JP2017160427A - 封止用樹脂組成物及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
かかる課題に対し、これまで、低弾性、低吸湿の樹脂を使用することが検討されてきた。これは、低弾性化によってリフロー時に半導体素子やリードフレームとエポキシ樹脂組成物の硬化物との界面に発生する応力を緩和することができ、また低吸湿化によって封止材中への水の吸収が抑制され、水が気化し膨張することによって生じる剥離を低減することができるからである。
(A)エポキシ樹脂、(B)下記一般式(1)で示されるベンゾオキサジン樹脂、(C)フェノール硬化剤、(D)硬化促進剤、(E)無機充填剤、及び(F)クマロン樹脂を含む樹脂組成物であって、(A)エポキシ樹脂と(B)ベンゾオキサジン樹脂の配合比(A):(B)が質量比で1:0.2〜1:2であり、かつ(E)無機充填剤の含有量が組成物全体の70〜95質量%であることを特徴とする。
(A)エポキシ樹脂としては、なかでも、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂が好ましく、特にビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂が好ましい。
(C)フェノール硬化剤としては、なかでもアラルキル型フェノール樹脂が好ましく、特に、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂が好ましい。
(A)成分として、ビフェニル型エポキシ樹脂(商品名:YX−4000H、三菱化学(株)製、エポキシ当量192、融点105℃)1.5質量部及びビスフェノール型エポキシ樹脂(商品名:NC−3000、日本化薬(株)製、エポキシ当量276、軟化点57℃)3.5質量部、(B)成分として、上記一般式(1)において、X1がメチレン基であるP−d型ベンゾオキサジン(四国化成工業(株)製、水酸基当量(開環時)217、軟化80℃)5.0質量部、(C)成分として、ビフェニルアラルキル樹脂(商品名:HE200C−10、エア・ウォーター(株)製、水酸基当量205、軟化点70℃)1.0質量部、(D)成分として、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル(1’)]−エチル−s−トリアジン(商品名:2MZA、四国化工業(株)製)0.3質量部、(E)無機充填剤として球状溶融シリカ(商品名:FB−105、電気化学工業(株)製、平均粒径11μm)87.0質量部、(F)成分として、クマロン樹脂(商品名:ニットレジンクマロンV−120、日塗化学(株)製、軟化点120℃)0.6質量部、シランカップリング剤として3−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン(商品名:Z−6883、東レ・ダウコ―ニング(株)製)0.4質量部、離型剤として、カルナバワックス(商品名:カルナバワックス1号、東洋アドレ(株)製)0.2質量部、安定剤として、合成ハイドロタルサイト(商品名;DHT−4C、協和化学工業(株)製)0.3質量部、及び着色剤として、カーボンブラック(商品名:MA−100、三菱化学(株)製)0.3質量部を常温でミキサーを用いて混合した後、熱ロールを用いて70℃〜110℃に加熱混練し、冷却後粉砕して、封止用樹脂組成物を得た。
(C)成分として、ビフェニルアラルキル樹脂(HE200C−10)の代わりに、フェノールアラルキル樹脂(商品名;HE100C−10、エア・ウォーター(株)製、水酸基当量168、軟化点68℃)1.0質量部を用いた他は実施例1と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
(D)成分として、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル(1’)]−エチル−s−トリアジン(2MZA)の代わりに、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール(商品名:2P4MHZ、四国化成工業(株)製)0.3質量部を用いた他は実施例1と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
(A)成分のビスフェノール型エポキシ樹脂(NC−3000)の配合量を4.5質量部、(B)成分のP−d型ベンゾオキサジンの配合量を4.0質量部とした他は、実施例1と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
(A)成分のビスフェノール型エポキシ樹脂(NC−3000)の配合量を5.5質量部、(B)成分のP−d型ベンゾオキサジンを3.0質量部とした他は、実施例1と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
(F)成分のクマロン樹脂(ニットレジンクマロンV−120)を1.2質量部とした他は、実施例1と同様にして、電子部品封止用樹脂組成物を得た。
実施例1において、さらに、(G)成分の環状カルボジイミド(商品名:TCC、帝人(株)製)を1.0質量部配合したほかは、実施例1と同様にして、封止樹脂組成物を得た。
実施例2において、さらに、(G)成分の環状カルボジイミド(TCC)を1.0質量部配合した他は、実施例2と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
実施例3において、さらに、(G)成分の環状カルボジイミド(TCC)を1.0質量部配合した他は、実施例3と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
実施例7において、(G)成分の環状カルボジイミド(TCC)の配合量を2.0質量部とした他は、実施例7と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
実施例7において、(G)成分の環状カルボジイミド(TCC)の配合量を0.6質量部とした他は、実施例7と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
実施例7において、(G)成分の環状カルボジイミド(TCC)の配合量を0.3質量部とした他は、実施例7と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
実施例1において、(C)成分のビフェニルアラルキル樹脂を配合せず、(B)成分のベンゾオキサジン樹脂を6.0質量部とした他は、実施例1と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
