JP2018015765A - 粉塵対策装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】粉塵によるレーザ発振器の故障を防止できる粉塵対策装置を提供する。【解決手段】粉塵対策装置は、コアを支持するコア支持部と、コアに巻き回されると共に導体を絶縁膜で覆われてなる導線を、保持する導線保持部と、導線にレーザ光を照射して導線の絶縁膜の少なくとも一部を剥離するレーザ発振器と、導線におけるレーザ光が照射される被照射部分とレーザ発振器との間に配置され、レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるレーザ保護ガラスと、レーザ保護ガラスにおける導線側の一面に気流を発生させ、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を吸引して、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を除去する粉塵除去部とを有する。【選択図】図1

Description

本発明は、粉塵対策装置に関する。
従来、コイル部品を製造するには、特開2009−224599号公報(特許文献1)に示されるように、導線をコアに巻回している途中で、レーザ発振器から導線の絶縁膜にレーザ光を照射して、導線の絶縁膜を剥離している。
特開2009−224599号公報
ところで、前記従来のように、コイル部品を製造すると、次の問題があることを見出した。
導線の絶縁膜にレーザ光を照射して絶縁膜を剥離する際に、粉塵が発生する。そして、この粉塵がレーザ発振器内に入り込んで、レーザ発振器が故障するおそれがある。レーザ発振器が故障した場合、レーザ発振器のメンテナンスのコストが大きくなる。
そこで、本発明の課題は、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止できる粉塵対策装置を提供することにある。
前記課題を解決するため、本発明の粉塵対策装置は、
コアを支持するコア支持部と、
前記コアに巻き回されると共に導体を絶縁膜で覆われてなる導線を、保持する導線保持部と、
前記導線にレーザ光を照射して前記導線の絶縁膜の少なくとも一部を剥離するレーザ発振器と、
前記導線におけるレーザ光が照射される被照射部分と前記レーザ発振器との間に配置され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるレーザ保護ガラスと、
前記レーザ保護ガラスにおける前記導線側の一面に気流を発生させ、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引して、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を除去する粉塵除去部と
を備える。
本発明の粉塵対策装置によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分とレーザ発振器との間に配置され、レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させる。これにより、レーザ光の照射により絶縁膜を剥離する際に粉塵が発生するが、レーザ保護ガラスが、粉塵のレーザ発振器への進入を防止する。したがって、レーザ発振器が粉塵により故障することを防止できる。
また、粉塵除去部は、レーザ保護ガラスの一面に気流を発生させ、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を吸引して、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を除去する。これにより、粉塵がレーザ保護ガラスの一面に付着することを防止する。したがって、粉塵がレーザ光の光路を遮らない。
したがって、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止し、さらに、粉塵によるレーザ光の強度低下を防止できる。
また、粉塵対策装置の一実施形態では、前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の下側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの下側に配置されている。
前記実施形態によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分の下側に配置され、レーザ発振器は、レーザ保護ガラスの下側に配置されている。これにより、レーザ発振器から出射されたレーザ光は、レーザ保護ガラスを下側から通過して、導線を下側から照射する。このため、粉塵(特に、固体の状態の粉塵)が、重力の影響により、レーザ保護ガラスの一面に落下しても、粉塵除去部により、落下した粉塵を有効に除去できる。
