JP6596393B2 - コイル部品の製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、コイル部品の製造装置に関する。

従来、コイル部品の製造装置としては、特開２００９−２２４５９９号公報（特許文献１）に記載されたものがある。この製造装置では、導線をコアに巻回している途中で、レーザ発振器から導線の絶縁膜にレーザ光を照射して、導線の絶縁膜を剥離している。

特開２００９−２２４５９９号公報

ところで、前記従来のコイル部品の製造装置を実際に使用すると、次の問題があることを見出した。

導線の絶縁膜にレーザ光を照射して絶縁膜を剥離する際に、粉塵が発生する。そして、この粉塵がレーザ発振器内に入り込んで、レーザ発振器が故障するおそれがある。レーザ発振器が故障した場合、レーザ発振器のメンテナンスのコストが大きくなる。

そこで、本発明の課題は、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止できるコイル部品の製造装置を提供することにある。

前記課題を解決するため、本発明のコイル部品の製造装置は、
コアと、該コアに巻き回され、導体を絶縁膜で覆われてなる導線と、該コアに設けられ、該導線と接続される電極とを有するコイル部品を製造するコイル部品の製造装置であって、
前記コアを支持するコア支持部と、
前記コアに対して前記導線を繰り出すノズルと、
前記導線にレーザ光を照射して前記導線の絶縁膜の少なくとも一部を剥離するレーザ発振器と、
前記導線におけるレーザ光が照射される被照射部分と前記レーザ発振器との間に配置され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるレーザ保護ガラスと、
前記レーザ保護ガラスにおける前記導線側の一面に気流を発生させ、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引して、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を除去する粉塵除去機構と
を備える。

本発明のコイル部品の製造装置によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分とレーザ発振器との間に配置され、レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させる。これにより、レーザ光の照射により絶縁膜を剥離する際に粉塵が発生するが、レーザ保護ガラスが、粉塵のレーザ発振器への進入を防止する。したがって、レーザ発振器が粉塵により故障することを防止できる。

また、粉塵除去機構は、レーザ保護ガラスの一面に気流を発生させ、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を吸引して、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を除去する。これにより、粉塵がレーザ保護ガラスの一面に付着することを防止する。したがって、粉塵がレーザ光の光路を遮らない。

したがって、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止し、さらに、粉塵によるレーザ光の強度低下を防止できる。

また、コイル部品の製造装置の一実施形態では、前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の下側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの下側に配置されている。

前記実施形態によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分の下側に配置され、レーザ発振器は、レーザ保護ガラスの下側に配置されている。これにより、レーザ発振器から出射されたレーザ光は、レーザ保護ガラスを下側から通過して、導線を下側から照射する。このため、粉塵（特に、固体の状態の粉塵）が、重力の影響により、レーザ保護ガラスの一面に落下しても、粉塵除去機構により、落下した粉塵を有効に除去できる。

また、コイル部品の製造装置の一実施形態では、前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の上側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの上側に配置されている。

前記実施形態によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分の上側に配置され、レーザ発振器は、レーザ保護ガラスの上側に配置されている。これにより、レーザ発振器から出射されたレーザ光は、レーザ保護ガラスを上側から通過して、導線を上側から照射する。このため、粉塵が、上昇気流の影響により、レーザ保護ガラスに到達するまで上昇しても、粉塵除去機構により、上昇した粉塵を有効に除去できる。

また、コイル部品の製造装置の一実施形態では、
前記レーザ発振器は、第１レーザ発振器と第２レーザ発振器とを有し、
前記第１レーザ発振器と前記第２レーザ発振器とは、前記導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されている。

ここで、対向する位置とは、第１レーザ発振器と第２レーザ発振器のレーザ光の光軸が、同軸上にあってもよいし、同軸上になくてもよいことを意味する。レーザ光の光軸同士が平行、かつ、所定距離ずれていてもよい。レーザ光の光軸同士が平行でない角度（179°等の180°以外の角度）で交わっていてもよい。