(B)成分のP−d型ベンゾオキサジンを配合せず、(C)成分の標準ビフェニルアラルキル樹脂(HE200C−10)の配合量を6.0質量部とした他は、実施例1と同様にして、電子部品封止用樹脂組成物を得た。
(F)成分のクマロン樹脂(ニットレジンクマロンV−120)を配合しない他は、実施例1と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
比較例2において、さらに、(G)成分の環状カルボジイミド(TCC)を1.0質量部配合した他は、比較例2と同様にして、封止用樹脂組成物を得た。
(1)ガラス転移温度(Tg)
封止用樹脂組成物を、金型温度180℃、成形圧力8.0MPa、成形時間2分間の条件でトランスファー成形して、長さ15mm×幅4mm×厚さ3mmの成形品を作製し、さらに、175℃、8時間の後硬化を行って、試験片を得た。得られた試験片について、熱機械分析装置(TMA/SS150、(株)島津製作所製)を用いて、昇温速度5℃/min、空気中で圧縮測定により分析を行い、熱機械分析(TMA)曲線を得た。得られたTMA曲線の60℃及び240℃の接線の交点における温度を読み取り、この温度をガラス転移温度(単位:℃)とした。
封止用樹脂組成物を、金型温度180℃、成形圧力8.0MPa、成形時間2分間の条件でトランスファー成形して、長さ45mm×幅4mm×厚さ3mmの成形品を作製し、さらに、175℃、8時間の後硬化を行って、試験片を得た。得られた試験片について、動的粘弾性試験装置(DMA Q800、ティーエーインスツルメント社製)を用いて、昇温速度5℃/min、周波数10Hz、空気中で分析を行い、260℃における弾性率を求めた。この値を、熱時弾性率(単位:GPa)とした。
封止用樹脂組成物を、金型温度180℃、成形圧力8.0MPa、成形時間2分間の条件でトランスファー成形して、直径50mm、厚さ3mmの円板状の成形品を作製し、さらに、175℃、8時間の後硬化を行って、試験片を得た。得られた試験片のPC試験前(吸湿処理前)の質量と、PC試験(温度:127℃、圧力:2気圧(約0.2MPa)、相対湿度:100%RH、24時間)を行った後(吸湿処理後)の質量を測定し、試験片のPC吸水率(単位:質量%)を下記式によって算出した。
PC吸水率
={(吸湿処理後の質量−吸湿処理前の質量)/吸湿処理前の質量}×100(質量%)
ICパッケージVQFP80(パッケージサイズ:14mm×14mm×1.4mm、銅(Cu)フレーム、銀(Ag)リングメッキ有り)を、封止用樹脂組成物によって、金型温度180℃、成形圧力12.0MPa、成形時間2分間の条件でトランスファー成形した。得られた成形品3ショット分(6フレーム)の外観を目視で観察するとともに、超音波探傷装置(日立建機ファインテック(株)社製、商品名:FS300II)により内部及び外部におけるボイドの発生状況を観察した。また、カル・ランナー折れの発生の有無を調べた。これらを、以下の基準により判定した。
<外観・ボイド>
○:外観異常及びボイドの発生なし
△:直径0.5mm以下のボイドが発生
×:直径0.5mm超のボイドが発生
<カル・ランナー折れ>
○:発生なし
×:発生あり
(4)で作製したパッケージ(VQFP80)の成形品32個に、175℃で、8時間の後硬化を行った後、30℃、相対湿度60%RH、192時間の吸湿処理を行った。その後、260℃の赤外線リフロー炉内で加熱し、冷却後、上記超音波探傷装置により、樹脂硬化物とフレームとの界面、及び樹脂硬化物と半導体チップとの界面における剥離の有無を調べ、剥離が発生した数を計数した。
QFP208(パッケージサイズ:28mm×28mm×2.7mm、銅(Cu)フレーム、銀(Ag)スポットメッキ有り)用のフレームに、8mm角の評価用チップ(TEGチップ)をマウントし、直径25μmの、パラジウム(Pd)でコーティングされたCuワイヤをボンディングした。次いで封止用樹脂組成物によって、金型温度180℃、成形圧力12.0MPa、成形時間2分間の条件でトランスファー成形し、さらに、175℃、8時間も後硬化を行って試験用半導体装置を作製した。得られた試験用半導体装置を−65〜150℃の温度範囲で1000サイクルのテストを行い、OPEN不良(配線の断線による不良)の発生数を調べた(試料総数=16個)。
(6)温度サイクル試験と同様にQFP208の試験用半導体装置を作製し、得られた試験用半導体装置を175℃環境下で2000時間保存した後、OPEN不良(配線の断線による不良)の発生数を調べた(試料総数=16個)。
Claims (6)
- (A)エポキシ樹脂、(B)下記一般式(1)で示されるベンゾオキサジン樹脂、(C)フェノール硬化剤、(D)硬化促進剤、(E)無機充填剤、及び(F)クマロン樹脂を含む樹脂組成物であって、
前記(A)エポキシ樹脂と前記(B)ベンゾオキサジン樹脂の配合比(A):(B)が質量比で1:0.2〜1:2であり、かつ前記(E)無機充填剤の含有量が組成物全体の70〜95質量%であることを特徴とする封止用樹脂組成物。
- 前記(A)エポキシ樹脂及び前記(B)ベンゾオキサジン樹脂の合計量100質量部に対して、前記(C)フェノール硬化剤を1〜30質量部、前記(D)硬化促進剤を0.2〜8.0質量部、及び前記(F)クマロン樹脂を1〜10質量部含有することを特徴とする請求項1に記載の封止用樹脂組成物。
- 前記(D)硬化促進剤は、イミダゾール系硬化促進剤を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の電子部品封止用樹脂組成物。
- 前記(B)ベンゾオキサジン樹脂が有するベンゾオキサジンが開環した際に生じる水酸基(b)及び前記(C)フェノール硬化剤が有する水酸基(c)の、前記(A)エポキシ樹脂が有するエポキシ基(a)に対する当量比((b)+(c))/(a)が0.7〜1.5であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の封止用樹脂組成物。
- さらに、(G)環状カルボジイミドを、前記(A)エポキシ樹脂と前記(B)ベンゾオキサジン樹脂の合計量100質量部に対して、1〜20質量部含有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体封止用樹脂組成物。
- 請求項1乃至5のいずれか1項記載の封止用樹脂組成物の硬化物によって半導体素子が封止されていることを特徴とする半導体装置。
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