KR102123563B1 - 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 액처리하기 위해 기판을 고정지지하는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치에 관한 것으로서, 기판을 지지하여 회전시키는 회전테이블과, 이 회전테이블의 중앙부위에 고정 설치되는 고정테이블과, 기판의 처리면에 처리액을 분사하는 분사부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서 본 발명은 기판을 고정지지하는 테이블을 회전테이블과 고정테이블로 분리하여 기판을 지지함으로써, 테이블의 회전부위의 사이즈를 감소시켜 회전구동력을 절감하는 동시에 기판의 회전속도를 정밀하게 제어할 수 있는 효과를 제공한다.

Description

기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치{APPARATUS FOR SUPPORTING SUBSTRATE AND LIQUID PROCESSING APPARATUS FOR SUBSTRATE COMPRISING THE SAME}
본 발명은 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 액처리하기 위해 기판을 고정지지하는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자 제조를 위해서는 기판 상에 다층의 박막을 형성하는데 있어 식각 및 세정 공정은 필수적이다.
매엽식 습식 식각 및 세정 장치 등과 같은 기판 액처리 장치는, 기판을 지지하는 척이 설치된 테이블을 회전시키면서, 처리액을 기판에 공급하여 식각, 세정 및 건조 공정을 수행하고, 테이블 둘레에 컵 구조를 갖는 처리액 회수부를 이용하여 처리액을 회수한다.
한편, 기판에 증착된 질화막, 산화막, 금속막 등의 박막이나 포토레지스트 등을 기판으로부터 제거함에 있어 처리 효율을 향상시키기 위한 목적으로, 기판의 상부 또는 테이블의 하부에 히터를 설치하거나, 처리액의 온도를 고온으로 가열하여 분사하거나, 가열 후 분사 직전에 처리액의 혼합으로 발생하는 반응열을 이용하는 방법으로 고온에서 액처리하였다.
이러한 종래의 기판 액처리 장치는, 기판을 테이블에 고정지지한 상태에서 테이블 전체를 회전시키므로, 기판과 테이블 전체의 회전을 위해 회전구동력이 과다하게 소요될 뿐만 아니라 회전속도의 제어가 어렵다는 문제점이 있었다.
또한, 기판의 처리면에 처리액이나 기체를 분사시 하나의 분사노즐을 사용하므로, 기판에 처리액이나 기체의 분사제어가 어렵게 되고 노즐에서 처리액과 기체가 혼합되어 이물질이 유입될 우려가 있다는 문제점도 있었다.
또한, 기판의 처리면에 처리액이나 기체의 분사시 기판의 처리면에 1곳에만 집중되므로, 기판의 처리면에 처리액이나 기체가 균일하게 분사되지 않아 기판의 액처리 불량이나 세정불량이 발생되는 문제도 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로서, 테이블의 회전부위의 사이즈를 감소시켜 회전구동력을 절감하는 동시에 기판의 회전속도를 정밀하게 제어할 수 있는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 처리면에 처리액의 분사시 및 회수시 고정테이블에서 흐르는 처리액이 회전테이블에 접촉시간을 단축시키는 동시에 처리액의 회수율을 향상시킬 수 있는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 회전테이블과 고정테이블 사이의 경계부위에 처리액의 침투를 방지하는 동시에 처리액의 분사시 처리액이 고정테이블에서 회전테이블로 유동하도록 유도하게 되는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 처리면에 처리액이나 세정액을 분사하는 동시에 처리가스나 세정가스를 분사하여 기판의 액처리 효율을 향상시킬 수 있는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 액노즐과 기체노즐의 손상을 방지하는 동시에 설치공간을 감소시킬 수 있는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 처리면에 처리액이나 기체를 균일하게 분사할 수 있는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 처리면에 잔류하는 처리액을 기판의 외곽으로 유동시켜 처리액의 회수효율을 항상시킬 뿐만 아니라 기판의 세정효율을 향상시킬 수 있는 기판지지장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판을 액처리하기 위해 기판을 고정지지하는 기판지지장치로서, 기판을 지지하여 회전시키는 회전테이블; 상기 회전테이블의 중앙부위에 고정 설치되는 고정테이블; 및 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하는 분사부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 고정테이블의 높이는, 상기 회전테이블의 높이 보다 높게 설치되어 있는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 회전테이블과 상기 고정테이블 사이의 경계부위에는 단차가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 회전테이블과 상기 고정테이블은 서로 다른 재질로 이루어지며, 상기 고정테이블의 재질은 상기 회전테이블의 재질 보다 내산성이 더 