また、粉塵対策装置の一実施形態では、前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の上側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの上側に配置されている。
前記実施形態によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分の上側に配置され、レーザ発振器は、レーザ保護ガラスの上側に配置されている。これにより、レーザ発振器から出射されたレーザ光は、レーザ保護ガラスを上側から通過して、導線を上側から照射する。このため、粉塵が、上昇気流の影響により、レーザ保護ガラスに到達するまで上昇しても、粉塵除去部により、上昇した粉塵を有効に除去できる。
また、粉塵対策装置の一実施形態では、
前記レーザ発振器は、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器とを有し、
前記第1レーザ発振器と前記第2レーザ発振器とは、前記導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されている。
ここで、対向する位置とは、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器のレーザ光の光軸が、同軸上にあってもよいし、同軸上になくてもよいことを意味する。レーザ光の光軸同士が平行、かつ、所定距離ずれていてもよい。レーザ光の光軸同士が平行でない角度(179°等の180°以外の角度)で交わっていてもよい。
前記実施形態によれば、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器とは、導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されているので、第1レーザ発振器および第2レーザ発振器からレーザ光を照射して、導線の絶縁膜の全周を剥離することができる。
また、粉塵対策装置の一実施形態では、前記レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、前記導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にある。
前記実施形態によれば、レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にあるので、レーザ発振器のレーザ光を導線の被照射部分の斜め下方から照射することができる。これにより、粉塵がレーザ発振器の出射孔の直上に落下せず、レーザ光の強度低下を防止できる。
また、粉塵対策装置の一実施形態では、前記粉塵除去部は、前記レーザ保護ガラスの前記一面にエアを吹き付けるブロワと、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引するバキュームとを有する。
前記実施形態によれば、粉塵除去部は、ブロワとバキュームとを有する。これにより、粉塵除去部を簡単な構成とできる。
本発明の粉塵対策装置によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分とレーザ発振器との間に配置され、レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるので、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止できる。また、粉塵除去部は、レーザ保護ガラスの一面に気流を発生させ、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を吸引して、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を除去するので、粉塵によるレーザ光の強度低下を防止できる。
本発明の粉塵対策装置の第1実施形態を示す簡略構成図である。 図1のコアの拡大図である。 第1レーザ発振器によりレーザ光を照射したときの状態を説明する説明図である。 第2レーザ発振器によりレーザ光を照射したときの状態を説明する説明図である。 コイル部品の製造方法を説明する説明図である。 コイル部品の製造方法を説明する説明図である。 コイル部品の製造方法を説明する説明図である。 本発明の粉塵対策装置の第2実施形態を示す簡略構成図である。
以下、本発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の粉塵対策装置の第1実施形態を示す簡略構成図である。図2は、図1のコアの拡大図である。図1と図2に示すように、粉塵対策装置1は、コア10を支持するコア支持部60と、コア10に巻き回される導線21を保持する導線保持部80とを有する。コア10に導線21が巻き回されてコイル部品を構成する。
