JP2006157020A - リソグラフィ投影装置及びそのようなリソグラフィ投影装置を使用したデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ投影装置は、投影システム収差の時間による変化を測定するための測定システムと、モデル・パラメータに基づいて投影システム収差の時間による変化を予測し、且つ、投影システムのレンズのOVL値及びFOC値などの時間と共に変化する装置の特性を補償するための制御信号を生成するための予測制御システムとを有する。予測制御システムによって提供される投影システム収差値及び測定システムによって提供される測定投影システム収差値に基づいてモデル・パラメータ誤差を予測するためのインライン・モデル識別システムが提供されており、また、更新システムは、時間と共に変化する特性を許容可能な性能基準の範囲内に維持するために、モデル・パラメータ誤差を利用して予測制御システムのモデル・パラメータを更新する。
【選択図】図2
Description
マスクの概念についてはリソグラフィにおいては良く知られており、バイナリ、交番移相及び減衰移相などのマスク・タイプ、及び様々なハイブリッド・マスク・タイプが知られている。このようなマスクを放射ビーム中に配置することにより、マスクに衝突する放射をマスク上のパターンに従って選択的に透過させ(透過型マスクの場合)、或いは選択的に反射させている(反射型マスクの場合)。マスクの場合、支持構造は、通常、入射する放射ビーム中の所望の位置に確実にマスクを保持することができ、且つ、必要に応じてマスクを放射ビームに対して確実に移動させることができるマスク・テーブルである。
粘弾性制御層及び反射表面を有するマトリックス処理可能表面は、このような装置の実施例の1つである。このような装置の基礎をなしている基本原理は、(例えば)反射表面の処理領域が入射光を回折光として反射し、一方、未処理領域が入射光を非回折光として反射することである。適切なフィルタを使用することにより、前記非回折光を反射ビームからフィルタリング除去し、回折光のみを残すことができるため、この方法により、マトリックス処理可能表面の処理パターンに従って放射ビームがパターン形成される。プログラム可能ミラー・アレイの代替実施例には、マトリックスに配列された微小ミラーが使用されている。微小ミラーの各々は、適切な局部電界を印加することによって、或いは圧電アクチュエータを使用することによって、1つの軸の周りに個々に傾斜させることができる。この場合も、微小ミラーは、入射する放射ビームを反射する方向が、処理済みミラーと未処理ミラーとでそれぞれ異なるようにマトリックス処理することが可能であり、この方法により、マトリックス処理可能ミラーの処理パターンに従って反射ビームがパターン形成される。必要なマトリックス処理は、適切な電子回路を使用して実行することができる。上で説明したいずれの状況においても、パターン形成手段は、1つ又は複数のプログラム可能ミラー・アレイを備えることができる。上で言及したミラー・アレイに関する詳細な情報については、例えば、いずれも参照によって本明細書に援用されている米国特許第5296891号及び米国特許第5523193号、並びに国際特許出願公開公報WO98/38597及び国際特許出願公開公報WO98/33096を参照されたい。プログラム可能ミラー・アレイの場合、前記支持構造は、例えば、必要に応じて固定或いは移動させることができるフレーム若しくはテーブルとして具体化することができる。
参照によって本明細書に援用されている米国特許第5229872号に、このような構造の実施例の1つが記載されている。この場合の支持構造も、プログラム可能ミラー・アレイの場合と同様、例えば、必要に応じて固定或いは移動させることができるフレーム若しくはテーブルとして具体化することができる。
− 投影放射(例えばUV放射或いはEUV放射)ビームPBを提供するための照明システムIL(この特定の実施例では、放射システムは、さらに、放射源SOを備えている)と、
− パターン形成装置MA(例えばマスク)を支持するための、該パターン形成装置をアイテムPLに対して正確に位置決めするための第1の位置決めアクチュエータ(図示せず)に接続された第1の支持構造MT(例えばマスク・テーブル)と、
− 基板W(例えばレジスト被覆シリコン・ウェハ)を保持するための、該基板をアイテムPLに対して正確に位置決めするための第2の位置決めアクチュエータPWに接続された第2の支持構造WT(例えばウェハ・テーブル)と、
− パターン形成装置MAによって放射ビームPBに付与されたパターンを基板Wの目標部分C(例えば1つ又は複数のダイが含まれている)に投影するための投影システムPL(例えば反射投影レンズ系)と
を備えている。
1.ステップ・モード: ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームPBに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回の照射で投影される(即ち単一「フラッシュ」)。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが放射ビームPBによって照射される。
2.走査モード: 走査モードでは、所与の目標部分Cが単一「フラッシュ」に露光されない点を除き、ステップ・モードと基本的に同じシナリオが適用される。走査モードでは、マスク・テーブルMTを所与の方向(いわゆる「走査方向」、例えばY方向)に速度νで移動させることができるため、投影ビームPBでマスク画像を走査し、且つ、基板テーブルWTを同時に同じ方向若しくは逆方向に、速度V=Mνで移動させることができる。MはレンズPLの倍率である(通常、M=1/4若しくはM=1/5)。この方法によれば、解像度を犠牲にすることなく、比較的大きい目標部分Cを露光することができる。
3.その他のモード:その他のモードでは、プログラム可能パターン形成装置を保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン形成装置が更新される。この動作モードは、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン形成装置を利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
Iは露光光強度(W/m2)、Sは視野サイズ即ちウェハ・レベルにおけるマスキング面積(m2)、Trはマスクの透過係数、Wreflはウェハの反射率(純分数若しくは百分率)である。また、μ1及びμ2は、いわゆるスケーリング因子であり、レンズの加熱に影響し、且つ、明確には含まれていない他のすべてのパラメータに依存する現象因子である。