前記実施形態によれば、第１レーザ発振器と第２レーザ発振器とは、導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されているので、第１レーザ発振器および第２レーザ発振器からレーザ光を照射して、導線の絶縁膜の全周を剥離することができる。

また、コイル部品の製造装置の一実施形態では、前記レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、前記導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にある。

前記実施形態によれば、レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にあるので、レーザ発振器のレーザ光を導線の被照射部分の斜め下方から照射することができる。これにより、粉塵がレーザ発振器の出射孔の直上に落下せず、レーザ光の強度低下を防止できる。

また、コイル部品の製造装置の一実施形態では、
前記コア支持部を上側に取り付けるベース板を有し、
前記レーザ保護ガラスおよび前記レーザ発振器は、前記ベース板の下側に配置され、
前記ベース板は、前記レーザ発振器から出射されるレーザ光が通過する貫通孔と、前記貫通孔の上側の開口端を囲む壁部とを有する。

前記実施形態によれば、ベース板は、レーザ発振器から出射されるレーザ光が通過する貫通孔と、貫通孔の上側の開口端を囲む壁部とを有する。これにより、粉塵がベース板の上面に堆積しても、壁部により、堆積した粉塵がベース板の貫通孔に落下することを防止できる。

また、コイル部品の製造装置の一実施形態では、前記壁部の上部が上下方向からみて前記貫通孔に重なって、前記壁部の上部の開口幅が前記貫通孔の上側の開口端の開口幅よりも狭くなる。

前記実施形態によれば、壁部の上部が上下方向からみて貫通孔に重なって、壁部の上部の開口幅が貫通孔の上側の開口端の開口幅よりも狭くなる。これにより、壁部が、粉塵のベース板の貫通孔への落下を一層防止できる。

また、コイル部品の製造装置の一実施形態では、前記粉塵除去機構は、前記レーザ保護ガラスの前記一面にエアを吹き付けるブロワと、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引するバキュームとを有する。

前記実施形態によれば、粉塵除去機構は、ブロワとバキュームとを有する。これにより、粉塵除去機構を簡単な構成とできる。

本発明のコイル部品の製造装置によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分とレーザ発振器との間に配置され、レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるので、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止できる。また、粉塵除去機構は、レーザ保護ガラスの一面に気流を発生させ、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を吸引して、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を除去するので、粉塵によるレーザ光の強度低下を防止できる。

本発明のコイル部品の製造装置の第１実施形態を示す簡略構成図である。 コイル部品の製造装置の一部を示す簡略斜視図である。 第１レーザ発振器によりレーザ光を照射したときの状態を説明する説明図である。 第２レーザ発振器によりレーザ光を照射したときの状態を説明する説明図である。 導線をコアに巻き回す状態を説明する説明図である。 本発明のコイル部品の製造装置の第２実施形態を示す簡略構成図である。 本発明のコイル部品の製造装置の第３実施形態を示す簡略構成図である。 本発明のコイル部品の製造装置の第４実施形態を示す簡略構成図である。

以下、本発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。

（第１実施形態）
図１は、本発明のコイル部品の製造装置の第１実施形態を示す簡略構成図である。図２は、コイル部品の製造装置の一部を示す簡略斜視図である。図１と図２に示すように、コイル部品の製造装置１は、コイル部品のコア１０を支持するコア支持部６０と、コア１０に対して第１導線２１を繰り出す第１ノズル１９と、コア１０に対して第２導線２２を繰り出す第２ノズル２０とを有する。なお、図１では、第２ノズル２０および第２導線２２を省略して描いている。

コイル部品の製造装置１は、さらに、第１、第２導線２１，２２にレーザ光Ｌを照射して第１、第２導線２１，２２の絶縁膜を剥離する第１レーザ発振器３１と、第１レーザ発振器３１から出射されたレーザ光Ｌを透過させる第１レーザ保護ガラス４１と、第１レーザ保護ガラス４１上の粉塵を除去する第１粉塵除去機構５１とを有する。

