JP2017172018A - 過硫酸溶液製造供給装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体ウエハ洗浄装置での過硫酸溶液の入れ替えの時間が短縮される過硫酸溶液製造供給装置及び方法を提供する。【解決手段】第1電解システム20によって、洗浄槽11へ過硫酸溶液を循環供給している間に、第2電解システムの貯留槽41に水と硫酸が導入され、ポンプ44、配管45、電解セル50、気液分離器52、配管53を介して循環され、過硫酸が生成する。ケミカルチェンジ時には、第1電解システム20から排液した後、貯留槽41内の過硫酸溶液を貯留槽22に移送する。【選択図】図1
Description
本発明は、半導体ウエハを洗浄処理する洗浄装置に過硫酸溶液を供給するための装置及び方法に関するものである。
電解硫酸溶液により半導体ウエハを洗浄する際は、少なくとも陽極にダイヤモンド電極を備えた電解セルにより硫酸を電気分解して所定量の過硫酸(ペルオキソ一硫酸とペルオキソ二硫酸の総称とする)を含み、過硫酸塩を含まない過硫酸溶液からなる電解硫酸を生成し、洗浄機に電解硫酸を送液する。その液を用いて、半導体ウエハ上のレジストや金属の溶解や洗浄を行う。
しかし、一般に硫酸を電気分解して所定量の過硫酸が生成するまでは長い時間を要するので、ウエハの洗浄工程に合わせて洗浄液として電解硫酸を生成・供給するためには、電解セルを多く設置する必要がある。
そこで特許文献1(特開2008−111184)の実施形態5では、電解液貯留槽を3個設け、1つを洗浄部への排出用に、1つを洗浄部からの回収用に、1つを電解セルとの循環用に、のように使い分け、1ターンが終わると循環用⇒排出用、排出用⇒回収用、回収用⇒循環用に通液を切り替えるメリーゴーランド方式の処理により洗浄中にバックグラウンドで電解硫酸を生成することが提案されている。しかし洗浄時間より電解時間の方が長時間を要するため電解硫酸製造までの待ち時間が発生してしまうという問題が残る。
電解硫酸ではSPM(硫酸+過酸化水素)のように過硫酸再生に伴って硫酸濃度が低下しないため洗浄液を循環して再生して洗浄に再利用することが容易にできることから、上記特許文献1ではその方式を採用しているが、洗浄排液に含まれる不純物(ウエハから溶出した微量の金属の他に、レジスト剥離除去の場合は有機物や有機物由来のSS、残渣金属溶解除去の場合は残渣金属の残留物)が循環回数が増えるに伴って液中に混入・蓄積するため経時的には電解処理や洗浄処理に悪影響が及ぶリスクがある。
そのため特に循環式では定期的に洗浄液をフレッシュな洗浄液と入れ替える必要があり、具体的には系内の液を定期的に全部、あるいは定期的又は連続的に一部を押し出して、その分の硫酸を補給して電解硫酸を生成してウエハ洗浄を再開する、といった工程が必要になる。しかし上記従来技術では溶液入れ替えについて考慮されていない。
なお、従来の特開2008−111184のようなメリーゴーランド方式では全ての貯留槽を同じ大きさにしなければならないので、例えば、第1貯留槽100L、第2貯留槽100L、第3貯留槽100L、洗浄槽容量60L、配管容量10Lのように大掛かりなシステムになってしまう。
上記のように、電解硫酸による半導体ウエハ洗浄において、洗浄排液を循環再利用する場合は、洗浄排液に含まれる不純物の経時的な蓄積を考慮して溶液の入れ替えを行うが、硫酸を電気分解して過硫酸を生成するには、長時間を要するので、電気分解して所定量の過硫酸が生成するまでは、ウエハの処理を行うことができない。本発明は、半導体ウエハ洗浄装置での過硫酸溶液の入れ替えの時間が短縮される過硫酸溶液製造供給装置及び方法を提供することを目的とする。
本発明の過硫酸溶液製造供給装置は、ウエハ洗浄装置に過硫酸溶液を循環供給する第1電解システムを有する過硫酸溶液製造供給装置において、該第1電解システムとは別個に設けられた、過硫酸溶液生成用の第2電解システムと、第1電解システムに対し第2電解システムから電解溶液を移送する移送手段とを備えたことを特徴とする。
本発明の過硫酸溶液製造供給方法は、本発明の過硫酸溶液製造供給装置を用いてウエハ洗浄装置に過硫酸溶液を供給する方法であって、該ウエハ洗浄装置でウエハを洗浄している工程の少なくとも一部において、第2電解システムで電解処理して過硫酸溶液を生成させ、前記ウエハ洗浄装置及び第1電解システムの過硫酸溶液入れ替え時に、該ウエハ洗浄装置及び第1電解システムから過硫酸溶液を排出した後第2電解システムから該第2の電解システムに過硫酸溶液を移送することを特徴とする。
本発明の一態様では、前記第1電解システムは、ウエハ洗浄装置に循環供給される過硫酸溶液を貯留する第1の貯留槽と、該第1の貯留槽から供給される液を電解処理し、電解処理後の液を該第1の貯留槽に戻す第1の電解セルを備えており、第2電解システムは、第2の貯留槽と、該第2の貯留槽から供給される液を電解処理し、電解処理後の液を第2の貯留槽に戻す第2の電解セルと、第2の貯留槽に硫酸及び水を供給する手段とを有する。