粉塵対策装置1は、さらに、導線21にレーザ光Lを照射して導線21の絶縁膜を剥離する第1レーザ発振器31と、第1レーザ発振器31から出射されたレーザ光Lを透過させる第1レーザ保護ガラス41と、第1レーザ保護ガラス41上の粉塵を除去する第1粉塵除去部51とを有する。
粉塵対策装置1は、さらに、導線21にレーザ光Lを照射して導線21の絶縁膜を剥離する第2レーザ発振器32と、第2レーザ発振器32から出射されたレーザ光Lを透過させる第2レーザ保護ガラス42と、第2レーザ保護ガラス42上の粉塵を除去する第2粉塵除去部52とを有する。
コア10は、巻芯部13と、巻芯部13の一端に設けられた第1鍔部11と、巻芯部13の他端に設けられた第2鍔部12とを有する。コア10の材料としては、例えば、アルミナ(非磁性体)や、Ni−Zn系フェライト(磁性体、絶縁体)や、樹脂などの材料を用いる。
巻芯部13の形状は、例えば、直方体である。第1鍔部11の形状と第2鍔部12の形状は、例えば、矩形の平板である。第1鍔部11の底面には、第1電極14が設けられている。第2鍔部12の底面には、第2電極15が設けられている。第1、第2電極14,15の材料は、例えば、Ag等である。コア10は、第1鍔部11と第2鍔部12を結ぶ方向に延在する巻芯部13の中心AがY方向に一致し、第1、第2電極14,15がX方向を向くように、XY面上に設置される。Z方向は、上下方向に一致する。
導線21は、巻芯部13に中心Aに沿ってコイル状に巻き回される。後述するように、導線21の一端側は、第1電極14に接続され、導線21の他端側は、第2電極15に接続されて、導線21は、第1、第2電極14,15に電気的に接続される。導線21は、導体を絶縁膜で覆われてなる。導体は、例えば、銅線から構成される。絶縁膜は、例えば、耐熱性材料であるポリアミドイミド(AIW)から構成される。
導線保持部80は、第1鍔部11および第2鍔部12のそれぞれの中心A方向外側の端面に、設けられている。導線保持部80は、例えば、板金から構成される。第1鍔部11側の導線保持部80は、第1鍔部11の端面に固定される固定部81と、中心A方向(Y方向)に沿って延在すると共に固定部81に折曲可能に接続される折曲部82とを有する。折曲部82の一端は、固定部81に接続され、折曲部82は、この一端を中心としてX方向に揺動可能に折り曲げられる。折曲部82の他端には、係止部82aが設けられ、この係止部82aに導線21の端部が係止される。第2鍔部12側の導線保持部80は、第1鍔部11側の導線保持部80と同様の構成である。
したがって、巻芯部13に巻き回された導線21の一端は、第1鍔部11側の導線保持部80の折曲部82の係止部82aに係止され、巻芯部13に巻き回された導線21の他端は、第2鍔部12側の導線保持部80の折曲部82の係止部82aに係止される。
コア支持部60は、ベース板70の上側に取り付けられる。ベース板70は、支持脚75を介して水平面に設置される。コア支持部60は、コア10の第2鍔部12を保持できるように構成される。具体的に述べると、コア支持部60は、第2鍔部12をZ方向の両側から挟む。
コア支持部60は、コア支持部60に支持されたコア10を、巻芯部13の中心Aに沿って移動可能とするように、構成されている。これにより、コア10に巻き回された導線21の所望の位置に、レーザ光Lを照射させることができる。
第1、第2レーザ発振器31,32は、それぞれ、導線21の予め定められた接続位置に向けてレーザ光Lを照射して、導線21の絶縁膜の少なくとも一部を剥離する。導線21の接続位置は、第1、第2電極14,15のそれぞれに対向する位置であり、第1、第2電極14,15のそれぞれに接続される位置である。導線21において、レーザ光Lが照射される部分を被照射部分21aとする。被照射部分21aについて、図1では黒丸で示し、図2ではハッチングで示す。
ここで、第1、第2レーザ発振器31,32は、それぞれ、レーザ光Lを走査させながら300ミリ角の範囲を照射でき、この300ミリ角のレーザ照射範囲に導線21を配置させてレーザ光Lをそれぞれ照射する。なお、1回の照射時間は約数ms程度であり、連続的に複数回照射して複数の剥離を行ったとしても全体にかかる時間は約1秒以内となる。
レーザ光Lは、例えば、第2高調波(SHG(second harmonic generation))のレーザ光であり、このレーザの波長は約532nm程度である。そのため、耐熱性材料であるポリアミドイミドからなる各導線21の絶縁膜を透過することができ、絶縁膜と導体との界面位置で絶縁膜を最適に除去することが可能となる。
第1レーザ発振器31と第2レーザ発振器32とは、導線21の被照射部分21aに対して互いに対向する位置に配置されている。ここで、対向する位置とは、第1レーザ発振器31と第2レーザ発振器32のレーザ光Lの光軸が、同軸上にあってもよいし、同軸上になくてもよいことを意味する。レーザ光Lの光軸同士が平行、かつ、所定距離ずれていてもよい。レーザ光Lの光軸同士が平行でない角度(179°等の180°以外の角度)で交わっていてもよい。
