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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5835968B2 (ja) * 2011-07-05 2015-12-24 キヤノン株式会社 決定方法、プログラム及び露光方法
US9885960B2 (en) * 2013-12-26 2018-02-06 Toshiba Memory Corporation Pattern shape adjustment method, pattern shape adjustment system, exposure apparatus, and recording medium
JP6422307B2 (ja) * 2014-11-05 2018-11-14 キヤノン株式会社 露光方法、露光装置、および物品の製造方法
JP6610210B2 (ja) * 2014-11-28 2019-11-27 日立化成株式会社 配線パターン形成システム
JP6613074B2 (ja) * 2015-08-20 2019-11-27 キヤノン株式会社 決定方法、露光装置、プログラム、および物品の製造方法
JP6554141B2 (ja) * 2017-05-26 2019-07-31 キヤノン株式会社 決定方法、露光方法、情報処理装置、プログラム及び物品の製造方法
JP6944323B2 (ja) * 2017-09-21 2021-10-06 キヤノン株式会社 計算方法、露光方法、プログラム、露光装置、および物品の製造方法
JP6924235B2 (ja) * 2019-09-19 2021-08-25 キヤノン株式会社 露光方法、露光装置、物品製造方法、および半導体デバイスの製造方法
JP7044848B1 (ja) * 2020-10-14 2022-03-30 野村マイクロ・サイエンス株式会社 液処理装置、純水製造システム及び液処理方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58179834A (ja) 1982-04-14 1983-10-21 Canon Inc 投影露光装置及び方法
JPS61168919A (ja) * 1985-01-22 1986-07-30 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影光学装置
JPH0821531B2 (ja) * 1986-08-29 1996-03-04 株式会社ニコン 投影光学装置
JPH0689843A (ja) * 1992-09-09 1994-03-29 Hitachi Ltd 縮小投影露光装置の制御方法
JPH10199782A (ja) 1997-01-14 1998-07-31 Canon Inc 投影露光装置
JPH11258498A (ja) * 1998-03-13 1999-09-24 Nikon Corp 投影レンズ及び走査型露光装置
JP3265533B2 (ja) * 1999-02-03 2002-03-11 株式会社ニコン 集積回路製造方法、および投影露光装置
TW500987B (en) * 2000-06-14 2002-09-01 Asm Lithography Bv Method of operating an optical imaging system, lithographic projection apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7221430B2 (en) * 2004-05-11 2007-05-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7403264B2 (en) * 2004-07-08 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and a device manufacturing method using such lithographic projection apparatus
US7262831B2 (en) * 2004-12-01 2007-08-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method using such lithographic projection apparatus
US7921383B1 (en) * 2006-01-11 2011-04-05 Olambda, Inc Photolithographic process simulation including efficient result computation for multiple process variation values
JP4850643B2 (ja) * 2006-09-11 2012-01-11 キヤノン株式会社 露光装置
US8570485B2 (en) * 2008-06-03 2013-10-29 Asml Netherlands B.V. Lens heating compensation systems and methods
WO2009148972A1 (en) * 2008-06-03 2009-12-10 Brion Technologies, Inc. Methods for model-based process simulation
US8786549B2 (en) * 2011-03-11 2014-07-22 Seiko Epson Corporation Gyro mouse de-drift and hand jitter reduction

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