コイル部品の製造装置１は、さらに、第１、第２導線２１，２２にレーザ光Ｌを照射して第１、第２導線２１，２２の絶縁膜を剥離する第２レーザ発振器３２と、第２レーザ発振器３２から出射されたレーザ光Ｌを透過させる第２レーザ保護ガラス４２と、第２レーザ保護ガラス４２上の粉塵を除去する第２粉塵除去機構５２とを有する。

コイル部品の製造装置１は、コア１０の巻芯部１３の軸心Ａを回転軸としてコア１０を回転させることにより第１、第２導線２１，２２をコア１０の巻芯部１３の略全体にわたって巻き回して、バイファイラ構造のコイル部品を製造する。このコイル部品は、例えば、コモンモードチョークコイルである。

コア１０は、巻芯部１３と、巻芯部１３の一端に設けられた第１鍔部１１と、巻芯部１３の他端に設けられた第２鍔部１２とを有する。コア１０の材料としては、例えば、アルミナ（非磁性体）や、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト（磁性体、絶縁体）や、樹脂などの材料を用いる。

巻芯部１３の形状は、例えば、直方体である。第１鍔部１１の形状と第２鍔部１２の形状は、例えば、矩形の平板である。第１鍔部１１の底面および第２鍔部１２の底面には、それぞれ、第１電極１４および第２電極１５が設けられている。第１、第２電極１４，１５の材料は、例えば、Ａｇ等である。第１導線２１の先端は、コア１０の第１鍔部１１の第１電極１４に接合される。第２導線２２の先端は、コア１０の第１鍔部１１の第２電極１５に接合される。コア１０は、第１鍔部１１と第２鍔部１２とを結ぶ軸心Ａ方向がＹ方向に一致するように、ＸＹ面上に設置される。Ｚ方向は、上下方向に一致する。

第１，第２導線２１，２２は巻芯部１３にコイル状に巻き回され、導体を絶縁膜で覆われてなる。例えば、導体は銅線から構成され、絶縁膜は耐熱性材料であるポリアミドイミド（ＡＩＷ）から構成される。第１導線２１は、コア１０に巻き回されることで、一次側コイルを構成する。第２導線２２は、コア１０に巻き回されることで、二次側コイルを構成する。

コア支持部６０は、ベース板７０の上側に取り付けられる。ベース板７０は、支持脚７５を介して水平面に設置される。コア支持部６０は、コア１０の一方の第１鍔部１１を保持できるように構成される。また、コア支持部６０は、コア支持部６０に支持されたコア１０の巻芯部１３の軸心Ａを回転軸として回転するように構成されている。第１，第２導線２１，２２をコア１０の巻芯部１３に巻回するときに、コア１０をコア支持部６０で支持した状態で回転することにより、コア１０も巻芯部１３の軸心Ａを回転軸として回転し、第１、第２ノズル１９，２０から引き出される第１、第２導線２１，２２が巻芯部１３に巻回される。

また、コア支持部６０にはクランプ６１が設けられており、クランプ６１は、ノズル１８からそれぞれ引き出された第１，第２導線２１，２２の一端をそれぞれ狭持し、クランプ６１に狭持された第１，第２導線２１，２２の一端は、コア支持部６０に対して固定される。したがって、ノズル１８を移動させているときには、第１，第２導線２１，２２の一端は固定されているため、第１、第２ノズル１９，２０の移動に伴って第１，第２導線２１，２２が第１、第２ノズル１９，２０からそれぞれ引き出される。

第１、第２レーザ発振器３１，３２は、それぞれ、コア１０の近傍位置に配置される第１，第２導線２１，２２に向けてレーザ光Ｌを照射して、第１，第２導線２１，２２の絶縁膜の少なくとも一部を剥離する。第１，第２導線２１，２２において、それぞれ、レーザ光Ｌが照射される部分を被照射部分２１ａ，２２ａとする。被照射部分２１ａ，２２ａについて、図１では黒丸で示し、図２ではハッチングで示す。

