JP2017098405A - ハンド部材およびハンド - Google Patents

ハンド部材およびハンド Download PDF

Info

Publication number
JP2017098405A
JP2017098405A JP2015228949A JP2015228949A JP2017098405A JP 2017098405 A JP2017098405 A JP 2017098405A JP 2015228949 A JP2015228949 A JP 2015228949A JP 2015228949 A JP2015228949 A JP 2015228949A JP 2017098405 A JP2017098405 A JP 2017098405A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hand
semiconductor wafer
hand member
side wall
peripheral edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015228949A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6594177B2 (ja
Inventor
酒井 哲也
Tetsuya Sakai
哲也 酒井
英樹 坂上
Hideki Sakagami
英樹 坂上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hirata Corp
Original Assignee
Hirata Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hirata Corp filed Critical Hirata Corp
Priority to JP2015228949A priority Critical patent/JP6594177B2/ja
Priority to TW105132912A priority patent/TWI624899B/zh
Priority to US15/337,073 priority patent/US9776333B2/en
Priority to KR1020160150069A priority patent/KR101882903B1/ko
Priority to CN201611052096.1A priority patent/CN106783715B/zh
Publication of JP2017098405A publication Critical patent/JP2017098405A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6594177B2 publication Critical patent/JP6594177B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J15/00Gripping heads and other end effectors
    • B25J15/0014Gripping heads and other end effectors having fork, comb or plate shaped means for engaging the lower surface on a object to be transported
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J11/00Manipulators not otherwise provided for
    • B25J11/0095Manipulators transporting wafers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G47/00Article or material-handling devices associated with conveyors; Methods employing such devices
    • B65G47/74Feeding, transfer, or discharging devices of particular kinds or types
    • B65G47/90Devices for picking-up and depositing articles or materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/6773Conveying cassettes, containers or carriers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68707Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2201/00Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
    • B65G2201/02Articles
    • B65G2201/0214Articles of special size, shape or weigh
    • B65G2201/022Flat

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Abstract

【課題】摩擦保持部材の交換容易性を向上すること。【解決手段】半導体ウェハを移載するロボットアームのハンドを構成するハンド部材であって、前記ハンド部材は、前記半導体ウェハが載置されるU字形の部材であり、前記ハンド部材は、その内周縁部及び外周縁部に、前記半導体ウェハを保持する摩擦保持部材が側方から嵌め合わされる嵌合部を備える、ことを特徴とする。【選択図】 図1

