JP2018021220A - 成膜装置、保持具、および、これらを用いた電子部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図4は、被成膜物の一例である3端子型の積層コンデンサの製造方法を示すフローチャートである。なお、以下に示す積層コンデンサの製造方法は、製造過程の途中段階まで一括して加工処理を行なうことでマザー積層体を製作し、その後にマザー積層体を分断して個片化し、個片化後の軟質積層体にさらに加工処理を施すことによって複数の積層コンデンサ100を同時に大量に生産する方法である。
以下、本発明の一実施形態に係る成膜装置の構成について図を参照して説明する。本実施形態に係る成膜装置200は、スパッタリング装置であるが、成膜装置200は、他の乾式めっきを行なう装置であってもよい。
以下、搬送部250の水平方向に対する傾斜角度αを変更して成膜の位置精度を検証した実験例について説明する。
Claims (7)
- 成膜室と、
前記成膜室の内部に位置する成膜源と、
前記成膜室内において被成膜物が前記成膜源の上方を前記成膜源と対向しつつ通過するように被成膜物を搬送する搬送部と、
水平方向に対して傾いて位置するように前記搬送部に取り付けられ、被成膜物を収容して保持する収容部を有する保持具とを備え、
前記収容部は、略矩形状の内周壁を有し、
被成膜物は、前記保持具の傾きにより、前記収容部内において前記内周壁の1つの角部に偏って位置して前記内周壁と接している、成膜装置。 - 前記保持具は、
前記内周壁を構成する枠部材と、
前記枠部材と隣接したマスキング部材とを含む、請求項1に記載の成膜装置。 - 前記成膜室に隣接して設けられた第1減圧室と、
前記成膜室に隣接して設けられた第2減圧室とをさらに備え、
前記搬送部は、前記第1減圧室、前記成膜室および前記第2減圧室をこの順に通過する、請求項1または請求項2に記載の成膜装置。 - 前記成膜源は、複数のターゲットからなり、
前記複数のターゲットは、前記搬送部の搬送方向に並んで配置されている、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 被成膜物を収容して保持する収容部を有する保持具であって、
枠部材と、
前記枠部材と隣接したマスキング部材とを備え、
前記収容部は、略矩形状の内周壁を有し、
前記枠部材は、前記内周壁を構成している、保持具。 - 前記保持具は、水平方向に対して傾いて位置し、
被成膜物は、前記保持具の傾きにより、前記収容部内において前記内周壁の1つの角部に偏って位置して前記内周壁と接している、請求項5に記載の保持具。 - 請求項2に記載の成膜装置において2つの前記保持具を用いて被成膜物である電子部品を製造する方法であって、
2つの前記保持具のうちの第1保持具の前記収容部に被成膜物を収容する工程と、
2つの前記保持具のうちの第2保持具の前記収容部が前記第1保持具の対応する前記収容部と連通するように、前記第1保持具の前記枠部材上に前記第2保持具の前記枠部材を重ね合わせる工程と、
前記第1保持具および前記第2保持具を前記搬送部に取り付ける工程と、
前記搬送部を稼働させて、前記電子部品の下側を成膜する工程と、
前記第1保持具と前記第2保持具とを上下反転させた状態で前記搬送部に取り付ける工程と、
前記搬送部を稼働させて、上下反転した状態の前記電子部品の下側に成膜する工程とを備える、電子部品の製造方法。
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