μm以下である。スライダSの端子T1と、対応する磁気ヘッド接続端子13との先後方向距離は、通常、10μm以上である。
また、発光素子Lの端子T2と、対応する発光素子接続端子15Aとの先後方向距離は、例えば、200μm以下、好ましくは、50μm以下である。なお、発光素子Lの端子T2と、対応する発光素子接続端子15Aとは、互いに当接してもよい。すなわち、発光素子Lの端子T2と、対応する発光素子接続端子15Aとの先後方向距離は、0でもよい。
その後、スライダSの端子T1は、はんだを介して、対応する磁気ヘッド接続端子13Aに接続される。また、発光素子Lの端子T2は、はんだを介して、対応する発光素子接続端子15Aに接続される。つまり、複数の発光素子接続端子15Aのうちの少なくとも1つは、スライダSが搭載されたときに、本体部L1に電気的に接続される。
これにより、回路付サスペンション基板1に対するスライダSおよび発光素子Lの搭載が完了する。
この回路付サスペンション基板1によれば、図3に示すように、第2部分12Bが一方面S1から他方面S2へ向かって近づくように第1部分12Aよりも薄く形成されている。
そのため、図7Bに示すように、第2部分12Bの厚み方向一方側の空間を利用して、スライダSの先端部が第2部分12Bの厚み方向一方側に配置されるように、スライダSおよび発光素子Lを先側へ寄せることができる。
これにより、第2部分12Bの厚み方向一方側の空間を利用して、スライダSがベース絶縁層12に接触することを避けつつ、スライダSの端子T1を対応する磁気ヘッド接続端子13Aに近づけるとともに、発光素子Lの端子T2を対応する発光素子接続端子15Aに近づけることができる。
そして、スライダSの端子T1が対応する磁気ヘッド接続端子13Aに近づき、発光素子Lの端子T2が対応する発光素子接続端子15Aに近づいた状態で、磁気ヘッド接続端子13AをスライダSの端子T1に接続し、発光素子接続端子15Aを発光素子Lの端子T2に接続することができる。
その結果、スライダSおよび発光素子Lを、回路付サスペンション基板1に、円滑に搭載することができる。
また、この回路付サスペンション基板1によれば、図3に示すように、第2部分12Bは、第1部分12Aから開口4に向かうにつれて、ベース絶縁層12の一方面S1から他方面S2へ向かって傾斜する傾斜面S3を備える。
その結果、簡易な構成で、第2部分12Bの厚み方向一方側に空間を形成することができる。
また、この回路付サスペンション基板1によれば、図1に示すように、発光素子接続端子15Aの一部は、厚み方向において、磁気ヘッド接続端子13Aの一部と重なる。
詳しくは、発光素子接続端子15Aは、その一部が、厚み方向において、磁気ヘッド接続端子13Aの一部と重なり、その他の部分が、厚み方向において、磁気ヘッド接続端子13Aと重ならないように、磁気ヘッド接続端子13Aに対して幅方向にずれている。
そのため、磁気ヘッド接続端子13Aおよび発光素子接続端子15Aのいずれか一方の全部が、磁気ヘッド接続端子13Aおよび発光素子接続端子15Aのいずれか他方と重なるような場合と比べて、磁気ヘッド接続端子13AとスライダSの端子T1との接続部分と、発光素子接続端子15Aと発光素子Lの端子T2との接続部分とを、幅方向にずらして配置することができる。
その結果、磁気ヘッド接続端子13AとスライダSの端子T1との接続部分と、発光素子接続端子15Aと発光素子Lの端子T2との接続部分とが短絡することを、より確実に防止できる。
なお、磁気ヘッド接続端子13Aと発光素子接続端子15Aとを、互いに重ならないように大きくずらして配置すると、回路付サスペンション基板1が大型化するおそれがある。
しかし、上記の構成によれば、発光素子接続端子15Aの一部が磁気ヘッド接続端子13Aの一部と重なっているので、磁気ヘッド接続端子13AとスライダSの端子T1との接続部分と、発光素子接続端子15Aと光学素子Lの端子T2との接続部分とが短絡することを、より確実に防止できながら、回路付サスペンション基板1の大型化を抑制できる。
この回路付サスペンション基板1によれば、図7Bおよび図9に示すように、複数の発光素子接続端子15Aのうちの少なくとも1つは、スライダSが搭載されたときに、本体部L1に設けられる端子T2に電気的に接続され、厚み方向において第2部分12Bに重なる。
そのため、発光素子Lの本体部L1に接続される発光素子接続端子15Aを、発光素子Lの本体部L1の近くに配置することができる。
その結果、発光素子Lと発光素子接続端子15Aとを、より円滑に接続することができる。
なお、上記した実施形態では、第2部分12Bは、傾斜面S3を有する断面視楔形状を有しているが、図10に示すように、第2部分12Bは、一方面S1から他方面S2へ向かって凹むように、薄く形成されてもよい。この場合、スライダSおよび発光素子Lを先側へ寄せたときに、スライダSの先端は、第2部分12Bの上面と第1部分の後端面とによって区画される凹部D内に収容される。
1 回路付サスペンション基板
4 開口
12 ベース絶縁層
12A 第1部分
12B 第2部分
13A 磁気ヘッド接続端子
15A 発光素子接続端子