本発明では、半導体ウエハ洗浄装置に電解硫酸を供給・返送する第1電解システムを有する過硫酸溶液製造供給装置において、予め電解硫酸を製造して予備タンクに貯留しておく第2電解システムを設ける。
本発明装置及び方法では、ウエハ洗浄中に、第2電解システムで電解硫酸を生成させて貯留させておくことができるため、ウエハ洗浄の待ち時間(ケミカルチェンジ時間)を短縮できる。また第1電解システムから第2電解システムへの液流入がないので、第2電解システムへの不純物の混入・蓄積のおそれもない。
本発明の第1実施形態の過硫酸溶液製造供給装置を図1に基づいて説明する。
この過硫酸溶液製造供給装置は、複数枚の半導体ウエハ100をまとめて洗浄するバッチ式洗浄機10と、第1電解システム20及び第2電解システム40とを有する。各電解システム20,40の電解セル30,50は、少なくとも陽極をダイヤモンド電極とした電極を有すると共に、陽極、陰極間に通電する電源装置(図示しない)を備える。電極としてバイポーラ電極を備えるものであってもよい。
バッチ式洗浄機10は、電解された硫酸溶液が満たされる洗浄槽11のほか、洗浄槽11での洗浄後の半導体ウエハ100をリンスする高温リンス槽、高温リンス槽でのリンス後の半導体ウエハ100を更にリンスする常温リンス槽、および常温リンス槽でのリンス後の半導体ウエハ100を乾燥する乾燥機を有している(いずれも図示せず)。
洗浄槽11の液流出部と液入口部は、配管12、ポンプ13、配管14、ヒータ15、配管16よりなる循環ラインによって接続されている。各配管及び機器は、100℃以上の温度に対し耐熱性を有する材料で構成されており、例えばPFA等のフッ素樹脂製とされている。
配管16からは、バルブ18を有した配管17が分岐しおり、系内の液を系外に排出できるようになっている。
第1電解システム20は、配管12から分岐した配管21を介して洗浄機排出液が導入される貯留槽(第1の貯留槽)22と、該貯留槽22内の液を電解処理する前記電解セル30等と、電解処理された液を配管16に返送するための配管23、ポンプ24、配管25等を有している。
貯留槽22内の液は、ポンプ27、配管28を介して電解セル30(第1の電解セル)に導入される。電解処理された液は、配管31、気液分離器32、配管33を介して貯留槽22に戻される。気液分離器32で分離されたガスは、ガス処理装置56へ送られる。
第2電解システム40は、配管42,43から硫酸及び水がそれぞれ供給される貯留槽(第2の貯留槽)41と、該貯留槽41内の液を電解セル(第2の電解セル)50へ供給するためのポンプ44、配管45、バルブ46と、電解セル50で電解された液が配管51を介して導入される気液分離器52と、気液分離器52から液を貯留槽41に戻す配管53と、気液分離器52で分離されたガスをガス処理装置56へ送る配管54等を備えている。
配管45からは、配管47が分岐しており、該配管45,47、バルブ48、配管49を介して貯留槽41内の液が第1電解システムの貯留槽22へ供給可能とされている。
次に、上記過硫酸溶液製造供給装置の動作について図2を参照して説明する。
洗浄槽11には、硫酸濃度70〜96質量%の硫酸溶液が満たされている。洗浄槽11から配管12へ流出した液の一部は、ポンプ13、配管14、ヒータ15、配管16を介して循環される。例えば、洗浄槽11の槽容積Vに対し、1/2〜1/3V/分の循環流量で硫酸溶液が循環される。このときバルブ18は閉となっている。
配管12へ流出した液の残部は、配管21を介して貯留槽22へ導入される。貯留槽22内に導入された液の一部は、ポンプ27、配管28、電解セル40、配管31、気液分離器32、配管33を介して貯留槽22へ循環され、電解処理され、過硫酸が生成する。過硫酸を含んだ貯留槽22内の液は、配管23、ポンプ24、配管25を介して配管16へ供給される。
このように、ウエハ洗浄が行われている間に、特にウエハ洗浄工程の少なくとも初期において、第2電解システムの貯留槽41に水と硫酸が導入され、貯留槽41内の液の一部はポンプ44、配管45、電解セル50、気液分離器52、配管53を介して循環され、電解処理され過硫酸が生成する。なお、このときは、バルブ46は開、バルブ48は閉とされている。貯留槽41内の過硫酸濃度が所定濃度に達したならば、この循環を停止し、貯留槽41内に過硫酸溶液を貯留しておく。
所定時間、又は所定枚数のウエハを洗浄した後、バルブ18を開とし、洗浄槽11及び配管12,14,16,21,23,25並びに第1電解システム20内の液を配管17を介して系外に排出する。
次いで、バルブ18を閉とした後、貯留槽41内に貯留しておいたフレッシュな過硫酸溶液を、ポンプ44及び配管45,47,49を介して貯留槽22へ導入する。この際、バルブ46は閉、バルブ48は開とする。
