JP2014007262A - 露光装置、露光方法及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を露光する露光装置であって、レチクルからの光を前記基板に投影する投影光学系と、予め決められた規範に基づいて、前記投影光学系の結像特性の変動を推定する処理部と、前記処理部により推定された前記変動に基づき、前記投影光学系の結像特性を調整する調整部と、を有し、前記処理部は、前記レチクルを介さずに予め決められた第1個数の規範に基づき推定された前記変動に基づいて前記調整部により調整された前記投影光学系の結像特性の誤差が許容範囲内に収まらない場合、前記誤差に基づいて、前記変動を推定するための前記第1個数より多い第2個数の規範を生成する、ことを特徴とする露光装置を提供する。
【選択図】図1
Description
このように、例えば、ユーザの指示などに応じて、第1近似モデル式を生成する第1処理及び第2近似モデル式を生成する第2処理の少なくとも一方を選択して行うような形態も本発明の一側面を構成する。
Claims (7)
- 基板を露光する露光装置であって、
レチクルからの光を前記基板に投影する投影光学系と、
予め決められた規範に基づいて、前記投影光学系の結像特性の変動を推定する処理部と、
前記処理部により推定された前記変動に基づき、前記投影光学系の結像特性を調整する調整部と、を有し、
前記処理部は、前記レチクルを介さずに予め決められた第1個数の規範に基づき推定された前記変動に基づいて前記調整部により調整された前記投影光学系の結像特性の誤差が許容範囲内に収まらない場合、前記誤差に基づいて、前記変動を推定するための前記第1個数より多い第2個数の規範を生成する、ことを特徴とする露光装置。 - 前記処理部は、前記レチクルのパターンに関する情報又は前記結像特性の計測値に関する情報に基づいて、前記誤差が前記許容範囲内に収まらないかを判定する、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記第1個数の規範は、前記レチクルに対する複数の照明条件のそれぞれに関して得られたものである、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記結像特性は、フォーカス、倍率、歪曲収差、非点収差、球面収差、コマ収差及び波面収差のうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1個数の規範及び前記第2個数の規範は、それぞれ、前記結像特性の変動を表すための時定数において互いに異なる複数の規範を含む、ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- レチクルからの光を投影する投影光学系を介して基板を露光する露光方法であって、
前記レチクルを介さずに予め決められた第1個数の規範に基づいて、前記投影光学系の結像特性の変動を推定し、
前記推定により得られた前記変動に基づいて、前記投影光学系を調整し、
前記調整により得られた前記投影光学系の結像特性の誤差が許容範囲内に収まらない場合、前記誤差に基づいて、前記変動を推定するための前記第1個数より多い第2個数の規範を生成する、ことを特徴とする露光方法。 - 請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、 前記工程で露光された前記基板を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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