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 분사부는, 기판에 처리액을 분사하는 하나 이상의 액노즐; 및 기판에 기체 또는 미스트를 분사하는 하나 이상의 기체노즐;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 분사부는, 상기 액노즐과 상기 기체노즐이 서로 일체로 형성된 다중관으로 이루어져 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 액노즐과 상기 기체노즐은, 방사형으로 분사하도록 나팔관 형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 기체노즐은, 기판의 처리면의 최외곽을 향해 기체를 분사하도록 경사지게 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 기판의 온도를 측정하도록 복수개의 측정유닛이 상기 고정테이블에 배치된 온도측정부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 기판에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치로서, 기판을 지지하여 회전시키는 회전테이블; 상기 회전테이블의 중앙부위에 고정 설치되는 고정테이블; 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하는 분사부; 상기 기판에 분사된 처리액을 회수하는 회수부; 및 상기 기판을 가열하는 히터부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 회전테이블은 상기 기판의 처리면을 하부로 향하도록 지지하고, 상기 분사부는 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하도록 상기 기판의 하부에 설치되어 있고, 상기 히터부는 상기 기판을 가열하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 회전테이블은 상기 기판의 처리면을 상부로 향하도록 지지하고, 상기 분사부는 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있고, 상기 히터부는 상기 기판과 처리액을 가열하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 기판을 고정지지하는 테이블을 회전테이블과 고정테이블로 분리하여 기판을 지지함으로써, 테이블의 회전부위의 사이즈를 감소시켜 회전구동력을 절감하는 동시에 기판의 회전속도를 정밀하게 제어할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 고정테이블의 높이를 회전테이블의 높이 보다 높게 설치함으로써, 기판의 처리면에 처리액의 분사시 및 회수시 고정테이블에서 흐르는 처리액이 회전테이블에 접촉시간을 단축시키는 동시에 처리액의 회수율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 회전테이블과 고정테이블 사이의 경계부위에 단차를 형성함으로써, 회전테이블과 고정테이블 사이의 경계부위에 처리액의 침투를 방지하는 동시에 처리액의 분사시 처리액이 고정테이블에서 회전테이블로 유동하도록 유도하게 되는 효과를 제공한다.
또한, 분사부로서 액노즐과 기체노즐를 구비함으로써, 기판의 처리면에 처리액이나 세정액을 분사하는 동시에 처리가스나 세정가스를 분사하여 기판의 액처리 효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 분사부로서 액노즐과 기체노즐이 서로 일체로 형성된 다중관을 구비함으로써, 액노즐과 기체노즐의 손상을 방지하는 동시에 설치공간을 감소시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 액노즐과 기체노즐을 나팔관 형상으로 형성함으로써, 기판의 처리면에 처리액이나 기체를 균일하게 분사할 수 있게 된다.
또한, 기체노즐이 기판의 처리면의 최외곽을 향해 기체를 분사하도록 경사지게 형성됨으로써, 기판의 처리면에 잔류하는 처리액을 기판의 외곽으로 유동시켜 처리액의 회수효율을 항상시킬 뿐만 아니라 기판의 세정효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판지지장치를 나타내는 구성도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판지지장치를 나타내는 상세도.
도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판지지장치를 구비한 기판 액처리 장치를 나타내는 구성도.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 더욱 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판지지장치를 나타내는 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판지지장치를 나타내는 상세도이고, 도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판지지장치를 구비한 기판 액처리 장치를 나타내는 구성도이다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에 의한 기판지지장치는, 회전테이블(10), 고정테이블(20) 및 분사부(30)를 포함하여 이루어져, 기판을 액처리하기 위해 기판을 고정지지하는 기판지지장치이다. 본 실시예에서 처리하는 기판으로는, 반도체 소자에 사용되는 반도체 웨이퍼 등과 같은 원형의 박판을 사용하는 것이 바람직하다.