ここで、第１、第２レーザ発振器３１，３２は、それぞれ、レーザ光Ｌを走査させながら３００ミリ角の範囲を照射でき、この３００ミリ角のレーザ照射範囲に第１，第２導線２１，２２を配置させてレーザ光Ｌをそれぞれ照射する。なお、１回の照射時間は約数ｍｓ程度であり、連続的に複数回照射して複数の剥離を行ったとしても全体にかかる時間は約１秒以内となる。

レーザ光Ｌは、例えば、第２高調波（ＳＨＧ（second harmonic generation））のレーザ光であり、このレーザの波長は約５３２ｎｍ程度である。そのため、耐熱性材料であるポリアミドイミドからなる各第１，第２導線２１，２２の絶縁膜を透過することができ、絶縁膜と各第１，第２導線２１，２２との界面位置で絶縁膜を最適に除去することが可能となる。

第１レーザ発振器３１と第２レーザ発振器３２とは、第１導線２１の被照射部分２１ａおよび第２導線２２の被照射部分２２ａに対して互いに対向する位置に配置されている。ここで、対向する位置とは、第１レーザ発振器３１と第２レーザ発振器３２のレーザ光Ｌの光軸が、同軸上にあってもよいし、同軸上になくてもよいことを意味する。レーザ光Ｌの光軸同士が平行、かつ、所定距離ずれていてもよい。レーザ光Ｌの光軸同士が平行でない角度（179°等の180°以外の角度）で交わっていてもよい。

第１レーザ発振器３１は、第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２２ａの下側に配置され、第２レーザ発振器３２は、第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２２ａの上側に配置されている。これにより、第１レーザ発振器３１および第２レーザ発振器３２からレーザ光Ｌを照射して、第１、第２導線２１，２２の絶縁膜の全周を剥離することができる。したがって、絶縁膜を剥離するのに必要とされる工程作業時間（タクトタイム）をより短縮することが可能となる。

第１レーザ発振器３１は、ベース板７０の下側に配置されている。ベース板７０は、第１レーザ発振器３１から出射されるレーザ光Ｌが通過する貫通孔７１を有する。貫通孔７１は、例えば、スリット状に形成され、レーザ光Ｌがスリットに沿って走査できるようになっている。

第１レーザ保護ガラス４１は、第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２２ａと第１レーザ発振器３１との間に配置され、第１レーザ発振器３１から出射されたレーザ光Ｌを透過させる。第１レーザ保護ガラス４１は、第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２２ａの下側に配置され、第１レーザ発振器３１は、第１レーザ保護ガラス４１の下側に配置されている。第１レーザ保護ガラス４１は、ベース板７０の下側に配置されている。ベース板７０の貫通孔７１は、上下方向、第１レーザ保護ガラス４１に重なる。

第２レーザ保護ガラス４２は、第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２２ａと第２レーザ発振器３２との間に配置され、第２レーザ発振器３２から出射されたレーザ光Ｌを透過させる。第２レーザ保護ガラス４２は、第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２２ａの上側に配置され、第２レーザ発振器３２は、第２レーザ保護ガラス４２の上側に配置されている。第２レーザ保護ガラス４２は、ベース板７０の上側に配置されている。

第１粉塵除去機構５１は、第１レーザ保護ガラス４１における導線２１，２２側の一面４１ａ（この実施形態では上面）に気流を発生させ、第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａの粉塵を吸引して、第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａの粉塵を除去する。第１粉塵除去機構５１は、第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａにエアを吹き付けるブロワ５５と、第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａの粉塵を吸引するバキューム５６とを有する。ブロワ５５とバキューム５６は、ブロワ５５の吹出側とバキューム５６の吸込側とが対向するように、第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａ側に配置されている。このように、第１粉塵除去機構５１はブロワ５５およびバキューム５６から構成されているので、第１粉塵除去機構５１を簡単な構成とできる。

