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롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 |
질소-함유 화합물을 포함하는 포토레지스트
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ |
新規のポリマーおよびフォトレジスト組成物
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Photoacid generators and photoresists comprising same
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富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法
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(ja)
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ |
光酸発生剤
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2011-02-07 |
2013-11-22 |
금호석유화학 주식회사 |
광산발생제, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 레지스트 조성물
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Fujifilm Corp |
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2011-07-28 |
2015-01-14 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
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JP6089389B2
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2011-10-18 |
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日立化成株式会社 |
電子受容性化合物及びその製造方法、該化合物を含む重合開始剤、有機エレクトロニクス材料及びこれらを用いた有機薄膜、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、表示素子、照明装置、並びに表示装置
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JP2014156585A
(ja)
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2013-01-16 |
2014-08-28 |
Cemedine Co Ltd |
光硬化性組成物
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(ko)
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2013-03-08 |
2015-11-16 |
히타치가세이가부시끼가이샤 |
이온성 화합물을 함유하는 처리액, 유기 일렉트로닉스 소자, 및 유기 일렉트로닉스 소자의 제조 방법
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US9067909B2
(en)
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2013-08-28 |
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Rohm And Haas Electronic Materials Llc |
Photoacid generator, photoresist, coated substrate, and method of forming an electronic device
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2015-12-31 |
2019-06-11 |
Rohm And Haas Electronic Materials Llc |
光致抗蝕劑組合物、包含光致抗蝕劑組合物的經塗佈基板及形成電子裝置的方法
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