所定量の過硫酸溶液を貯留槽22に移送した後、移送を停止し、槽22内の液をポンプ24、配管23,25を介して洗浄槽11へ供給し、洗浄槽11と、配管12,14,16の循環ラインを過硫酸溶液で満たした後、ウエハ洗浄を再開する。
このように、図2の通り、洗浄槽11でウエハ100を洗浄している間に、第2電解システム40において過硫酸溶液を製造しているので、1つのバッチのウエハ洗浄と次のバッチのウエハ洗浄との間では、洗浄槽11及び第1電解システム20からの液排出と、洗浄槽11と第1電解システム20に第2電解システム40から過硫酸溶液の移送だけを行うだけで次のバッチの洗浄を開始することができ、バッチ間の過硫酸溶液更新作業(ケミカルチェンジ)時間が著しく短縮される。
また、本発明では、第1電解システム20の貯留槽22の容量を小さくすることができる。第2電解システム40が設けられていない場合、例えば洗浄槽容量60L、1バッチに必要な過硫酸溶液が100Lのとき貯留槽21容量100L、洗浄槽容量60L、配管容量10L程度であるのに対し、第2電解システム40を設置した場合、貯留槽41容量100L、貯留槽21容量30L、洗浄槽容量60L、配管容量10L程度で足り、第1電解システム貯留槽21の容量は半減されるので、第2電解システム40の増設による装置の大型化を抑えることができる。
なお、通常は、第1電解システム20の貯留槽22の容量は10〜80L、第2電解システム40の貯留槽41の容量は80〜150L程度となる。
図1,2はバッチ式洗浄装置であるが、本発明は図3,4の枚葉式の洗浄装置60にも適用可能である。
この枚葉式の洗浄装置60は、搬入されたウエハ100に向けた洗浄液ノズル61と、ウエハ100を載置して回転させる回転台62とを備える。洗浄液ノズル61で、洗浄液として硫酸溶液がスプレーされるか少量ずつ流れ落ちて、回転台に保持されたウエハ100の上面に供給される。
ウエハ100上面に供給された洗浄液は、ウエハ100の回転による遠心力を受けて、ウエハ100の上面を周縁部に向けて拡がり、ウエハ100の洗浄が行われる。洗浄液は、ウエハ100の周縁から振り切られて側方に飛散し、回収槽63に導入され、ポンプ64、配管65を介して貯留槽66に導入される。貯留槽66内の液は、ポンプ67、熱交換器68、配管69を介して貯留槽70に導入される。貯留槽70内の液は、ポンプ71、急速加熱器72、配管73、バルブ74、配管75を介して洗浄液ノズル61へ供給される。配管73からは配管(バイパスライン)76が分岐しており、該配管76にバルブ77が設けられている。洗浄装置60でウエハを洗浄しているときには、バルブ74を開、バルブ77を閉とする。洗浄装置60でのウエハ洗浄が停止しているときには、バルブ74を閉、バルブ77を開とし、配管73からの液を配管76を介して貯留槽66へ供給する。急速加熱器72は、例えば近赤外線ヒータによって硫酸溶液を一過式で120〜220℃に急速加熱する。
第1電解システム80は、この貯留槽70と、該貯留槽70内の液を電解処理する前記電解セル30等を有している。電解セル30及び該電解セル30への液の循環供給機構の構成は図1,2の場合と同じである。即ち、貯留槽70内の液は、ポンプ27、配管28を介して電解セル30に導入される。電解処理された液は、配管31、気液分離器32、配管33を介して貯留槽70に戻される。気液分離器32で分離されたガスは、ガス処理装置56へ送られる。
第2電解システム40の構成は図1,2のものと同一であり、同一部材に同一符号を付してその説明を省略する。
この枚葉式の洗浄装置においても、図4の通り、洗浄槽60でウエハ洗浄が行われている間に、特にウエハ洗浄工程の少なくとも初期において、第2電解システムの貯留槽41に水と硫酸が導入され、貯留槽41内の液の一部はポンプ44、配管45、電解セル50、気液分離器52、配管53を介して循環され、電解処理され過硫酸が生成する。なお、このときは、バルブ46は開、バルブ48は閉とされている。貯留槽41内の過硫酸濃度が所定濃度に達したならば、この循環を停止し、貯留槽41内に過硫酸溶液を貯留しておく。
所定時間、又は所定枚数のウエハを洗浄した後、洗浄装置60、回収槽63、貯留槽66、及び配管65,69,73,75、並びに第1電解システム20内の液を回収槽63又はその上流側に接続されている排液ライン(図示略)を介して系外に排出する。
次いで、貯留槽41内に貯留しておいたフレッシュな過硫酸溶液を、ポンプ44及び配管47,49を介して貯留槽70へ導入する。この際、バルブ46は閉、バルブ48は開とする。
所定量の過硫酸溶液を貯留槽70に移送した後、移送を停止し、貯留槽70内の液をポンプ71、配管73,75を介して洗浄装置60へ供給し、ウエハ洗浄を再開する。
