KR102082151B1 - 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 처리하기 위해 기판을 가열하는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치에 관한 것으로서, 기판의 처리면 크기 이상의 대향면을 갖도록 형성되어 기판을 가열하는 히터부와, 이 히터부의 대향면에 서로 인접하게 배치되는 복수의 램프유닛을 구비한 램프부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은 히터부의 대향면을 기판의 처리면 크기 이상으로 형성하고 대향면에 복수개의 램프유닛을 서로 인접하게 배치함으로써, 기판의 처리면 상에 가열온도를 균일하게 유지하여 기판 처리면에 대한 불균일한 처리를 방지하여 기판의 처리효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.

Description

기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치{HEATER APPARATUS FOR SUBSTRATE PROCESSING AND LIQUID PROCESSING APPARATUS FOR SUBSTRATE COMPRISING THE SAME}
본 발명은 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 처리하도록 기판을 가열하는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자 제조를 위해서는 기판 상에 다층의 박막을 형성하는데 있어 식각 및 세정 공정은 필수적이다.
매엽식 습식 식각 및 세정 장치 등과 같은 기판 액처리 장치는, 기판을 지지하는 척이 설치된 테이블을 회전시키면서, 처리액을 기판에 공급하여 식각, 세정 및 건조 공정을 수행하고, 테이블 둘레에 컵 구조를 갖는 처리액 회수부를 이용하여 처리액을 회수한다.
한편, 기판에 증착된 질화막, 산화막, 금속막 등의 박막이나 포토레지스트 등을 기판으로부터 제거함에 있어 처리 효율을 향상시키기 위한 목적으로, 기판의 상부 또는 테이블의 하부에 히터를 설치하거나, 처리액의 온도를 고온으로 가열하여 분사하거나, 가열 후 분사 직전에 처리액의 혼합으로 발생하는 반응열을 이용하는 방법으로 고온에서 액처리하였다.
특히, 히터장치를 사용하는 종래의 히터식 기판 액처리 장치는, 히터의 크기가 기판의 처리면 크기 보다 작게 형성되어 기판의 처리면의 가열온도가 불균일하여 기판의 액처리시 처리불량의 원인을 제공하는 문제가 있었다.
또한, 기판의 처리면에 대해 일정한 배열로 히터를 배치한 경우에는, 히터의 가열범위가 동일하게 중첩되거나 이중 삼중으로 반복적으로 중복되어 기판의 처리면의 가열온도가 불균일하게 분포되는 문제점도 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로서, 기판의 처리면 상에 가열온도를 균일하게 유지하여 기판 처리면에 대한 불균일한 처리를 방지하여 기판의 처리효율을 향상시킬 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 히터부의 발열을 기판의 처리면에만 집중하여 히터부의 가열효율을 향상시킬 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 램프유닛의 가열범위가 서로 동일하게 중복되지 않도록 배치되어 기판 처리면 상의 가열온도의 불균일을 감소시킬 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 처리면의 중심부위에 대한 가열온도 상승을 방지할 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 고온으로 발열하는 발열램프의 열기를 기판 방향으로 반사하여 발열효율을 향상시키는 동시에 하우징의 열해를 방지할 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 발열램프의 열기를 균일하게 발산시키는 동시에 램프유닛의 유지보수를 용이하게 할 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 대향면에 배치된 램프유닛에 대해 구역별로 발열제어를 할 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판 처리면의 중앙부위와 외곽부위에 대한 램프유닛의 발열을 다양하게 제어하여 기판 처리면의 부위별로 가열온도 편차를 감소시킬 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 액처리시 히터장치의 오염을 방지하고 액처리효율을 향상시킬 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 처리면에 대한 가열온도를 램프유닛의 램프군 별로 더욱 정밀하게 제어할 수 있는 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판의 처리를 위해 기판을 가열하는 히터장치로서, 기판의 처리면 크기 이상의 대향면을 갖도록 형성되어 기판을 가열하는 히터부; 및 상기 히터부의 대향면에 서로 인접하게 배치되는 복수의 램프유닛을 구비한 램프부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 대향면은, 기판의 처리면 형상과 동일한 형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 램프부는, 기판 처리면의 중심에 대응하는 상기 대향면의 중심을 기준해서 편심으로 배치되어 있는 기준 램프유닛; 및 상기 기준 램프유닛을 중심으로 해서 상기 대향면의 중심과의 이격거리가 서로 동일하게 배치되거나 서로 다르게 배치되어 있는 복수의 주변 램프유닛;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 