JP2017116867A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017116867A5 JP2017116867A5 JP2015254866A JP2015254866A JP2017116867A5 JP 2017116867 A5 JP2017116867 A5 JP 2017116867A5 JP 2015254866 A JP2015254866 A JP 2015254866A JP 2015254866 A JP2015254866 A JP 2015254866A JP 2017116867 A5 JP2017116867 A5 JP 2017116867A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- information
- evaluation
- projection optical
- pattern elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 33
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 31
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 6
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims 1
- 238000012854 evaluation process Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015254866A JP6661371B2 (ja) | 2015-12-25 | 2015-12-25 | 評価方法、露光方法、および物品の製造方法 |
| TW105135975A TWI643029B (zh) | 2015-12-25 | 2016-11-04 | 評價方法、曝光方法、及物品的製造方法 |
| KR1020160172663A KR102126232B1 (ko) | 2015-12-25 | 2016-12-16 | 평가 방법, 노광 방법, 및 물품의 제조 방법 |
| CN201611180236.3A CN106919004B (zh) | 2015-12-25 | 2016-12-20 | 评价方法、曝光方法以及物品的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015254866A JP6661371B2 (ja) | 2015-12-25 | 2015-12-25 | 評価方法、露光方法、および物品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017116867A JP2017116867A (ja) | 2017-06-29 |
| JP2017116867A5 true JP2017116867A5 (enExample) | 2019-01-10 |
| JP6661371B2 JP6661371B2 (ja) | 2020-03-11 |
Family
ID=59234097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015254866A Active JP6661371B2 (ja) | 2015-12-25 | 2015-12-25 | 評価方法、露光方法、および物品の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6661371B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102126232B1 (enExample) |
| CN (1) | CN106919004B (enExample) |
| TW (1) | TWI643029B (enExample) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6978926B2 (ja) * | 2017-12-18 | 2021-12-08 | キヤノン株式会社 | 計測方法、計測装置、露光装置、および物品製造方法 |
| JP7105582B2 (ja) * | 2018-03-09 | 2022-07-25 | キヤノン株式会社 | 決定方法、露光方法、露光装置、物品の製造方法及びプログラム |
| JP7357488B2 (ja) * | 2019-09-04 | 2023-10-06 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品製造方法 |
| WO2025149231A1 (en) * | 2024-01-11 | 2025-07-17 | Asml Netherlands B.V. | Improvements to lithographic methods and apparatus |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH068926B2 (ja) * | 1984-08-24 | 1994-02-02 | キヤノン株式会社 | 面位置検出方法 |
| JPH02157844A (ja) * | 1988-12-12 | 1990-06-18 | Nikon Corp | 露光条件測定用マスク並びに該マスクを用いた露光条件測定方法及び装置 |
| JP3013463B2 (ja) * | 1991-02-01 | 2000-02-28 | 株式会社ニコン | 焦点位置検出装置及び投影露光装置 |
| JPH10284414A (ja) * | 1997-04-10 | 1998-10-23 | Nikon Corp | 結像位置検出装置及び半導体デバイスの製造方法 |
| JPH11260703A (ja) * | 1998-03-16 | 1999-09-24 | Sony Corp | 露光装置および露光装置の投影レンズの評価方法 |
| JP4649717B2 (ja) * | 1999-10-01 | 2011-03-16 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法 |
| JP2002022609A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-01-23 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| JPWO2002050506A1 (ja) * | 2000-12-18 | 2004-04-22 | 株式会社ニコン | 波面計測装置及びその使用方法、結像特性計測方法及び装置、結像特性補正方法及び装置、結像特性管理方法、並びに露光方法及び装置 |
| JP2003037052A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-07 | Canon Inc | 投影光学系の収差測定手段を有する半導体露光装置 |
| JP2003215423A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-07-30 | Nikon Corp | 光学系の製造方法,投影光学装置および露光装置 |