회전테이블(10)은, 기판을 지지하여 회전시키는 회전부재로서, 원판 형상의 반도체 웨이퍼로 이루어진 기판(W)을 지지하도록 원형으로 형성되어 외곽 둘레에 복수개의 고정핀(11)이 등간격으로 이격 설치되어 있다. 본 실시예의 고정핀(11)은, 원판 형상의 반도체 웨이퍼를 수평으로 유지하면서 3점 지지하도록 3개의 고정핀으로 이루어져 있는 것이 바람직하다.
이러한 회전테이블(10)에는 별도로 구비된 회전구동수단에 연결되어, 기판(W)을 일정속도로 회전시켜 유지하게 되며, 회전테이블(10)의 회전속도는 기판(W)에 분사되는 처리액의 투입량과 액처리 속도 등을 고려하여 소정값으로 유지하게 된다.
또한, 회전테이블(10)은, 기판(W)의 처리면을 상방으로 향하도록 척킹 지지하여 회전시키거나 기판(W)의 처리면을 하방으로 향하도록 척킹 지지하여 회전시키는 것도 가능함은 물론이다.
특히, 본 실시예의 회전테이블(10)은, 기판(W)의 상부에서 처리액을 분사하도록 기판(W)의 처리면을 상방으로 향하도록 척킹하여 지지하는 것이 바람직하다. 또한, 고정테이블(20)을 그대로 유지한 상태에서 기판(W)의 사이즈에 따라 회전테이블(10)을 교체하여 다양한 사이즈의 기판(W)의 액처리가 가능하게 되는 것도 가능함은 물론이다.
고정테이블(20)은, 회전테이블(10)의 중앙부위에 고정 설치되며 기판(W)의 처리면 크기 보다 작은 대향면을 가지는 고정부재로서, 원판 형상의 반도체 웨이퍼로 이루어진 기판(W)의 하부에 설치되도록 원형으로 형성되어 있다.
고정테이블(20)의 높이(h2)는, 기판(W)의 하부 중앙부위에서 처리액을 분사하여 처리액이 고정테이블(20)에서 회전테이블(10)로 유동하여 회수되도록 회전테이블(10)의 높이(h1) 보다 높게 설치되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 회전테이블(10)과 고정테이블(20) 사이의 경계부위에서 처리액의 침투를 방지하도록 회전테이블(10)과 고정테이블(20) 사이의 경계부위에 단차가 형성되어, 처리액이 경계부위를 통과하도록 유도하게 된다다.
고정테이블(20)은 각종 액처리용 유틸리티가 설치되어 지지강도가 높아야 하므로, 고정테이블(20)의 재질은 회전테이블(10)의 재질 보다 경질소재로 이루어져, 회전테이블(10)과 고정테이블(20)은 서로 다른 재질로 이루어져 있는 것이 더욱 바람직하다.
또한, 고정테이블(20)에는 기판(W)에 분사된 처리액이 흘러내려 빈번하게 접촉하게 되므로, 고정테이블(20)의 재질은 회전테이블(10)의 재질 보다 내산성이 더 큰 것이 바람직하다.
특히, 회전테이블(10)에 기판(W)의 처리면을 상방으로 향하도록 지지하는 경우에는, 기판(W)의 온도를 기판(W)의 하부에서 측정하도록 고정테이블(20)에 하나 이상의 온도측정수단이 설치되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
분사부(30)는, 식각액이나 세정액 등과 같은 기판의 처리액을 액상이나 미스트로 기판(W)의 처리면에 분사하는 공급수단으로서, 액노즐(31), 기체노즐(32), 다중관(33)으로 이루어져 있다.
액노즐(31)은, 기판(W)의 처리면에 처리액을 분사하는 분사노즐로서, 고정테이블(20)에 하나 이상이 설치되어 기판(W)의 하부에서 기판(W)의 처리면에 처리액이나 세정액을 분사하게 된다.