기준 램프유닛의 편심범위는, 램프유닛 직경의 ⅔ 이내 인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 램프유닛은, 기판을 향해 발열하는 발열램프; 상기 발열램프의 발열을 기판으로 향하도록 반사하는 리플렉터; 및 상기 발열램프의 외곽 둘레에 설치된 하우징;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 발열램프는, 기판의 처리면과 평행하도록 필라멘트가 배치되어 있는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 램프유닛은, 상기 발열램프의 필라멘트가 서로 평행하게 배치되도록 상기 대향면에 끼워맞춤되어 결합되는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 발열램프는, 적외선 램프로 이루어져 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 램프부는, 하나 이상의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성된 복수개의 램프군이 형성되며, 램프군 별로 램프유닛의 발열이 제어되는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 상기 대향면의 중앙부위에는 하나의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성되어 있고, 상기 대향면의 외곽부위에는 복수개의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 기판에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치로서, 기판을 척킹하여 회전시키는 테이블부; 상기 기판에 처리액을 분사하는 분사부; 상기 기판에 분사된 처리액을 회수하는 회수부; 상기 기판의 처리면 크기 이상의 대향면을 갖도록 형성되어 기판을 가열하는 히터부; 및 상기 히터부의 대항면에 서로 인접하게 배치되는 복수의 램프유닛을 구비한 램프부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 테이블부는 상기 기판의 처리면을 상부로 향하도록 척킹하고, 상기 분사부는 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있고, 상기 히터부는 상기 기판과 처리액을 가열하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 테이블부는 상기 기판의 처리면을 하부로 향하도록 척킹하고, 상기 분사부는 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하도록 상기 기판의 하부에 설치되고, 상기 히터부는 상기 기판을 가열하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 램프부의 발열을 제어하도록 기판의 가열온도를 측정하는 센서부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명은 램프부의 발열을 램프유닛의 램프군 별로 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 히터부의 대향면을 기판의 처리면 크기 이상으로 형성하고 대향면에 복수개의 램프유닛을 서로 인접하게 배치함으로써, 기판의 처리면 상에 가열온도를 균일하게 유지하여 기판 처리면에 대한 불균일한 처리를 방지하여 기판의 처리효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 히터부의 대향면의 형상을 기판의 처리면 형상과 동일한 형상으로 형성함으로써, 히터부의 발열을 기판의 처리면에만 집중하여 히터부의 가열효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 대향면의 중심을 기준해서 기준 램프유닛을 편심으로 배치하고 대향면의 중심과의 이격거리가 서로 다르게 주변 램프유닛을 배치함으로써, 램프유닛의 가열범위가 서로 동일하게 중복되지 않도록 배치되어 기판 처리면 상의 가열온도의 불균일을 감소시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 기준 램프유닛의 편심범위를 소정수치로 한정함으로써, 기판의 처리면의 중심부위에 대한 가열온도 상승을 방지할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 램프유닛으로서 발열램프와 리플렉터와 하우징으로 구성함으로써, 고온으로 발열하는 발열램프의 열기를 기판 방향으로 반사하여 발열효율을 향상시키는 동시에 하우징의 열해를 방지할 수 있게 된다.
또한, 발열램프로서 필라멘트가 기판의 처리면과 평행하고 각각의 필라멘트도 서로 평행하도록 설치되거나 적외선 램프를 사용함으로써, 발열램프의 열기를 균일하게 발산시키는 동시에 램프유닛의 유지보수를 용이하게 할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 하나 이상의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성된 복수개의 램프군을 램프군 별로 발열 제어함으로써, 대향면에 배치된 램프유닛에 대해 구역별로 발열제어를 할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 기판의 중앙부위에는 하나의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성되고 외곽부위에는 복수의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성됨으로써, 기판 처리면의 중앙부위와 외곽부위에 대한 램프유닛의 발열을 다양하게 제어하여 기판 처리면의 부위별로 가열온도 편차를 감소시킬 수 있게 된다.