第２粉塵除去機構５２は、第２レーザ保護ガラス４２における導線２１，２２側の一面４２ａ（この実施形態では下面）に気流を発生させ、第２レーザ保護ガラス４２の一面４２ａの粉塵を吸引して、第２レーザ保護ガラス４２の一面４２ａの粉塵を除去する。第２粉塵除去機構５２は、第１粉塵除去機構５１と同様に、第２レーザ保護ガラス４２の一面４２ａにエアを吹き付けるブロワ５５と、第２レーザ保護ガラス４２の一面４２ａの粉塵を吸引するバキューム５６とを有する。

次に、コイル部品の製造方法について説明する。コイル部品の製造方法では、２本の第１、第２導線２１，２２を同時にコア１０に対して巻き回し、第１、第２電極１４，１５にそれぞれ接合する。この工程について以下に詳細に説明する。

図２に示すように、コア支持部６０によってコア１０の一方の第１鍔部１１を掴んで固定する。ここで、コア１０は、コア１０の巻芯部１３の軸心Ａを回転軸として回転することができる。

そして、第１、第２ノズル１９，２０から第１、第２導線２１，２２をそれぞれ引き出し、各第１、第２導線２１，２２の一端をクランプ６１で挟持してコア支持部６０に対して固定する。

そして、第１鍔部１１の第１、第２電極１４，１５に接合される第１、第２導線２１，２２の接合箇所の絶縁膜をそれぞれ全周剥離する。具体的に述べると、第１、第２導線２１，２２の接合箇所を、第１、第２レーザ発振器３１，３２のレーザ光Ｌの照射範囲に移動させ、第１、第２レーザ発振器３１，３２からレーザ光Ｌを照射して、第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２１ｂの絶縁膜を全周剥離する。

ここで、第１レーザ発振器３１によりレーザ光Ｌを照射したときの状態を説明する。図３に示すように、第１レーザ発振器３１から出射されたレーザ光Ｌは、第１レーザ保護ガラス４１を下側から通過して、第１導線２１を下側から照射する。なお、第２導線２２についても、第１導線２１と同様であるため、その説明を省略する。

レーザ光Ｌの照射により第１導線２１の被照射部分２１ａの絶縁膜を剥離する際に、粉塵Ｆが発生する。粉塵Ｆ（特に、固体の状態の粉塵Ｆ）は、重力の影響により、ベース板７０の貫通孔７１を通って、第１レーザ発振器３１側に落下する。図３では、分かりやすくするために、粉塵Ｆの量を多く描いている。このとき、第１レーザ保護ガラス４１は、粉塵Ｆの第１レーザ発振器３１への進入を防止する。したがって、第１レーザ発振器３１が粉塵Ｆにより故障することを防止できる。

さらに、第１粉塵除去機構５１のブロワ５５は、第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａにエアを吹き付け、第１粉塵除去機構５１のバキューム５６は、第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａの粉塵Ｆを吸引する。これにより、粉塵Ｆが第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａに落下しても、第１粉塵除去機構５１により、落下した粉塵Ｆを除去できて、粉塵Ｆが第１レーザ保護ガラス４１の一面４１ａに積もることを防止する。したがって、粉塵Ｆがレーザ光Ｌの光路を遮らない。

このように、コイル部品の製造装置１は、第１レーザ保護ガラス４１および第１粉塵除去機構５１を有するので、粉塵Ｆによる第１レーザ発振器３１の故障を防止し、さらに、粉塵Ｆによるレーザ光Ｌの強度低下を防止できる。

続いて、第２レーザ発振器３２によりレーザ光Ｌを照射したときの状態を説明する。図４に示すように、第２レーザ発振器３２から出射されたレーザ光Ｌは、第２レーザ保護ガラス４２を上側から通過して、第１導線２１を上側から照射する。なお、第２導線２２についても、第１導線２１と同様であるため、その説明を省略する。

