JP2017524269A - 基板処理用ヒーター装置及びこれを備えた基板液処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
20 ランプ部
30 温度測定部
40 制御部
110 テーブル部
120 噴射部
130 回収部
Claims (25)
- 基板の処理のために基板を加熱するヒーター装置であって、
基板を加熱するヒーター部;及び
前記ヒーター部に互いに隣接に配置される複数のランプユニットを備えたランプ部;
を含むことを特徴とする基板処理用ヒーター装置。 - 前記ヒーター部は、基板の処理面サイズ以上の対向面を有するように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記対向面は、基板の処理面形状と同じ形状で形成されていることを特徴とする請求項2に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記ランプ部は、
基板の処理面の中心に対応する対向面の中心を基準として偏心配置されている基準ランプユニット;及び
前記基準ランプユニットを中心にして対向面の中心との隔離距離が、互いに同一又は異なるように配置されている複数の周辺ランプユニット;
を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理用ヒーター装置。 - 前記基準ランプユニットの偏心範囲は、ランプユニット直径の2/3以内であることを特徴とする請求項4に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記ランプユニットは、
基板に向かって熱エネルギーを放出する発熱ランプ;
前記発熱ランプの熱エネルギーを基板に向かうように反射するリフレクター;及び
前記発熱ランプの外郭縁に設けられたハウジング;
を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理用ヒーター装置。 - 前記発熱ランプは、基板の処理面と平行にフィラメントが配置されていることを特徴とする請求項6に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記ランプユニットは、前記発熱ランプのフィラメントが、互いに同じ方向又は異なる方向に配置されるように嵌合されることを特徴とする請求項7に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記発熱ランプは、赤外線ランプからなっていることを特徴とする請求項6に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記ランプ部は、一つ以上のランプユニットが一つのランプ群で形成された複数個のランプ群が形成され、ランプ群別にランプユニットの強さが制御されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記ランプ部の中心部分には、一つのランプユニットが一つのランプ群で形成され、前記ランプ部の外郭部分には、複数個のランプユニットが一つのランプ群で形成されていることを特徴とする請求項10に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記ヒーター部により加熱された基板の温度を非接触式で測定する温度測定部;を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記温度測定部は、基板の処理面に対応する前記ヒーター部の対向面に設けられていることを特徴とする請求項12に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記温度測定部は、垂直方向に該当する基板位置の温度を測定するように設けられた一つ以上の温度センサーからなっていることを特徴とする請求項12に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記温度センサーは、基板の処理面に対応する前記ヒーター部の対向面の半径に沿って複数個が配置されていることを特徴とする請求項14に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記温度センサーの測定結果は、前記対向面に配置されている一つ以上のランプユニットが一つのランプ群で形成された複数個のランプ群が形成され、前記複数個のランプ群が一つの制御群で形成された複数個の制御群が形成され、それぞれの非接触式センサーと連動し、それぞれの制御群別にランプユニットの強さが制御されるように提供されることを特徴とする請求項14に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 前記温度センサーは、非接触式赤外線放射温度計からなっていることを特徴とする請求項14に記載の基板処理用ヒーター装置。
- 基板に処理液を供給し、液処理する基板液処理装置であって、
基板をチャッキングして回転させるテーブル部;
前記基板に処理液を噴射する噴射部;
前記基板に噴射された処理液を回収する回収部;
前記基板を加熱するヒーター部;及び
前記ヒーター部に互いに隣接に配置される複数のランプユニットを備えたランプ部;
を含むことを特徴とする基板液処理装置。 - 前記ヒーター部は、基板の処理面サイズ以上の対向面を有するように形成されていることを特徴とする請求項18に記載の基板液処理装置。
- 前記テーブル部は、前記基板の処理面を上部に向かうようにチャッキングし、
前記噴射部は、前記基板の処理面に処理液を噴射するように前記基板の上部に設けられ、
前記ヒーター部は、前記基板と処理液を加熱するように前記基板の上部に設けられていることを特徴とする請求項18に記載の基板液処理装置。 - 前記テーブル部は、前記基板の処理面を下部に向かうようにチャッキングし、
前記噴射部は前記基板の処理面に処理液を噴射するように前記基板の下部に設けられ、
前記ヒーター部は、前記基板を加熱するように前記基板の上部に設けられていることを特徴とする請求項18に記載の基板液処理装置。 - 前記ランプ部の強さを制御するように基板の加熱温度を測定する温度測定部;を更に含むことを特徴とする請求項18に記載の基板液処理装置。
- 前記温度測定部は、前記ヒーター部により加熱された基板の温度を非接触式で測定することを特徴とする請求項22に記載の基板液処理装置。
- 前記ランプ部の強さを、ランプユニットのランプ群別に制御する制御部;を更に含むことを特徴とする請求項18に記載の基板液処理装置。
- 前記制御部は、基板の処理面に対応する前記ヒーター部の対向面に配置されている一つ以上のランプユニットが一つのランプ群で形成された複数個のランプ群が形成され、前記複数個のランプ群が一つの制御群で形成された複数個の制御群が形成され、それぞれの非接触式センサーと連動し、それぞれの制御群別にランプユニットの強さを制御することを特徴とする請求項24に記載の基板液処理装置。
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