또한, 기판 액처리 장치에서 기판의 상부에 히터장치를 설치하고 기판의 하부에 분사부를 설치함으로써, 기판의 액처리시 히터장치의 오염을 방지하고 액처리효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 기판 액처리 장치에 센서부나 제어부를 더 구비함으로써, 기판의 처리면에 대한 가열온도를 램프유닛의 램프군 별로 더욱 정밀하게 제어할 수 있는 효과를 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치를 구비한 기판 액처리 장치를 나타내는 구성도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치를 나타내는 구성도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치의 히터유닛을 나타내는 상세도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치의 제어상태를 나타내는 블럭도.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 더욱 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치를 구비한 기판 액처리 장치를 나타내는 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치를 나타내는 구성도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치의 히터유닛을 나타내는 상세도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치의 제어상태를 나타내는 블럭도이다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에 의한 기판 처리용 히터장치는, 히터부(10)와 램프부(20)를 포함하여 이루어져, 기판을 처리하도록 기판을 가열하는 히터장치이다. 본 실시예에서 처리하는 기판으로는, 반도체 소자에 사용되는 반도체 웨이퍼 등과 같은 원형의 박판을 사용하는 것이 바람직하다.
히터부(10)는, 기판(W)의 처리면 크기 이상의 대향면을 갖도록 형성되어 기판을 가열하는 히팅수단으로서, 기판(W)의 처리면 형상과 동일한 형상으로 형성되어 있는 것이 바람직하다.
구체적으로, 기판(W)의 처리면 형상이 원형으로 되어 있는 경우에 히터부(10)의 형상은 기판(W)의 원형 형상의 크기 이상의 대향면이 형성된 원형 형상으로 형성되어 있다.
이러한 히터부(10)는, 기판(W)의 상부에서 선회하여 출입하도록 설치되어 있거나 기판(W)의 상부에 고정되도록 설치되어 있는 것도 가능함은 물론이다. 따라서 기판(W)의 처리면이 하방을 향하도록 설치되어 있는 경우에는 기판(W)의 이면을 가열하게 되고, 기판(W)의 처리면이 상방으로 향하도록 설치되어 있는 경우에는 기판(W)의 처리면을 가열하게 된다.
램프부(20)는, 히터부(10)의 대향면에 서로 인접하게 배치되는 복수의 램프유닛을 구비하며 기판(W)의 처리면을 향해 발열하는 발열수단으로서, 기준 램프유닛(21)과 주변 램프유닛(22)으로 이루어져 있다.
기준 램프유닛(21)은, 기판(W)의 처리면의 중심에 대응하는 대향면의 중심을 기준해서 편심으로 배치되어 있는 것이 바람직하다. 특히 이러한 기준 램프유닛(21)의 편심범위는, 즉 대향면의 중심과 기준 램프유닛(21)의 중심 사이의 이격거리는, 램프유닛 직경의 ⅔ 이내로 설정하는 것이 더욱 바람직하다. 그 이유는 편심범위가, 램프유닛 직경의 ⅔ 보다 크게 되면 기판의 처리면의 중심부위에 대한 발열성능이 저하되어 기판의 처리면이 불균일하게 가열되기 때문이다.
주변 램프유닛(22)은, 기준 램프유닛(21)을 중심으로 해서 대향면의 중심(C)과의 이격거리가 서로 동일하게 복수개가 배치되어 있거나 서로 다르도록 복수개가 배치되어 있다.
구체적으로 2번으로 마킹된 제2 램프유닛의 이격거리(d1)와 6번으로 마킹된 제6 램프유닛의 이격거리(d2)가 서로 다르게 배치되어 있는 것처럼 다른 복수개의 주변 램프유닛들도 이격거리가 서로 다르게 배치되어 있다. 또한, 일부의 주변 램프유닛들은 대향면의 중심(C)과의 이격거리가 서로 동일하게 배치되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
따라서, 1번 내지 n-8번으로 마킹된 주변 램프유닛(22)의 이격거리가 서로 다르게 배치되도록 주변 램프유닛(22)이 히터부(10)의 대향면에 배치되므로, 기판의 처리면에 대응하는 대향면의 중심(C)으로부터 이격거리가 서로 다른 다양한 지점에서 램프유닛이 발열하여 기판(W)의 처리면을 균일하게 가열시킬 수 있게 된다.
또한, 램프부(20)는, 하나 이상의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성된 복수개의 램프군이 형성되며, 각각의 램프군 별로 램프유닛의 발열이 제어되는 것이 바람직하다. 구체적으로, 도 2 및 도 4에 나타낸 바와 같이 제1 내지 제n-8 램프유닛으로 이루어진 n개의 램프군이 형성되어 램프군 별로 발열이 제어된다.
또한, 대향면의 중앙부위에는 하나의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성되어 있고, 대향면의 외곽부위에는 복수개의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
구체적으로 대향면의 중앙부위에 배치된 1번 내지 12번으로 마킹된 제1 내지 제12 램프유닛은 하나의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성되어 각각의 램프군 별로 램프유닛의 발열이 제어된다.