第1レーザ発振器31は、導線21の被照射部分21aの下側に配置され、第2レーザ発振器32は、導線21の被照射部分21aの上側に配置されている。これにより、第1レーザ発振器31および第2レーザ発振器32からレーザ光Lを照射して、導線21の絶縁膜の全周を剥離することができる。したがって、絶縁膜を剥離するのに必要とされる工程作業時間(タクトタイム)をより短縮することが可能となる。
第1レーザ発振器31は、ベース板70の下側に配置されている。ベース板70は、第1レーザ発振器31から出射されるレーザ光Lが通過する貫通孔71を有する。貫通孔71は、例えば、スリット状に形成され、レーザ光Lがスリットに沿って走査できるようになっている。
第1レーザ保護ガラス41は、導線21の被照射部分21aと第1レーザ発振器31との間に配置され、第1レーザ発振器31から出射されたレーザ光Lを透過させる。第1レーザ保護ガラス41は、導線21の被照射部分21aの下側に配置され、第1レーザ発振器31は、第1レーザ保護ガラス41の下側に配置されている。第1レーザ保護ガラス41は、ベース板70の下側に配置されている。ベース板70の貫通孔71は、上下方向、第1レーザ保護ガラス41に重なる。
第2レーザ保護ガラス42は、導線21の被照射部分21aと第2レーザ発振器32との間に配置され、第2レーザ発振器32から出射されたレーザ光Lを透過させる。第2レーザ保護ガラス42は、導線21の被照射部分21aの上側に配置され、第2レーザ発振器32は、第2レーザ保護ガラス42の上側に配置されている。第2レーザ保護ガラス42は、ベース板70の上側に配置されている。
第1粉塵除去部51は、第1レーザ保護ガラス41における導線21側の一面41a(この実施形態では上面)に気流を発生させ、第1レーザ保護ガラス41の一面41aの粉塵を吸引して、第1レーザ保護ガラス41の一面41aの粉塵を除去する。第1粉塵除去部51は、第1レーザ保護ガラス41の一面41aにエアを吹き付けるブロワ55と、第1レーザ保護ガラス41の一面41aの粉塵を吸引するバキューム56とを有する。ブロワ55とバキューム56は、ブロワ55の吹出側とバキューム56の吸込側とが対向するように、第1レーザ保護ガラス41の一面41a側に配置されている。このように、第1粉塵除去部51はブロワ55およびバキューム56から構成されているので、第1粉塵除去部51を簡単な構成とできる。
第2粉塵除去部52は、第2レーザ保護ガラス42における導線21側の一面42a(この実施形態では下面)に気流を発生させ、第2レーザ保護ガラス42の一面42aの粉塵を吸引して、第2レーザ保護ガラス42の一面42aの粉塵を除去する。第2粉塵除去部52は、第1粉塵除去部51と同様に、第2レーザ保護ガラス42の一面42aにエアを吹き付けるブロワ55と、第2レーザ保護ガラス42の一面42aの粉塵を吸引するバキューム56とを有する。
次に、コイル部品の製造方法について説明する。コイル部品の製造方法では、導線21を、コア10に巻き回し、第1、第2電極14,15にそれぞれ接続する。この工程について以下に詳細に説明する。
図2に示すように、コア10に導線21を巻き回し、導線21の両端を導線保持部80の係止部82aに係止させて、コア支持部60によってコア10の第2鍔部12を掴んで固定する。
そして、第1鍔部11の第1電極14に接続される導線21の接続位置の絶縁膜を全周剥離する。具体的に述べると、導線21の接続位置を、コア支持部60により、第1、第2レーザ発振器31,32のレーザ光Lの照射範囲に移動させ、第1、第2レーザ発振器31,32からレーザ光Lを照射して、導線21の被照射部分21aの絶縁膜を全周剥離する。レーザ光Lを照射する際、図5Aに示すように、導線保持部80により、導線21の接続位置を第1電極14から離隔した状態に保持する。つまり、導線21の被照射部分21aは、第1電極14に接触していない。
ここで、第1レーザ発振器31によりレーザ光Lを照射したときの状態を説明する。図3に示すように、第1レーザ発振器31から出射されたレーザ光Lは、第1レーザ保護ガラス41を下側から通過して、導線21を下側から照射する。
レーザ光Lの照射により導線21の被照射部分21aの絶縁膜を剥離する際に、粉塵Fが発生する。粉塵F(特に、固体の状態の粉塵F)は、重力の影響により、ベース板70の貫通孔71を通って、第1レーザ発振器31側に落下する。図3では、分かりやすくするために、粉塵Fの量を多く描いている。このとき、第1レーザ保護ガラス41は、粉塵Fの第1レーザ発振器31への進入を防止する。したがって、第1レーザ発振器31が粉塵Fにより故障することを防止できる。