| US6778275B2 (en) * | 2002-02-20 | 2004-08-17 | Micron Technology, Inc. | Aberration mark and method for estimating overlay error and optical aberrations |
| US6897940B2 (en) * | 2002-06-21 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | System for correcting aberrations and distortions in EUV lithography |
| JP3968320B2 (ja) | 2003-04-18 | 2007-08-29 | トヨタ自動車株式会社 | 車両用赤外線映像装置及びハイビームヘッドランプ構造 |
| JP2004319937A (ja) * | 2003-04-21 | 2004-11-11 | Nikon Corp | 計測方法、光学特性計測方法、露光装置の調整方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US7158215B2 (en) * | 2003-06-30 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays |
| US7242475B2 (en) * | 2004-03-25 | 2007-07-10 | Asml Netherlands B.V. | Method of determining aberration of a projection system of a lithographic apparatus |
| CN1312464C (zh) * | 2004-04-29 | 2007-04-25 | 上海微电子装备有限公司 | 成像光学系统像差的现场测量方法 |
| CN101174092B (zh) * | 2006-10-30 | 2010-10-06 | 上海华虹Nec电子有限公司 | 用于监控镜头慧差导致成像畸变的方法及其透镜成像系统 |
| CN101221372A (zh) * | 2008-01-25 | 2008-07-16 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 光刻机投影物镜偶像差原位检测系统及检测方法 |
| CN101236362B (zh) * | 2008-01-29 | 2010-06-23 | 北京理工大学 | 光刻机投影物镜波像差在线检测方法 |
| CN101464637B (zh) * | 2008-12-30 | 2011-03-30 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻机投影物镜波像差测量装置及方法 |
| US8760624B2 (en) * | 2010-07-16 | 2014-06-24 | Rudolph Technologies, Inc. | System and method for estimating field curvature |
| US8760625B2 (en) * | 2010-07-30 | 2014-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, aberration detector and device manufacturing method |
| CN102681358B (zh) * | 2012-04-18 | 2014-02-12 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于空间像检测的投影物镜波像差原位测量方法 |
-
2015
- 2015-12-25 JP JP2015254866A patent/JP6661371B2/ja active Active
-
2016
- 2016-11-04 TW TW105135975A patent/TWI643029B/zh active
- 2016-12-16 KR KR1020160172663A patent/KR102126232B1/ko active Active
- 2016-12-20 CN CN201611180236.3A patent/CN106919004B/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2019204058A5 (enExample) | ||
| JP2017116867A5 (enExample) | ||
| JP2014007262A5 (enExample) | ||
| JP2014102436A5 (enExample) | ||
| CN104330245B (zh) | 一种波前编码成像系统焦面位置测试方法与装置 | |
| KR102682715B1 (ko) | 마이크로리소그래피 마스크의 특징을 구하기 위한 방법 및 장치 | |
| US7947413B2 (en) | Pattern evaluation method | |
| JP2016072507A5 (enExample) | ||
| KR102126232B1 (ko) | 평가 방법, 노광 방법, 및 물품의 제조 방법 | |
| JP2016058452A5 (enExample) | ||
| JP2016008924A5 (enExample) | ||
| JP2017219812A5 (enExample) | ||
| JP2003218024A5 (enExample) | ||
| JP2018021971A5 (ja) | 焦点検出装置、撮像装置、および焦点検出方法 | |
| WO2014125000A1 (en) | Method for ascertaining distortion properties of an optical system in a measurement system for microlithography | |
| KR102638175B1 (ko) | 포토마스크를 측정하는 방법 | |
| JP2016090816A5 (ja) | 撮像装置およびその制御方法、および撮影光学系およびその制御方法 | |
| JP2019159029A5 (enExample) | ||
| JP2016009767A5 (enExample) | ||
| JP2017003617A5 (enExample) | ||
| JP2011199244A5 (ja) | 露光方法、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
| JP2010034319A (ja) | 波面収差の測定方法 | |
| CN105988302A (zh) | 用于调平验证测试的方法及校准光刻投影设备的方法 | |
| CN107870522B (zh) | 成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法 | |
| JP2022074800A5 (enExample) |