또한, 대향면의 외곽부위에 배치된 13-1번 내지 n-8번으로 마킹된 제13-1 내지 제n-8 램프유닛은 복수개의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성되어 각각의 램프군 별로 램프유닛의 발열이 제어된다.
또한, 이러한 램프부(20)의 램프유닛은, 도 3에 나타낸 바와 같이 발열램프(20a)와 리플렉터(20b)와 하우징(20c)으로 이루어져 있고, 하우징(20c)에는 발열램프(20a)를 끼워맞춤하여 결합하도록 램프소켓이 형성되어 있고, 램프소켓에는 외부로부터 전력을 발열램프(20a)에 공급하도록 전력배선이 설치되어 있다.
발열램프(20a)는, 히터부(10)의 대향면에 설치되어 대향면를 기준해서 기판(W)의 처리면을 향해 조사하여 발열하는 램프수단으로서, 기판(W)의 처리면과 평행하도록 필라멘트가 배치되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 램프부(20)의 램프유닛은, 발열램프(20a)의 필라멘트가 서로 평행하게 배치되도록 대향면에 끼워맞춤되어 결합되는 것도 가능함은 물론이다.
이러한 발열램프(20a)로는, 적외선 파장을 방사하는 램프로서 칸탈 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프 등과 같은 다양한 적외선 램프를 사용하는 것이 가능하지만, 본 실시예에서는 기판의 액처리를 위해 500℃ 이상으로 발열하는 텅스텐-할로겐 램프를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
리플렉터(20b)는, 발열램프(20a)로부터 발산된 발열을 기판으로 향하도록 반사하는 반사부재로서, 발열램프(20a)의 둘레에 반구 형상으로 만곡 형성되어 발열램프(20a)의 발열을 기판을 향해 반사하여 발열램프(20a)의 가열효율을 향상시키게 된다.
하우징(20c)은, 발열램프(20a)의 외곽 둘레에 설치된 커버부재로서, 내부에 발열램프(20a)와 리플렉터(20b)를 내장하도록 대략 원통형상으로 형성되어 있는 것이 바람직하다.
이하 도면을 참조해서 본 실시예의 기판 처리용 히터장치를 구비한 기판 액처리 장치를 구체적으로 설명한다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시예의 기판 처리용 히터장치를 구비한 기판 액처리 장치는, 테이블부(110), 분사부(120), 회수부(130), 히터부(10) 및 램프부(20)를 포함하여 이루어져, 기판(W)에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치이다.
테이블부(110)는, 기판(W)을 척킹하여 회전시키는 회전지지수단으로서, 기판(W)의 처리면을 상방으로 향하도록 척킹 지지하여 회전시키거나 기판(W)의 처리면을 하방으로 향하도록 척킹 지지하여 회전시키는 것도 가능함은 물론이다.
특히, 본 실시예의 테이블부(110)는, 분사부(120)에 의해 기판(W)의 하부에서 처리액을 분사하도록 기판(W)의 처리면을 하방으로 향하도록 척킹하여 지지하는 것이 바람직하다.
분사부(120)는, 기판(W)의 처리면에 처리액을 공급하도록 분사하는 공급수단으로서, 테이블부(110)에 기판(W)의 처리면을 상방으로 향하도록 척킹하여 지지하는 경우에는 기판(W)의 상부에 설치되어 있고, 테이블부(110)에 기판(W)의 처리면을 하방으로 향하도록 척킹하여 지지하는 경우에는 기판(W)의 하부에 설치되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
이러한 본 실시예의 분사부(120)는, 테이블부(110)에 기판(W)의 처리면을 하방으로 향하도록 척킹하여 지지하도록 기판(W)의 하부에서 처리액을 분사하여 공급하는 것이 바람직하다.
회수부(130)는, 테이블부(110)의 외곽 둘레에 설치되어 기판(W)에 분사된 처리액을 회수하는 회수수단으로서, 기판(W)의 처리면에 분사된 처리액이 기판(W)의 회전시 원심력에 의해 외곽둘레를 따라 배출되므로, 이를 회수하도록 원통형상의 컵형상으로 형성되어 있다.
또한, 이러한 회수부(130)는, 기판(W)의 처리면에 공급되는 처리액이 다양한 경우에 이들을 각각 회수하도록 동심원 형상으로 형성된 복수개의 컵형상으로 이루어져 있는 것도 가능함은 물론이다.