さらに、第1粉塵除去部51のブロワ55は、第1レーザ保護ガラス41の一面41aにエアを吹き付け、第1粉塵除去部51のバキューム56は、第1レーザ保護ガラス41の一面41aの粉塵Fを吸引する。これにより、粉塵Fが第1レーザ保護ガラス41の一面41aに落下しても、第1粉塵除去部51により、落下した粉塵Fを除去できて、粉塵Fが第1レーザ保護ガラス41の一面41aに積もることを防止する。したがって、粉塵Fがレーザ光Lの光路を遮らない。
このように、粉塵対策装置1は、第1レーザ保護ガラス41および第1粉塵除去部51を有するので、粉塵Fによる第1レーザ発振器31の故障を防止し、さらに、粉塵Fによるレーザ光Lの強度低下を防止できる。
続いて、第2レーザ発振器32によりレーザ光Lを照射したときの状態を説明する。図4に示すように、第2レーザ発振器32から出射されたレーザ光Lは、第2レーザ保護ガラス42を上側から通過して、導線21を上側から照射する。
レーザ光Lの照射により導線21の被照射部分21aの絶縁膜を剥離する際に、粉塵Fが発生する。粉塵Fは、上昇気流の影響により、第2レーザ保護ガラス42に到達するまで上昇する。図4では、分かりやすくするために、粉塵Fの量を多く描いている。このとき、第2レーザ保護ガラス42は、粉塵Fの第2レーザ発振器32への進入を防止する。したがって、第2レーザ発振器32が粉塵Fにより故障することを防止できる。
さらに、第2粉塵除去部52のブロワ55は、第2レーザ保護ガラス42の一面42aにエアを吹き付け、第2粉塵除去部52のバキューム56は、第2レーザ保護ガラス42の一面42aの粉塵Fを吸引する。これにより、粉塵Fが第2レーザ保護ガラス42の一面42aに到達しても、第2粉塵除去部52により、上昇した粉塵Fを除去できて、粉塵Fが第2レーザ保護ガラス42の一面42aに付着することを防止する。したがって、粉塵Fがレーザ光Lの光路を遮らない。
このように、粉塵対策装置1は、第2レーザ保護ガラス42および第2粉塵除去部52を有するので、粉塵Fによる第2レーザ発振器32の故障を防止し、さらに、粉塵Fによるレーザ光Lの強度低下を防止できる。
そして、第2鍔部12の第2電極15に接続される導線21の接続位置の絶縁膜をそれぞれ全周剥離する。具体的に述べると、導線21の接続位置を、コア支持部60により、第1、第2レーザ発振器31,32のレーザ光Lの照射範囲に移動させ、第1、第2レーザ発振器31,32からレーザ光Lを照射して、導線21の被照射部分21aの絶縁膜を全周剥離する。レーザ光Lを照射する際、導線21の接続位置は、導線保持部80により、第2電極15から離隔した状態に保持される。第1、第2レーザ発振器31,32によりレーザ光Lを照射したときの状態は、上述の図3、図4で説明した通りである。
図5Aに示すように、第1電極14に対向する導線21の被照射部分21aは、導線保持部80により、第1電極14から離隔した状態にある。その後、図5Bに示すように、折曲部82を固定部81側に折り曲げて、導線21の被照射部分21aを第1電極14に接触させる。そして、図5Cに示すように、導線21の被照射部分21aと第1電極14とを、レーザ溶接によって接続して、導線21に接続部21bを形成する。このとき、導線21の余分なリード部21cは、折曲部82の弾性などにより、接続部21bから離隔する。図5Bと図5Cに示す工程は、コア10をコア支持部60から取り外して行ってもよく、または、コア10をコア支持部60に取り付けたまま行ってもよい。なお、第2電極15に対向する導線21の被照射部分21aについても、同様の工程を行う。
最後に、導線保持部80の折曲部82を切断して、折曲部82とともにリード部21cを除去する。これにより、コイル部品を製造する。
前記粉塵対策装置1によれば、第1、第2レーザ保護ガラス41,42を有するので、粉塵が第1、第2レーザ発振器31,32に進入することを防止する。したがって、第1、第2レーザ発振器31,32が粉塵により故障することを防止できる。
また、第1、第2粉塵除去部51,52を有するので、粉塵が第1、第2レーザ保護ガラス41,42の一面41a,42aに付着することを防止する。したがって、粉塵がレーザ光Lの光路を遮らない。
したがって、粉塵による第1、第2レーザ発振器31,32の故障を防止し、さらに、粉塵によるレーザ光Lの強度低下を防止できる。
(第2実施形態)
図6は、本発明の粉塵対策装置の第2実施形態を示す簡略構成図である。第2実施形態は、第1実施形態とは、第1レーザ発振器の位置が相違する。この相違する構成を以下に説明する。なお、第2実施形態において、第1実施形態と同一の符号は、第1実施形態と同じ構成であるため、その説明を省略する。
図6に示すように、第1レーザ発振器31のレーザ光Lの出射孔31aは、導線21の被照射部分21aの直下(矢印Z方向)と重ならずにずれた位置にある。つまり、レーザ光Lの光軸は、被照射部分21aの直下方向(矢印Z方向)に一致せず、矢印Z方向と交差する。