このように、洗浄装置60でウエハ100を洗浄している間に、第2電解システム40において過硫酸溶液を製造しているので、過硫酸溶液更新作業を行う場合、第1電解システム80からの排液排出とそれらへの第2電解システム40から過硫酸溶液の移送だけを行うだけでよく、過硫酸溶液更新作業(ケミカルチェンジ)時間が著しく短縮される。
本発明は特に過硫酸溶液の酸化剤濃度が高いとき(例えば0.03〜0.1mol/L)や、洗浄液温度が高いとき(例えば150〜180℃)に好適に用いることができる。
本発明は特に過硫酸溶液の酸化剤濃度が高いとき(例えば0.03〜0.1mol/L)や、洗浄液温度が高いとき(例えば150〜180℃)に好適に用いることができる。
以下に、本発明の実施例および比較例を示す。
[比較例1]
図1において、第2電解システム40を省略した。第1電解システム20には4機の電解セル30を設置した。本装置を用いて、ケミカルチェンジを行った。既存の溶液を配管17からドレインして、新たな硫酸と水を洗浄槽11及び貯留槽22に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。洗浄槽11内の溶液温度は120℃に設定した。その後、電解セル30に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成させ、酸化剤濃度0.01mol/Lとし、ケミカルチェンジ完了とした。
図1において、第2電解システム40を省略した。第1電解システム20には4機の電解セル30を設置した。本装置を用いて、ケミカルチェンジを行った。既存の溶液を配管17からドレインして、新たな硫酸と水を洗浄槽11及び貯留槽22に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。洗浄槽11内の溶液温度は120℃に設定した。その後、電解セル30に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成させ、酸化剤濃度0.01mol/Lとし、ケミカルチェンジ完了とした。
ケミカルチェンジ完了までにかかった時間は、300分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
[比較例2]
比較例1において、電解セル30の数を10機としたこと以外は同様とした。本装置を用いて、ケミカルチェンジを行った。既存の溶液をドレインして、新たなに硫酸と水を洗浄槽11及び貯留槽22に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。また、洗浄槽11内の溶液温度は120℃に設定した。その後、電解セル30に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.03mol/Lとし、ケミカルチェンジ完了とした。
比較例1において、電解セル30の数を10機としたこと以外は同様とした。本装置を用いて、ケミカルチェンジを行った。既存の溶液をドレインして、新たなに硫酸と水を洗浄槽11及び貯留槽22に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。また、洗浄槽11内の溶液温度は120℃に設定した。その後、電解セル30に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.03mol/Lとし、ケミカルチェンジ完了とした。
ケミカルチェンジ完了までにかかった時間は、300分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
[比較例3]
比較例1において、電解セル30の数を15機としたこと以外は同様とした。本装置を用いて、ケミカルチェンジを行った。既存の溶液をドレインして、新たなに硫酸と水を洗浄槽11及び貯留槽22に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。洗浄槽11内の溶液温度は、150℃に設定した。その後、電解セル30に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.01mol/Lとし、ケミカルチェンジ完了とした。
比較例1において、電解セル30の数を15機としたこと以外は同様とした。本装置を用いて、ケミカルチェンジを行った。既存の溶液をドレインして、新たなに硫酸と水を洗浄槽11及び貯留槽22に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。洗浄槽11内の溶液温度は、150℃に設定した。その後、電解セル30に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.01mol/Lとし、ケミカルチェンジ完了とした。