レーザ光Ｌの照射により第１導線２１の被照射部分２１ａの絶縁膜を剥離する際に、粉塵Ｆが発生する。粉塵Ｆは、上昇気流の影響により、第２レーザ保護ガラス４２に到達するまで上昇する。図４では、分かりやすくするために、粉塵Ｆの量を多く描いている。このとき、第２レーザ保護ガラス４２は、粉塵Ｆの第２レーザ発振器３２への進入を防止する。したがって、第２レーザ発振器３２が粉塵Ｆにより故障することを防止できる。

さらに、第２粉塵除去機構５２のブロワ５５は、第２レーザ保護ガラス４２の一面４２ａにエアを吹き付け、第２粉塵除去機構５２のバキューム５６は、第２レーザ保護ガラス４２の一面４２ａの粉塵Ｆを吸引する。これにより、粉塵Ｆが第２レーザ保護ガラス４２の一面４２ａに到達しても、第２粉塵除去機構５２により、上昇した粉塵Ｆを除去できて、粉塵Ｆが第２レーザ保護ガラス４２の一面４２ａに付着することを防止する。したがって、粉塵Ｆがレーザ光Ｌの光路を遮らない。

このように、コイル部品の製造装置１は、第２レーザ保護ガラス４２および第２粉塵除去機構５２を有するので、粉塵Ｆによる第２レーザ発振器３２の故障を防止し、さらに、粉塵Ｆによるレーザ光Ｌの強度低下を防止できる。

その後、第１，第２導線２１，２２をコア１０の巻芯部１３に巻き回す。図５に示すように、コア支持部６０に支持されたコア１０の巻芯部１３の軸心Ａを回転軸としてコア１０とコア支持部６０とを回転させながら、第１、第２ノズル１９，２０をコア１０の巻芯部１３の軸方向へ移動させて、巻芯部１３全体にわたって第１、第２導線２１，２２を巻回する。そして、最終ターンの１つ前のターンの巻き回し動作が完了した時点でコア支持部６０による回転動作を停止し、巻回動作を停止する。

そして、第２鍔部１２の第１、第２電極１４，１５に接続される第１、第２導線２１，２２の接続箇所の絶縁膜をそれぞれ全周剥離する。具体的に述べると、第１、第２導線２１，２２の接続箇所を、第１、第２レーザ発振器３１，３２のレーザ光Ｌの照射範囲に移動させ、第１、第２レーザ発振器３１，３２からレーザ光Ｌを照射して、第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２１ｂの絶縁膜を全周剥離する。ここで、第１、第２レーザ発振器３１，３２によりレーザ光Ｌを照射したときの状態は、上述の図３、図４で説明した通りである。

その後、最終ターンの巻き動作を行う。すなわち、第１、第２導線２１，２２をコア１０の巻芯部１３に１ターンだけ巻き回す。これにより、第１、第２導線２１，２２の巻芯部１３へのすべての巻き動作が完了する。

そして、第１，第２導線２１，２２の巻き始めの剥離箇所（接続箇所）と第１鍔部１１の第１，第２電極１４，１５とを、熱圧着やレーザ溶接によって接続し、さらに、第１，第２導線２１，２２の巻き終わりの剥離箇所（接続箇所）と第２鍔部１２の第１，第２電極１４，１５とを、熱圧着やレーザ溶接によって接続する。

最後に、図示しないカッターをコア１０の第１，第２鍔部１１，１２近傍位置へ順に移動させて、各第１，第２導線２１，２２の一端（始端）部及び他端（終端）部をそれぞれ切断する。これにより、コイル部品を製造する。

前記コイル部品の製造装置１によれば、第１、第２レーザ保護ガラス４１，４２を有するので、粉塵が第１、第２レーザ発振器３１，３２に進入することを防止する。したがって、第１、第２レーザ発振器３１，３２が粉塵により故障することを防止できる。