액노즐(31)은, 기판(W)의 처리면에 방사형으로 분사하도록 분사부위가 나팔관 형상으로 확장 형성되어, 회전테이블(10)에 지지되어 회전되는 기판(W)의 처리면에 처리액이나 세정액을 균일하게 분사할 수 있게 된다.
기체노즐(32)은, 기판(W)의 처리면에 기체나 미스트를 분사하는 분사노즐로서, 고정테이블(20)에 하나 이상이 설치되어 기판(W)의 하부에서 기판(W)의 처리면에 처리가스나 세정가스, 미스트 등과 같은 기체를 분사하게 된다.
기체노즐(32)은, 기판(W)의 처리면에 방사형으로 분사하도록 분사부위가 나팔관 형상으로 확장 형성되어, 회전테이블(10)에 지지되어 회전되는 기판(W)의 처리면에 처리가스나 세정가스, 미스트 등과 같은 기체를 균일하게 분사할 수 있게 된다.
또한, 기체노즐(32)은, 기판(W)의 처리면의 중앙부위에서 최외곽을 향해 기체를 분사하도록 경사지게 형성되어, 기판(W)의 액처리 후에 기판(W)의 처리면에 잔류하는 처리액을 기판(W)의 외곽으로 유동시켜 회수할 수 있게 된다.
다중관(33)은, 액노즐(31)과 기체노즐(32)이 내부에 삽입되어 일체로 형성된 배관부재로서, 다중관(33)의 내부에 액노즐(31)과 기체노즐(32) 삽입 설치되므로, 액노즐(31)과 기체노즐(32)의 손상을 방지하는 동시에 설치공간을 감소시킬 수 있게 된다.
또한, 본 실시예의 기판지지장치는, 회전테이블(10)의 고정핀(11)에 의해 지지된 기판(W)의 온도를 측정하는 온도측정부(40)를 더 포함하여 이루어지는 것도 가능함음 물론이다.
온도측정부(40)는, 액처리를 위해 히터 등과 같은 가열수단에 의해 가열된 기판(W)의 온도를 측정하도록 하나 이상의 측정유닛(41)이 테이블부의 고정테이블(20)에 배치된 온도측정수단으로서, 기판(W)의 하부에 설치되며 고정테이블(20)에 배치되어 있다.
이러한 측정유닛(41)은, 본 실시예에서 4개의 온도센서로 이루어져 있으며, 측정유닛(41)의 온도센서는 수직방향에 해당하는 기판 위치의 온도를 측정하도록 설치된 비접촉식 온도센서로서, 적외선 온도센서, 서모파일 온도센서, 초전형 온도센서 등과 같이 다양한 비접촉식 온도센서를 사용하는 것이 가능하지만, 본 실시예에서는 기판의 액처리시 고온상태의 기판의 가열온도를 비접촉상태로 측정하도록 비접촉식 적외선 방사 온도계로서 파이로미터(pyrometer)와 같은 적외선 온도센서를 사용하는 것이 바람직하다.
이러한 복수개의 측정유닛(41)은, 기판(W)의 처리면 내에 위치하도록 고정테이블(20)의 대향면에 배치되어 있고, 고정테이블(20)의 대향면의 중심을 기준해서 이격거리가 서로 다르게 배치되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 이러한 온도센서는, 회전되는 기판(W)의 처리면 둘레를 따라 기판(W)의 가열온도를 측정하도록 고정테이블(20)의 대향면의 반경의 소정위치에 복수개가 어긋나게 배치되거나 반경을 따라 복수개가 등간격으로 일렬로 배치되는 것도 가능함은 물론이다.
또한, 온도측정부(40)는, 측정유닛(41)의 온도측정 전후에 측정유닛(41)의 측정부위를 세정하거나 고정테이블(20)을 냉각시키도록 세정액 또는 냉각액이나 세정가스 또는 냉각가스, 미스트 등를 분사하는 측정유닛(41)의 보호수단으로서, 측정유닛(41)이나 고정테이블(20)에 세정액이나 세정가스, 냉각액이나 냉각가스, 미스트 등을 분사하는 하나 이상의 분사노즐(42)을 더 포함하여 이루어지는 것도 가능함은 물론이다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 실시예의 기판지지장치를 구비한 기판 액처리 장치를 더욱 상세히 설명한다.