ケミカルチェンジ完了までにかかった時間は、300分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
[実施例1]
図1の通り、第2電解システム40を設置したこと以外は同様とした。電解セルの数は、第1電解システムにおける電解セル30の数を4機、第2電解システムにおける電解セル50の数を2機とした。本装置を用いて、ウエハ処理を行っている間に、第2電解システム40で新たに硫酸と水を貯留槽41に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。電解セル30,50に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.01mol/Lとした。ケミカルチェンジの際は、まず、洗浄槽11と配管12〜16、第1電解システム20の電解硫酸溶液をドレインし、第2電解システム40で製造しておいた電解硫酸溶液を貯留槽41から貯留槽22に移送した。洗浄槽11内の溶液温度は、120℃に設定した。これにより、ケミカルチェンジ時間(ウエハ処理ができない時間)は60分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
図1の通り、第2電解システム40を設置したこと以外は同様とした。電解セルの数は、第1電解システムにおける電解セル30の数を4機、第2電解システムにおける電解セル50の数を2機とした。本装置を用いて、ウエハ処理を行っている間に、第2電解システム40で新たに硫酸と水を貯留槽41に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。電解セル30,50に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.01mol/Lとした。ケミカルチェンジの際は、まず、洗浄槽11と配管12〜16、第1電解システム20の電解硫酸溶液をドレインし、第2電解システム40で製造しておいた電解硫酸溶液を貯留槽41から貯留槽22に移送した。洗浄槽11内の溶液温度は、120℃に設定した。これにより、ケミカルチェンジ時間(ウエハ処理ができない時間)は60分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
[実施例2]
実施例1において、電解セルの数を第1電解システムの電解セル30は6機、第2電解システムの電解セル50は3機としたこと以外は同様とした。本装置を用いて、ウエハ洗浄処理を行っている間に、第2電解システム40で新たなに硫酸と水を貯留槽41に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。その後、電解セル30,50に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.03mol/Lとした。ケミカルチェンジは実施例1と同様にして行った。洗浄槽11内の溶液温度は、120℃に設定した。これにより、ケミカルチェンジ時間(ウエハ処理ができない時間)は60分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
実施例1において、電解セルの数を第1電解システムの電解セル30は6機、第2電解システムの電解セル50は3機としたこと以外は同様とした。本装置を用いて、ウエハ洗浄処理を行っている間に、第2電解システム40で新たなに硫酸と水を貯留槽41に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。その後、電解セル30,50に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.03mol/Lとした。ケミカルチェンジは実施例1と同様にして行った。洗浄槽11内の溶液温度は、120℃に設定した。これにより、ケミカルチェンジ時間(ウエハ処理ができない時間)は60分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
[実施例3]
実施例1において、電解セルの数を第1電解システムの電解セル30は8機、第2電解システムの電解セル50は2機としたこと以外は同様とした。本装置を用いて、ウエハ洗浄処理を行っている間に、貯留槽41に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。電解セル30,50に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.01mol/Lとした。ケミカルチェンジは実施例1と同様にして行った。洗浄槽11内の溶液温度は、150℃に設定した。これにより、ケミカルチェンジ時間(ウエハ処理ができない時間)は60分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