히터부(10)와 램프부(20)는, 기판(W)을 가열하는 가열수단으로서, 본 실시예의 기판 처리용 히터장치로 이루어지며, 기판(W)의 상부에 설치되어 기판(W)과 처리액을 가열하게 된다.
이러한 히터부(10)와 램프부(20)는, 기판(W)의 상부에서 선회하여 출입하도록 설치되어 있거나 기판(W)의 상부에 고정 지지되도록 설치되어 있는 것도 가능함은 물론이다.
본 실시예의 기판 액처리 장치는, 램프부(20)의 발열을 제어하도록 기판의 가열온도를 측정하는 센서부(30)를 더 포함하는 것도 가능함은 물론이다.
센서부(30)는, 히터부(10)의 대향면에 설치되어 있는 하나 이상의 온도센서로 이루어져, 기판(W)의 처리면에 대한 가열온도를 측정하여 램프부(20)의 램프유닛의 발열을 제어하도록 온도정보를 제공하게 된다.
이러한 센서부(30)는, 테이블부(110)에 의해 회전되는 기판(W)의 처리면 둘레를 따라 가열온도를 측정하도록 히터부(10)의 대향면의 반경의 소정위치에 복수개의 온도센서가 어긋나게 배치되거나 반경을 따라 복수개의 온도센서가 등간격으로 일렬로 배치되어 있다.
또한, 본 실시예의 기판 액처리 장치는, 램프부(20)의 발열을 램프유닛의 램프군 별로 제어하는 제어부(40)를 더 포함하는 것이 가능함은 물론이다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 제어부(40)는, 램프부(20)의 발열을 램프유닛의 램프군 별로 제어하도록 제1 내지 제m 제어기로 구성된 복수개의 제어기로 이루어지는 것이 바람직하다.
따라서 이러한 제어부(40)는, 센서부(30)에 의해 측정된 기판(W)의 처리면에 대한 온도정보를 근거로 해서 램프부(20)의 램프유닛의 발열을 램프군 별로 제어하게 된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 히터부의 대향면을 기판의 처리면 크기 이상으로 형성하고 대향면에 복수개의 램프유닛을 서로 인접하게 배치함으로써, 기판의 처리면 상에 가열온도를 균일하게 유지하여 기판 처리면에 대한 불균일한 처리를 방지하여 기판의 처리효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 히터부의 대향면의 형상을 기판의 처리면 형상과 동일한 형상으로 형성함으로써, 히터부의 발열을 기판의 처리면에만 집중하여 히터부의 가열효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 대향면의 중심을 기준해서 기준 램프유닛을 편심으로 배치하고 대향면의 중심과의 이격거리가 서로 다르게 주변 램프유닛을 배치함으로써, 램프유닛의 가열범위가 서로 동일하게 중복되지 않도록 배치되어 기판 처리면 상의 가열온도의 불균일을 감소시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 기준 램프유닛의 편심범위를 소정수치로 한정함으로써, 기판의 처리면의 중심부위에 대한 가열온도 상승을 방지할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 램프유닛으로서 발열램프와 리플렉터와 하우징으로 구성함으로써, 고온으로 발열하는 발열램프의 열기를 기판 방향으로 반사하여 발열효율을 향상시키는 동시에 하우징의 열해를 방지할 수 있게 된다.
또한, 발열램프로서 필라멘트가 기판의 처리면과 평행하고 각각의 필라멘트도 서로 평행하도록 설치되거나 적외선 램프를 사용함으로써, 발열램프의 열기를 균일하게 발산시키는 동시에 램프유닛의 유지보수를 용이하게 할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 하나 이상의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성된 복수개의 램프군을 램프군 별로 발열 제어함으로써, 대향면에 배치된 램프유닛에 대해 구역별로 발열제어를 할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 기판의 중앙부위에는 하나의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성되고 외곽부위에는 복수의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성됨으로써, 기판 처리면의 중앙부위와 외곽부위에 대한 램프유닛의 발열을 다양하게 제어하여 기판 처리면의 부위별로 가열온도 편차를 감소시킬 수 있게 된다.
또한, 기판 액처리 장치에서 기판의 상부에 히터장치를 설치하고 기판의 하부에 분사부를 설치함으로써, 기판의 액처리시 히터장치의 오염을 방지하고 액처리효율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 기판 액처리 장치에 센서부나 제어부를 더 구비함으로써, 기판의 처리면에 대한 가열온도를 램프유닛의 램프군 별로 더욱 정밀하게 제어할 수 있는 효과를 제공한다.