도 3 및 도 4에 나타낸 바와 같이, 본 실시예의 기판지지장치를 구비한 기판 액처리 장치는, 회전테이블(10), 고정테이블(20), 분사부(30), 온도측정부(40), 회수부(140), 히터부(150)를 포함하여 이루어져, 기판에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치이다.
본 실시예의 기판 액처리 장치의 테이블부, 회전테이블(10), 고정테이블(20), 분사부(30) 및 온도측정부(40)는, 상기 실시예의 기판지지장치의 회전테이블(10), 고정테이블(20), 분사부(30) 및 온도측정부(40)와 동일한 구성이므로, 본 실시예에서는 동일한 도면번호를 부여하고 구체적인 설명을 생략한다.
회수부(140)는, 회전테이블(10)의 외곽 둘레에 설치되어 기판(W)에 분사된 처리액을 회수하는 회수수단으로서, 기판(W)의 처리면에 분사된 처리액이 기판(W)의 회전시 원심력에 의해 외곽둘레를 따라 배출되므로, 이를 회수하도록 원통형상의 컵형상으로 형성되어 있다.
또한, 이러한 회수부(140)는, 기판(W)의 처리면에 공급되는 처리액이 다양한 경우에 이들을 각각 회수하도록 동심원 형상으로 형성된 복수개의 컵형상으로 이루어져 있는 것도 가능함은 물론이다.
특히, 이러한 회수부(140)는, 회전테이블(10) 및 고정테이블(20)과 서로 상대 이동하도록 설치되어 기판(W)에 분사되는 처리액이 다양한 경우에 서로 상대이동하여 처리액 별로 회수하도록 설치되어 있는 것이 더욱 바람직하다.
히터부(150)는, 회전테이블(10)에 지지되어 회전되는 기판(W)을 가열하는 가열수단으로서, 기판(W)의 상부에 설치되어 기판(W)의 처리면 크기 이상의 대향면을 갖도록 형성되며, 히터부(150)의 대향면에는 복수개의 램프유닛(151)이 배치되어 있는 것이 바람직하다.
이러한 램프유닛(151)은, 적외선 파장을 방사하는 램프로서 칸탈 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프 등과 같은 다양한 적외선 램프를 사용하는 것이 가능하지만, 본 실시예에서는 기판의 액처리를 위해 500℃ 이상으로 발열하는 텅스텐-할로겐 램프를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
따라서, 본 실시예의 기판 액처리 장치는, 도 3에 나타낸 바와 같이 회전테이블(10)에 기판(W)의 처리면을 하부로 향하도록 지지하고, 분사부(30)가 기판(W)의 처리면에 처리액을 분사하도록 기판(W)의 하부에 즉, 고정테이블(20)에 설치되어 있고, 히터부(150)가 기판(W)과 처리액을 가열하도록 기판(W)의 상부에 설치되어 있다.
또한, 본 실시예의 기판 액처리 장치는, 도 4에 나타낸 바와 같이 회전테이블(10)에 기판(W)의 처리면을 상부로 향하도록 지지하고, 분사부(30)가 기판(W)의 처리면에 처리액을 분사하도록 기판(W)의 상부에 설치되어 있고, 히터부(150)가 기판(W)과 처리액을 가열하도록 기판(W)의 상부에 설치되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 기판을 고정지지하는 테이블을 회전테이블과 고정테이블로 분리하여 기판을 지지함으로써, 테이블의 회전부위의 사이즈를 감소시켜 회전구동력을 절감하는 동시에 기판의 회전속도를 정밀하게 제어할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 고정테이블의 높이를 회전테이블의 높이 보다 높게 설치함으로써, 기판의 처리면에 처리액의 분사시 및 회수시 고정테이블에서 흐르는 처리액이 회전테이블에 접촉시간을 단축시키는 동시에 처리액의 회수율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 회전테이블과 고정테이블 사이의 경계부위에 단차를 형성함으로써, 회전테이블과 고정테이블 사이의 경계부위에 처리액의 침투를 방지하는 동시에 처리액의 분사시 처리액이 고정테이블에서 회전테이블로 유동하도록 유도하게 되는 효과를 제공한다.