また、第１、第２粉塵除去機構５１，５２を有するので、粉塵が第１、第２レーザ保護ガラス４１，４２の一面４１ａ，４２ａに付着することを防止する。したがって、粉塵がレーザ光Ｌの光路を遮らない。

したがって、粉塵による第１、第２レーザ発振器３１，３２の故障を防止し、さらに、粉塵によるレーザ光Ｌの強度低下を防止できる。

（第２実施形態）
図６は、本発明のコイル部品の製造装置の第２実施形態を示す簡略構成図である。第２実施形態は、第１実施形態とは、第１レーザ発振器の位置が相違する。この相違する構成を以下に説明する。なお、第２実施形態において、第１実施形態と同一の符号は、第１実施形態と同じ構成であるため、その説明を省略する。

図６に示すように、第１レーザ発振器３１のレーザ光Ｌの出射孔３１ａは、第１導線２１の被照射部分２１ａの直下（矢印Ｚ方向）と重ならずにずれた位置にある。つまり、レーザ光Ｌの光軸は、被照射部分２１ａの直下方向（矢印Ｚ方向）に一致せず、交差する。同様に、第１レーザ発振器３１の出射孔３１ａは、図示しないが、第２導線２２の被照射部分２２ａの直下と重ならずにずれた位置にある。

これにより、第１レーザ発振器３１のレーザ光Ｌを第１、第２導線２１，２２の被照射部分２１ａ，２２ａの斜め下方から照射することができる。したがって、粉塵が第１レーザ発振器３１の出射孔３１ａの直上に落下せず、レーザ光Ｌの強度低下を防止できる。

（第３実施形態）
図７は、本発明のコイル部品の製造装置の第３実施形態を示す簡略構成図である。第３実施形態は、第１実施形態とは、ベース板の構成が相違する。この相違する構成を以下に説明する。なお、第３実施形態において、第１実施形態と同一の符号は、第１実施形態と同じ構成であるため、その説明を省略する。

図７に示すように、ベース板７０Ａは、貫通孔７１の上側の開口端７１ａを囲む壁部７２を有する。壁部７２は、開口端７１ａの周囲を覆うように構成される。壁部７２は、好ましくは、開口端７１ａの周囲に沿って連続的に形成されているが、開口端７１ａの周囲に沿って間欠的に形成されていてもよい。

これにより、粉塵Ｆがベース板７０Ａの上面に堆積しても、壁部７２により、堆積した粉塵Ｆがベース板７０Ａの貫通孔７１に落下することを防止できる。

（第４実施形態）
図８は、本発明のコイル部品の製造装置の第４実施形態を示す簡略構成図である。第４実施形態は、第３実施形態とは、ベース板の壁部の構成が相違する。この相違する構成を以下に説明する。なお、第４実施形態において、第３実施形態と同一の符号は、第３実施形態と同じ構成であるため、その説明を省略する。

図８に示すように、ベース板７０Ｂの壁部７２Ｂの上部は、上下方向からみて、貫通孔７１に重なっている。つまり、壁部７２Ｂの上部が、貫通孔７１側に傾斜している。そして、壁部７２Ｂの上部の開口幅Ｈ１は、貫通孔７１の上側の開口端７１ａの開口幅Ｈ２よりも狭くなっている。

これにより、粉塵が重力の影響により貫通孔７１側に落下してきても、開口幅Ｈ１の狭い壁部７２Ｂにより、粉塵の貫通孔７１への落下を低減できる。また、粉塵がベース板７０Ｂの上面に堆積しても、壁部７２Ｂにより、粉塵の貫通孔７１への落下を防止できる。したがって、壁部７２Ｂにより、粉塵の貫通孔７１への落下を一層防止できる。

なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で設計変更可能である。例えば、第１から第４実施形態のそれぞれの特徴点を様々に組み合わせてもよい。