実施例1において、電解セルの数を第1電解システムの電解セル30は8機、第2電解システムの電解セル50は2機としたこと以外は同様とした。本装置を用いて、ウエハ洗浄処理を行っている間に、貯留槽41に投入して硫酸濃度が85%となるようにした。電解セル30,50に0.4A/cm2の電流密度で通電し、電解硫酸溶液を生成し、酸化剤濃度0.01mol/Lとした。ケミカルチェンジは実施例1と同様にして行った。洗浄槽11内の溶液温度は、150℃に設定した。これにより、ケミカルチェンジ時間(ウエハ処理ができない時間)は60分であった。その後のウエハ洗浄処理(12時間)の際、電解硫酸溶液の酸化剤濃度は安定していた。
比較例、実施例の結果を表1に示す。
比較例1〜3では、第1電解システムの電解硫酸生成部からの洗浄液循環ライン中の循環液をフレッシュな電解硫酸に置換するのに長時間を要していたが、実施例1〜3では、液入れ替えの時間を大幅に短縮することができた。
比較例2の通り、電解硫酸中の酸化剤濃度の設定濃度が高い場合、過硫酸の消失を考慮して、電解硫酸装置内の電解セル数を増やす必要があったが、本発明では実施例2の通り、電解セル数の増設数を抑えることもできることが裏付けられた。
比較例3の通り、洗浄槽11内の温度が高温の場合、過硫酸の消失を考慮して、電解硫酸装置内の電解セル数を増やす必要があったが、本発明では実施例3の通り、電解セル数の増設数を抑えることもできることが裏付けられた。
11 洗浄槽
15 ヒータ
20,80 第1電解システム
30,50 電解セル
40 第2電解システム
73 急速加熱器
15 ヒータ
20,80 第1電解システム
30,50 電解セル
40 第2電解システム
73 急速加熱器
本発明の過硫酸溶液製造供給装置は、ウエハ洗浄装置に過硫酸溶液を循環供給する第1電解システムを有する過硫酸溶液製造供給装置において、該第1電解システムとは別個に設けられた、過硫酸溶液生成用の第2電解システムと、第1電解システムに対し第2電解システムから電解溶液を移送する移送手段とを備えた過硫酸溶液製造供給装置であって、前記第1電解システムは、ウエハ洗浄装置に循環供給される過硫酸溶液を貯留する第1の貯留槽と、該第1の貯留槽から供給される液を電解処理し、電解処理後の液を該第1の貯留槽に戻す第1の電解セルを備えており、第2電解システムは、第2の貯留槽と、該第2の貯留槽から供給される液を電解処理し、電解処理後の液を第2の貯留槽に戻す第2の電解セルを有することを特徴とする。
本発明の過硫酸溶液製造供給方法は、本発明の過硫酸溶液製造供給装置を用いてウエハ洗浄装置に過硫酸溶液を供給する方法であって、該ウエハ洗浄装置でウエハを洗浄している工程の少なくとも一部において、第2電解システムで電解処理して過硫酸溶液を生成させ、前記ウエハ洗浄装置及び第1電解システムの過硫酸溶液入れ替え時に、該ウエハ洗浄装置及び第1電解システムから過硫酸溶液を排出した後第2電解システムから該第1の電解システムに過硫酸溶液を移送することを特徴とする。
本発明の一態様では、前記第2電解システムは、前記第2の貯留槽に硫酸及び水を供給する手段を有する。
Claims (3)
- ウエハ洗浄装置に過硫酸溶液を循環供給する第1電解システムを有する過硫酸溶液製造供給装置において、
該第1電解システムとは別個に設けられた、過硫酸溶液生成用の第2電解システムと、
第1電解システムに対し第2電解システムから電解溶液を移送する移送手段と
を備えたことを特徴とする過硫酸溶液製造供給装置。 - 請求項1において、前記第1電解システムは、ウエハ洗浄装置に循環供給される過硫酸溶液を貯留する第1の貯留槽と、該第1の貯留槽から供給される液を電解処理し、電解処理後の液を該第1の貯留槽に戻す第1の電解セルを備えており、
第2電解システムは、第2の貯留槽と、該第2の貯留槽から供給される液を電解処理し、電解処理後の液を第2の貯留槽に戻す第2の電解セルと、第2の貯留槽に硫酸及び水を供給する手段とを有することを特徴とする過硫酸溶液製造供給装置。 - 請求項1又は2の過硫酸溶液製造供給装置を用いてウエハ洗浄装置に過硫酸溶液を供給する方法であって、
該ウエハ洗浄装置でウエハを洗浄している工程の少なくとも一部において、第2電解システムで電解処理して過硫酸溶液を生成させ、
前記ウエハ洗浄装置及び第1電解システムの過硫酸溶液入れ替え時に、該ウエハ洗浄装置及び第1電解システムから過硫酸溶液を排出した後第2電解システムから該第2の電解システムに過硫酸溶液を移送することを特徴とする過硫酸溶液製造供給方法。
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