이상 설명한 본 발명은 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 벗어남이 없이 다른 여러 가지 형태로 실시될 수 있다. 따라서 상기 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며 한정적으로 해석되어서는 안 된다.
10: 히터부 20: 램프부
30: 센서부 40: 제어부
110: 테이블부 120: 분사부
130: 회수부

Claims (15)

  1. 기판의 처리를 위해 기판을 가열하는 히터장치로서,
    기판의 처리면 크기 이상의 대향면을 갖도록 형성되어 기판을 가열하는 히터부; 및
    상기 히터부의 대향면에 서로 인접하게 배치되는 복수의 램프유닛을 구비한 램프부;를 포함하고,
    상기 램프부는, 상기 대향면의 중앙부위에 하나의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성된 복수개의 램프군이 형성되어 있고, 상기 대향면의 외곽부위에 복수개의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성된 복수개의 램프군이 형성되어 있고, 각각의 램프군 별로 램프유닛의 발열이 제어되고,
    상기 램프부는,
    기판의 처리면의 중심에 대응하는 대향면의 중심을 기준해서 편심으로 배치되어 있는 기준 램프유닛; 및
    상기 기준 램프유닛을 기준으로 해서 대향면의 중심과의 이격거리가 서로 다르게 배치되어 있는 하나 이상의 주변 램프유닛;을 포함하되,
    상기 주변 램프유닛은, 상기 주변 램프유닛 중 어느 하나의 주변 램프유닛과 그 주위에 배치된 다른 주변 램프유닛들 사이의 이격거리가 서로 상이하게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 히터장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 대향면은, 기판의 처리면 형상과 동일한 형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 히터장치.
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 기준 램프유닛의 편심범위는, 램프유닛 직경의 ⅔ 이내 인 것을 특징으로 하는 기판 처리용 히터장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 램프유닛은,
    기판을 향해 발열하는 발열램프;
    상기 발열램프의 발열을 기판으로 향하도록 반사하는 리플렉터; 및
    상기 발열램프의 외곽 둘레에 설치된 하우징;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 히터장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 발열램프는, 기판의 처리면과 평행하도록 필라멘트가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 히터장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 램프유닛은, 상기 발열램프의 필라멘트가 서로 평행하게 배치되도록 상기 대향면에 끼워맞춤되어 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 히터장치.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 발열램프는, 적외선 램프로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리용 히터장치.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 기판에 처리액을 공급하여 액처리하는 기판 액처리 장치로서,
    기판을 척킹하여 회전시키는 테이블부;
    상기 기판에 처리액을 분사하는 분사부;
    상기 기판에 분사된 처리액을 회수하는 회수부;
    상기 기판의 처리면 크기 이상의 대향면을 갖도록 형성되어 기판을 가열하는 히터부; 및
    상기 히터부의 대향면에 서로 인접하게 배치되는 복수의 램프유닛을 구비한 램프부;를 포함하고,
    상기 램프부는, 상기 대향면의 중앙부위에 하나의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성된 복수개의 램프군이 형성되어 있고, 상기 대향면의 외곽부위에 복수개의 램프유닛이 하나의 램프군으로 형성된 복수개의 램프군이 형성되어 있고, 각각의 램프군 별로 램프유닛의 발열이 제어되고,
    상기 램프부는,
    기판의 처리면의 중심에 대응하는 대향면의 중심을 기준해서 편심으로 배치되어 있는 기준 램프유닛; 및
    상기 기준 램프유닛을 기준으로 해서 대향면의 중심과의 이격거리가 서로 다르게 배치되어 있는 하나 이상의 주변 램프유닛;을 포함하되,
    상기 주변 램프유닛은, 상기 주변 램프유닛 중 어느 하나의 주변 램프유닛과 그 주위에 배치된 다른 주변 램프유닛들 사이의 이격거리가 서로 상이하게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 테이블부는 상기 기판의 처리면을 상부로 향하도록 척킹하고,
    상기 분사부는 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있고,
    상기 히터부는 상기 기판과 처리액을 가열하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 테이블부는 상기 기판의 처리면을 하부로 향하도록 척킹하고,
    상기 분사부는 상기 기판의 처리면에 처리액을 분사하도록 상기 기판의 하부에 설치되어 있고,
    상기 히터부는 상기 기판을 가열하도록 상기 기판의 상부에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 램프부의 발열을 제어하도록 기판의 가열온도를 측정하는 센서부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 램프부의 발열을 램프유닛의 램프군 별로 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
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