前記実施形態では、上下の２つのレーザ発振器を用いているが、下側の第１レーザ発振器または上側の第２レーザ発振器の何れかを用いてもよい。このとき、好ましくは、１つのレーザ発振器により、第１，第２導線の一部に向けてレーザ照射し第１，第２導線の周方向の略半分を剥離した後に、絶縁膜が剥離された側を反転させて絶縁膜が残っている側をレーザ発振器に対向させて再度レーザ照射し残っている絶縁膜を剥離して全周を剥離する。

前記実施形態では、２つのレーザ発振器を上下に配置しているが、２つのレーザ発振器を、水平方向に配置するようにしてもよい。このとき、好ましくは、２つのレーザ発振器を、第１，第２導線の被照射部分に対して対向するように配置する。

前記実施形態では、コアの巻芯部の軸心を回転軸としてコアを回転させることにより第１、第２導線を巻芯部に巻回させているが、ノズルをコアの周囲に公転させて、第１，第２導線をコアの巻芯部に巻き付けるようにしてもよい。

前記実施形態では、２本の導線をコアに巻き回しているが、１本もしくは３本以上の導線をコアに巻き回すようにしてもよい。

１ コイル部品の製造装置
１０ コア
１１ 第１鍔部
１２ 第２鍔部
１３ 巻芯部
１４ 第１電極
１５ 第２電極
１９ 第１ノズル
２０ 第２ノズル
２１ 第１導線
２１ａ 被照射部分
２２ 第２導線
２２ａ 被照射部分
３１ 第１レーザ発振器
３１ａ 出射孔
３２ 第２レーザ発振器
３２ａ 出射孔
４１ 第１レーザ保護ガラス
４１ａ 一面
４２ 第２レーザ保護ガラス
４２ａ 一面
５１ 第１粉塵除去機構
５２ 第２粉塵除去機構
５５ ブロワ
５６ バキューム
６０ コア支持部
６１ クランプ
７０，７０Ａ，７０Ｂ ベース板
７１ 貫通孔
７１ａ 開口端
７２，７２Ｂ 壁部
Ｆ 粉塵
Ｌ レーザ光
Ｈ１ （壁部の）開口幅
Ｈ２ （貫通孔の）開口幅

Claims (5)

1. コアと、該コアに巻き回され、導体を絶縁膜で覆われてなる導線と、該コアに設けられ、該導線と接続される電極とを有するコイル部品を製造するコイル部品の製造装置であって、
   前記コアを支持するコア支持部と、
   前記コアに対して前記導線を繰り出すノズルと、
   前記導線にレーザ光を照射して前記導線の絶縁膜の少なくとも一部を剥離するレーザ発振器と、
   前記導線におけるレーザ光が照射される被照射部分と前記レーザ発振器との間に配置され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるレーザ保護ガラスと、
   前記レーザ保護ガラスにおける前記導線側の一面に気流を発生させ、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引して、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を除去する粉塵除去機構と
   を備え、
   前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の下側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの下側に配置され、
   前記レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、前記導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にある、コイル部品の製造装置。
2. 前記レーザ発振器は、第１レーザ発振器と第２レーザ発振器とを有し、
   前記第１レーザ発振器と前記第２レーザ発振器とは、前記導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されている、請求項１に記載のコイル部品の製造装置。
3. 前記コア支持部を上側に取り付けるベース板を有し、
   前記レーザ保護ガラスおよび前記レーザ発振器は、前記ベース板の下側に配置され、
   前記ベース板は、前記レーザ発振器から出射されるレーザ光が通過する貫通孔と、前記貫通孔の上側の開口端を囲む壁部とを有する、請求項１に記載のコイル部品の製造装置。
4. 前記壁部の上部が上下方向からみて前記貫通孔に重なって、前記壁部の上部の開口幅が前記貫通孔の上側の開口端の開口幅よりも狭くなる、請求項３に記載のコイル部品の製造装置。
5. 前記粉塵除去機構は、前記レーザ保護ガラスの前記一面にエアを吹き付けるブロワと、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引するバキュームとを有する、請求項１に記載のコイル部品の製造装置。

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