これにより、第1レーザ発振器31のレーザ光Lを導線21の被照射部分21aの斜め下方から照射することができる。したがって、粉塵が第1レーザ発振器31の出射孔31aの直上に落下せず、レーザ光Lの強度低下を防止できる。
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で設計変更可能である。例えば、第1から第2実施形態のそれぞれの特徴点を様々に組み合わせてもよい。
前記実施形態では、上下の2つのレーザ発振器を用いているが、下側の第1レーザ発振器または上側の第2レーザ発振器の何れかを用いてもよい。このとき、好ましくは、1つのレーザ発振器により、導線の一部に向けてレーザ照射し導線の周方向の略半分を剥離した後に、絶縁膜が剥離された側を反転させて絶縁膜が残っている側をレーザ発振器に対向させて再度レーザ照射し残っている絶縁膜を剥離して全周を剥離する。
前記実施形態では、2つのレーザ発振器を上下に配置しているが、2つのレーザ発振器を、水平方向に配置するようにしてもよい。このとき、好ましくは、2つのレーザ発振器を、導線の被照射部分に対して対向するように配置する。
前記実施形態では、1本の導線をコアに巻き回しているが、2本以上の導線をコアに巻き回すようにしてもよい。また、前記実施形態では、導線保持部は、板金から構成されているが、この構成に限定されない。
前記実施形態では、導線の絶縁膜の全周を剥離して、導線と第1電極、第2電極を接続しているが、導線の絶縁膜の周方向の略半分のみを剥離して、導線と第1電極、第2電極を接続してもよい。
1 粉塵対策装置
10 コア
11 第1鍔部
12 第2鍔部
13 巻芯部
14 第1電極
15 第2電極
21 導線
21a 被照射部分
31 第1レーザ発振器
31a 出射孔
32 第2レーザ発振器
32a 出射孔
41 第1レーザ保護ガラス
41a 一面
42 第2レーザ保護ガラス
42a 一面
51 第1粉塵除去部
52 第2粉塵除去部
55 ブロワ
56 バキューム
60 コア支持部
70 ベース板
71 貫通孔
80 導線保持部
81 固定部
82 折曲部
82a 係止部
F 粉塵
L レーザ光

Claims (6)

  1. コアを支持するコア支持部と、
    前記コアに巻き回されると共に導体を絶縁膜で覆われてなる導線を、保持する導線保持部と、
    前記導線にレーザ光を照射して前記導線の絶縁膜の少なくとも一部を剥離するレーザ発振器と、
    前記導線におけるレーザ光が照射される被照射部分と前記レーザ発振器との間に配置され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるレーザ保護ガラスと、
    前記レーザ保護ガラスにおける前記導線側の一面に気流を発生させ、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引して、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を除去する粉塵除去部と
    を備える、粉塵対策装置。
  2. 前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の下側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの下側に配置されている、請求項1に記載の粉塵対策装置。
  3. 前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の上側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの上側に配置されている、請求項1に記載の粉塵対策装置。
  4. 前記レーザ発振器は、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器とを有し、
    前記第1レーザ発振器と前記第2レーザ発振器とは、前記導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されている、請求項1に記載の粉塵対策装置。
  5. 前記レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、前記導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にある、請求項2に記載の粉塵対策装置。
  6. 前記粉塵除去部は、前記レーザ保護ガラスの前記一面にエアを吹き付けるブロワと、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引するバキュームとを有する、請求項1から5の何れか一つに記載の粉塵対策装置。
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