또한, 분사부로서 액노즐과 기체노즐를 구비함으로써, 기판의 처리면에 처리액이나 세정액을 분사하는 동시에 처리가스나 세정가스를 분사하여 기판의 액처리 효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 분사부로서 액노즐과 기체노즐이 서로 일체로 형성된 다중관을 구비함으로써, 액노즐과 기체노즐의 손상을 방지하는 동시에 설치공간을 감소시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 액노즐과 기체노즐을 나팔관 형상으로 형성함으로써, 기판의 처리면에 처리액이나 기체를 균일하게 분사할 수 있게 된다.
또한, 기체노즐이 기판의 처리면의 최외곽을 향해 기체를 분사하도록 경사지게 형성됨으로써, 기판의 처리면에 잔류하는 처리액을 기판의 외곽으로 유동시켜 처리액의 회수효율을 항상시킬 뿐만 아니라 기판의 세정효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
이상 설명한 본 발명은 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 벗어남이 없이 다른 여러 가지 형태로 실시될 수 있다. 따라서 상기 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며 한정적으로 해석되어서는 안 된다.
10: 회전테이블 20: 고정테이블
30: 분사부 40: 온도측정부
140: 회수부 150: 히터부

Claims (12)

  1. 기판을 액처리하기 위해 기판을 고정지지하는 기판지지장치로서,
    기판을 지지하여 회전시키는 회전테이블;
    상기 회전테이블의 중앙부위에 고정 설치되는 고정테이블;
    상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하는 분사부; 및
    상기 기판의 온도를 측정하도록 복수개의 측정유닛이 상기 고정테이블에 배치된 온도측정부;를 포함하고,
    상기 분사부는, 기판의 중앙부위에 처리액을 분사하는 하나 이상의 액노즐; 및 기판의 중앙부위에 기체 또는 미스트를 분사하는 하나 이상의 기체노즐;을 포함하고,
    상기 기체노즐은, 기판의 처리면의 중앙부위에서 최외곽을 향해 기체를 분사하도록 경사지게 형성되어 있고,
    상기 온도측정부는, 상기 측정유닛의 온도측정 전후에 상기 측정유닛의 측정부위를 세정하거나 상기 고정테이블을 냉각시키는 분사노즐을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판지지장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 고정테이블의 높이는, 상기 회전테이블의 높이 보다 높게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판지지장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전테이블과 상기 고정테이블 사이의 경계부위에는 단차가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판지지장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전테이블과 상기 고정테이블은 서로 다른 재질로 이루어지며, 상기 고정테이블의 재질은 상기 회전테이블의 재질 보다 내산성이 더 큰 것을 특징으로 하는 기판지지장치.
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 분사부는, 상기 액노즐과 상기 기체노즐이 서로 일체로 형성된 다중관으로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 기판지지장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 액노즐과 상기 기체노즐은, 방사형으로 분사하도록 나팔관 형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판지지장치.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제 1 항에 기재된 기판지지장치를 이용해서 기판에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치로서,
    기판을 지지하여 회전시키는 회전테이블;
    상기 회전테이블의 중앙부위에 고정 설치되는 고정테이블;
    상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하는 분사부;
    상기 기판에 분사된 처리액을 회수하는 회수부; 및
    상기 기판을 가열하는 히터부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 회전테이블은 상기 기판의 처리면을 하부로 향하도록 지지하고,
    상기 분사부는 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하도록 상기 기판의 하부에 설치되어 있고,
    상기 히터부는 상기 기판을 가열하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 회전테이블은 상기 기판의 처리면을 상부로 향하도록 지지하고,
    상기 분사부는 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있고,
    상기 히터부는 상기 기판과 처리액을 가열하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
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