焦点変動 − 基板テーブルの高さを調整する
像面湾曲 − 1つ又は複数の可動レンズ・エレメントを光軸に沿ってシフトさせる
倍率変動 − 1つ又は複数の可動レンズ・エレメントを光軸に沿ってシフトさせ、且つ、マスクの軸方向の位置を光軸に沿って調整する
三次ひずみ − マスクの軸方向の位置を光軸に沿って調整し、且つ、1つ又は複数の可動レンズ・エレメントを光軸に沿ってシフトさせる
球面収差 − 1つ又は複数の可動レンズ・エレメントを光軸に沿ってシフトさせる
コマ収差 − 露光放射の中心波長をシフトさせ、且つ、1つ又は複数の可動レンズ・エレメントの光軸に対する中心外れの程度を調整する
上式で、
Wは、ひとみ内の位置を関数としたひとみ平面の位相分布[nm]
は、収差係数即ちゼルニケ係数[nm]
は、lに依存する次数nの多項式
ρは、ひとみ平面内における半径[NAの単位]
θは、ひとみ平面内における角度[rad]
nは、ρのパワー(0≦n≦N)
Nは、ひとみ展開の次数
lは、θの次数(n+1=偶数、且つ、−n≦l≦n)
である。
になる(通常、単にZi(X)で表される)。
Zi(X)=Zi_0+Zi_1・X+Zi_2・X2+Zi_3・X3+Zi_res(X)
(3)
上式で、Zi(X)は、定数項(係数がZi_0の項)、一次項(係数がZi_1の項)等及び残りの項即ち剰余項(Zi_res)の合計として記述されている。
Z2_1=A×E1+B×E2+C×E3
Z7_1=D×E1+F×E2+G×E3
Z9_0=H×E1+K×E2+N×E3 (4)
Z14_1=P×E1+Q×E2+R×E3
或いは行列表記法では、
で表される。上式で、Mは従属行列であり、
はレンズ・エレメント・ベクトルである。
になる。また、スリット全体の焦点外れ(dF)(垂直方向のフィーチャに対する)は、
になる。
上式で、i=2、7、10、14、19、23、26、30及び34であり、r=10、19、23、26、30及び34である。
dx(X)=(Z2_1・S2+Z7_1・S7+Z14_1・S14)・X+剰余
=(A・E1+B・E2+C・E3)・S2+(D・E1+F・E2+G・E3)・S7+(P・E1+Q・E2+R・E3)・S14+剰余
(11)
になる。
dF(X)=Z9_0・S9+剰余
=(H×E1+K×E2+N×E3)・S9+剰余 (12)
になる。
で表される。上式で、Ziはi番目の次数のゼルニケ係数であり、Siは、それぞれ一連のゼルニケ係数によって表されるxひずみ及びyひずみを有する所与のゼルニケ係数Ziに対する感度係数である。ゼルニケ係数は、x、y座標に依存している。感度Siは、基本的にはパターン及び照明モードに依存している。
Claims (16)
- リソグラフィ投影装置であって、
投影放射ビームを提供するための放射システムと、
前記投影ビームにパターンを付与するためのパターン形成装置を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投射し、それにより前記パターン形成手段の画像を前記目標部分に生成するための投影システムと、
投影システム収差の時間による変化を測定するための測定システムと、
モデル・パラメータに基づいて投影システム収差の時間による変化を予測し、且つ、前記装置の時間と共に変化する特性を補償するための制御信号を生成するための予測制御システムと、
前記予測制御システムによって提供される投影システム収差値及び前記測定システムによって提供される測定投影システム収差値に基づいてモデル・パラメータ誤差を予測するためのインライン・モデル識別システムと、
前記時間と共に変化する特性を許容可能な性能基準の範囲内に維持するために、前記モデル・パラメータ誤差を利用して前記予測制御システムの前記モデル・パラメータを更新するための更新システムとを備えたリソグラフィ投影装置。 - 前記モデル・パラメータ誤差が小さくなると測定と測定の間の時間間隔が長くなり、前記モデル・パラメータ誤差が大きくなると測定と測定の間の時間間隔が短くなるように前記測定システムによる測定をトリガするための測定時限システムが設けられている、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 投影システム収差の測定をさらにトリガし、それにより更新測定収差値を提供するために、前記制御信号と閾値を比較し、且つ、前記制御信号が前記閾値より大きくなると再アライメント・システムに再アライメント信号を供給するための比較器をさらに備えた、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記比較器が、前記制御信号と特定の画像化用途に従って選択されるユーザ定義リソグラフィ仕様によって決定される閾値とを比較するようになっている、請求項3に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記測定システムが、基板のロットを露光している間、投影システム収差の時間による変化を測定するように機能し、トリガされると、基板の前記ロットを露光している間、現行の基板の露光が終了し、且つ、次の基板の露光を開始する前に実施されることが好ましい測定を所定の時間にさらに実行する、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 必要な特定のパターン形成ビームを生成するために前記装置に使用される選択されたパターン形成装置の画像の1つ又は複数のパラメータに対する前記予測投影システム収差変化の特定用途効果を決定するためのモデル化システムが設けられている、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記モデル化システムが、前記予測制御システムの前記モデル・パラメータの更新に使用するために、測定履歴及び露光情報履歴を保存している、請求項6に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記モデル化システムが、前記選択されたパターン形成装置及び前記投影システムの照明モード設定値を表すデータに基づいて前記特定用途効果を決定するように構成され、且つ、配置された、請求項6に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記予測制御システムが、前記予測投影システム収差変化と、画像の1つ又は複数のパラメータに対するその特定用途効果に基づいて、必要なパターン形成ビームに特化された制御信号を生成するように構成されている、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 