F 感光性樹脂層
H 磁気ヘッド
L 発光素子
L1 本体部
L2 出射部
M 金属基板
S スライダ
S1 一方面
S2 他方面
S3 傾斜面
S11 第1面
S12 第2面

Claims (6)

  1. 磁気ヘッドを備えるスライダと、前記磁気ヘッドをアシストするための電子素子とを搭載可能であり、前記スライダが搭載されたときに前記電子素子が挿通される開口を有する回路付サスペンション基板であって、
    前記開口の縁に配置される絶縁層と、
    前記絶縁層の厚み方向において前記絶縁層の一方面に配置され、前記スライダが搭載されたときに前記磁気ヘッドに対して電気的に接続される第1端子と、
    前記厚み方向において前記絶縁層の他方面に配置され、前記スライダが搭載されたときに前記電子素子に対して電気的に接続される第2端子と
    を備え、
    前記絶縁層は、
    前記第1端子が配置される第1部分と、
    前記厚み方向と直交する面方向において前記第1部分から前記開口に向かって延びる第2部分であって、前記スライダが搭載されたときに、前記厚み方向において前記スライダと重なる第2部分とを備え、
    前記第2部分は、前記厚み方向において、前記一方面から前記他方面へ向かって近づくように前記第1部分よりも薄く、かつ、前記第2端子に重なり、
    前記スライダは、前記厚み方向において、前記第2部分に対向する第1面と、前記第1面に対して前記第2部分の反対側に配置される第2面とを有し、
    前記第1面は、前記スライダが搭載されたときに、前記第1端子と前記第2端子との間に配置されることを特徴とする、回路付サスペンション基板。
  2. 前記第2部分は、前記第1部分から前記開口に向かうにつれて、前記一方面から前記他方面へ向かって傾斜する傾斜面を備えることを特徴とする、請求項1に記載の回路付サスペンション基板。
  3. 前記第2端子の一部は、前記厚み方向において、前記第1端子の一部と重なることを特徴とする、請求項1または2に記載の回路付サスペンション基板。
  4. 前記電子素子は、前記スライダに支持される本体部と、前記本体部から突出し、光を出射するための出射部とを備え、
    前記第2端子は、複数設けられ、
    複数の前記第2端子のうちの少なくとも1つは、前記スライダが搭載されたときに、前記本体部に電気的に接続され、前記厚み方向において前記第2部分に重なることを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の回路付サスペンション基板。
  5. 磁気ヘッドを備えるスライダと、前記磁気ヘッドをアシストするための電子素子とを搭載可能であり、前記スライダが搭載されたときに前記電子素子が挿通される開口を有する回路付サスペンション基板であって、
    前記開口の縁に配置される絶縁層と、
    前記絶縁層の厚み方向において前記絶縁層の一方面に配置され、前記スライダが搭載されたときに前記磁気ヘッドに対して電気的に接続される第1端子と、
    前記厚み方向において前記絶縁層の他方面に配置され、前記スライダが搭載されたときに前記電子素子に対して電気的に接続される第2端子と
    を備え、
    前記絶縁層は、
    前記第1端子が配置される第1部分と、
    前記厚み方向と直交する第1面方向において前記第1部分から前記開口に向かって延びる第2部分であって、前記スライダが搭載されたときに、前記厚み方向において前記スライダと重なる第2部分とを備え、
    前記第2部分は、前記前記第1部分から前記開口に向かうにつれて、前記一方面から前記他方面へ向かって傾斜する傾斜面を備え、
    前記スライダは、前記厚み方向において、前記第2部分に対向する第1面と、前記第1面に対して前記第2部分の反対側に配置される第2面とを有し、
    前記第1面は、前記スライダが搭載されたときに、前記第1端子と前記第2端子との間に配置されることを特徴とする、回路付サスペンション基板。
  6. 磁気ヘッドを備えるスライダと、前記磁気ヘッドをアシストするための電子素子とが搭載されたときに前記電子素子が挿通される開口を有し、前記開口の縁に配置される絶縁層と、前記絶縁層の厚み方向において前記絶縁層の一方面に配置される第1端子と、前記厚み方向において前記絶縁層の他方面に配置される第2端子とを備える回路付サスペンション基板の製造方法であって、
    金属基板の上に感光性樹脂層を形成する工程と、
    前記感光性樹脂層を階調露光することにより、第1部分と、前記厚み方向と直交する面方向において前記第1部分から前記開口に向かって延び、前記第1部分よりも薄い第2部分とを備える前記絶縁層を形成する工程と、
    前記第1部分の上に第1端子を形成する工程と、
    前記金属基板をエッチングして、前記開口を形成するとともに、前記厚み方向において前記第2部分に重なるように、前記金属基板から形成される部分を含む前記第2端子を形成する工程と
    を含む、回路付サスペンション基板の製造方法。
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