選択されたパターン形成装置の画像に対する前記予測投影システム収差変化の影響を補償するために、少なくとも部分的に前記制御信号に基づいて画像化調整を実行する調整システムが設けられている、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記予測制御システムが、選択されたパターン形成装置の投影システム収差に対する既知の感度、及び異なる投影システム収差に付与すべき相対重みを決定する定義済みメリット関数に基づいて前記制御信号を生成するように構成された、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記予測制御システムが、レンズの加熱或いは冷却によって生じる少なくとも1つの収差値の時間による変化を予測するレンズ加熱モデルに基づいて前記投影システム収差変化を決定するように構成された、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- リソグラフィ投影装置であって、
投影放射ビームを提供するための放射システムと、
前記投影ビームにパターンを付与するためのパターン形成装置を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投射し、それにより前記パターン形成装置の画像を前記目標部分に生成するための投影システムと、
投影システム収差の時間による変化を測定するための測定システムと、
モデル・パラメータに基づいて投影システム収差の時間による変化を予測し、且つ、前記装置の時間と共に変化する特性を補償するための制御信号を生成するための予測制御システムと、
前記制御信号が第1の閾値より小さくなると測定と測定の間の時間間隔が長くなり、前記制御信号が第2の閾値より大きくなると測定と測定の間の時間間隔が短くなるように前記測定システムによる測定を制御するための測定時限システムとを備えたリソグラフィ投影装置。 - リソグラフィ投影装置を使用したデバイス製造方法であって、
選択されたパターン形成装置に放射ビームを投射し、パターン形成されたビームを生成すること、及び前記パターン形成されたビームを投影システムを使用して基板の目標部分に投射することと、
前記投影システムの収差の時間による変化を測定することと、
モデル・パラメータに基づいて投影システム収差の時間による変化を予測することと、
前記装置の時間と共に変化する特性を補償するための制御信号を生成することと、
予測投影システム収差値及び測定投影システム収差値に基づいてモデル・パラメータ誤差を予測することと、
前記時間と共に変化する特性が許容可能な所定の性能基準を維持するよう、前記モデル・パラメータ誤差に基づいて前記モデル・パラメータを更新することとを含む方法。 - 投影システム収差の測定をさらにトリガし、それにより更新測定収差値を供給するために、前記制御信号が閾値を超えると再アライメント信号を生成することと、
投影システム収差の変化を予測するために前記更新測定収差値を使用することとをさらに含む、請求項14に記載の方法。 - 選択されたパターン形成装置に放射ビームを投射し、パターン形成されたビームを生成すること、及び前記パターン形成されたビームを投影システムを使用して基板の目標部分に投射することと、
前記投影システムの収差の時間による変化を測定することと、
モデル・パラメータに基づいて投影システム収差の時間による変化を予測することと、
装置の時間と共に変化する特性を補償するための制御信号を生成することと、
予測投影システム収差値及び測定投影システム収差値に基づいてモデル・パラメータ誤差を予測することと、
前記時間と共に変化する特性が許容可能な所定の性能基準を維持するよう、前記モデル・パラメータ誤差に基づいて前記モデル・パラメータを更新することとを含む方法を実行するための機械実行可能命令を含んだ機械可読媒体。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US11/000,507 US7262831B2 (en) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | Lithographic projection apparatus and device manufacturing method using such lithographic projection apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006157020A true JP2006157020A (ja) | 2006-06-15 |
Family
ID=36567036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005344811A Pending JP2006157020A (ja) | 2004-12-01 | 2005-11-30 | リソグラフィ投影装置及びそのようなリソグラフィ投影装置を使用したデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
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US (1) | US7262831B2 (ja) |
JP (1) | JP2006157020A (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060904 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20070622 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090227 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090908 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100604 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100818 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110114 |