Description

本発明は半導体ウェハを移載するロボットアームのハンドに関する。
半導体製造工程では半導体ウェハを処理装置間で搬送するために基板搬送装置が使用される。基板搬送装置はロボットアームを備え、ロボットアーム先端のハンドでウェハを支持している(特許文献1〜4)。
ウェハは処理の結果、変形を生じる場合がある。例えば加熱処理における熱の影響によって反りや撓み等を生じる場合がある。ウェハに変形が生じていると、ハンドとウェハとが予定しない部位で接触してウェハに傷をつけたり、ウェハの位置がずれる場合がある。そこで、ハンド本体を構成するハンド部材に、ゴム等の摩擦保持部材を設けたものが提案されている(特許文献1〜3)。
特開2001−223252号公報 特許第4038653号公報 特許第4740188号公報 特許第5548163号公報
摩擦保持部材は消耗品であり、その交換が容易であることが望ましい。
本発明の目的は、摩擦保持部材の交換容易性を向上することにある。
本発明によれば、
半導体ウェハを移載するロボットアームのハンドを構成するハンド部材であって、
前記ハンド部材は、前記半導体ウェハが載置されるU字形の部材であり、
前記ハンド部材は、その内周縁部及び外周縁部に、前記半導体ウェハを保持する摩擦保持部材が側方から嵌め合わされる嵌合部を備える、
ことを特徴とするハンド部材が提供される。
また、本発明によれば、
半導体ウェハを移載するロボットアームのハンドを構成するハンド部材であって、
前記ハンド部材は、前記半導体ウェハが載置され、難削材で構成されるU字形の部材であり、
前記ハンド部材は、その内周縁部及び外周縁部に、前記半導体ウェハを保持する摩擦保持部材が側方から嵌め合わされる嵌合部を備え、
前記嵌合部は、その周囲よりも薄肉の部位であり、
前記嵌合部は、少なくとも三つ形成されている、
ことを特徴とするハンド部材が提供される。
また、本発明によれば、
半導体ウェハを移載するロボットアームのハンドであって、
前記半導体ウェハが載置されるU字形のハンド部材と、
前記半導体ウェハを保持する複数の摩擦保持部材と、を備え、
前記ハンド部材は、その内周縁部及び外周縁部に、側方から前記複数の摩擦保持部材が嵌め合わされる嵌合部を備える、
ことを特徴とするハンドが提供される。
本発明によれば、摩擦保持部材の交換容易性を向上することができる。
本発明の一実施形態に係るハンドの斜視図。 図2(A)は摩擦保持部材と嵌合部との分解斜視図、図2(B)は図1のI-I線断面図、図2(C)は摩擦保持部材と嵌合部とを分離した状態の断面図。 図1のハンドの平面図。 図4(A)および図4(B)は、湾曲した半導体ウェハの載置態様の例を示す図。 図5(A)および図5(B)は摩擦保持部材の配置態様の別例を示す図。 図6(A)および図6(B)は嵌合部の他の構成例を示す図。 図7(A)および図7(B)は嵌合部のさらに別の構成例を示す図。
図面を参照して本発明の一実施形態に係るハンドについて説明する。なお、各図において矢印X、Yは互いに直交する水平方向を示し、矢印Zは上下方向を示す。図中のハンドの各方向は、ロボットアームに水平姿勢で支持された状態での方向の例を示している。
図1は本発明の一実施形態に係るハンドAの斜視図である。ハンドAはハンド部材1と複数の摩擦保持部材2とを備える。図2(A)は、図1の領域Rにおける摩擦保持部材2とハンド部材1の分解図、図2(B)は図1のI-I線断面破断図、図2(C)は図2(B)において、嵌合部16から摩擦保持部材2を分離した状態を示す図である。
ハンド部材1は、半導体ウェハが載置される板状の部材であり、例えば、難削材で構成される。難削材としては、例えば、セラミックス材やカーボン材を挙げることができる。
ハンド部材1は、ハンドAの本体部であり、不図示のロボットアームに固定される装着部11を備え、ロボットアームに水平姿勢で支持される。装着部11には、ロボットアームに固定するための穴11aが複数形成されている。ハンド部材1は、フォーク状にX方向に延びる一対のフィンガ部12を備え、全体としてU字型をなしている。
ハンド部材1の上面には、規制部材13、14が形成されている。規制部材13、14は、載置される半導体ウェハの位置決めと、移載時の脱落を防止する。規制部材13、14はハンド部材1と一体に成形される部材であってもよいし、ハンド部材1に着脱自在な部材であってもよい。
規制部材13は平面視で円弧形状の部材であり、本実施形態では、ハンド部材1の上面の、一対のフィンガ部12と装着部11との間の領域に二つ設けられている。円弧形状に湾曲した規制部材13の内側側面は、載置される半導体ウェハの周縁と対向し、半導体ウェハの位置がずれた場合にその周縁と当接して脱落を防止する。
規制部材14は平面視で四角形状の部材であり、本実施形態では各フィンガ部12の先端部に一つずつ設けられている。平面形状である規制部材14の内側側面は、載置される半導体ウェハの周縁と対向し、半導体ウェハの位置がずれた場合にその周縁と当接して脱落を防止する。
ハンド部材1は、また、吸着部15を備える。吸着部15はハンド部材1の上面に開口した穴と、その穴に取り付けられる当接部材とで構成され、不図示のエア吸引装置と連通する。吸着部15においてエアを吸引することにより、載置される半導体ウェハを吸着保持することができる。これにより、半導体ウェハを高速で移載したとしても、確実に半導体ウェハを保持することができる。
なお、本実施形態では、規制部材13および14と、吸着部15との双方を備えているが、吸着部15が無い構成も採用可能である。逆に、規制部材13および14が無い構成も採用可能である。
ハンド部材1の内周縁部1bおよび外周縁部1aには、それらの側方から、摩擦保持部材2が嵌め合わされている。摩擦保持部材2は、載置される半導体ウェハに対する摩擦力によって、半導体ウェハを保持する。ハンド部材1の内周縁部1bおよび外周縁部1aには、摩擦保持部材2の各嵌合予定部位に図2(A)に示すように嵌合部16が形成されている。
本実施形態の場合、嵌合部16はその周囲よりも薄肉の部位であって、上面側の凹部16aと、下面側の凹部16bとを含む。本実施形態の場合、ハンド部材1の上面、下面のそれぞれに凹部を設けることにより、嵌合部16を薄肉の部位として形成したが、上面または下面の一方にのみ凹部を設けて薄肉としてもよい。また、ハンド部材1の側壁面に、図2(C)に二点鎖線で示すように、上面側の凹部16aと下面側の凹部16bを接続する凹部116cを設けてもよい。嵌合部16を周囲よりも薄肉の部位とすることで、摩擦保持部材2の位置決めを嵌合部16によって行うことができる。
摩擦保持部材2は、嵌合部材21と摩擦部材22とを含む。嵌合部材21は嵌合部16と嵌合する部材であり、摩擦部材22は半導体ウェハの載置面を形成する部材である。摩擦保持部材2は、一部材の構成としてもよいが、本実施形態のように二部材の構成とすることで嵌合力と、半導体ウェハの保持力とを両立し易くなる。
本実施形態の場合、嵌合部材21は上側壁部211と、下側壁部212と、上側壁部211と下側壁部212とを接続する側壁部213と、を含み、側面視あるいは垂直断面形状でU字型をなしている。上側壁部211、下側壁部212および側壁部213はいずれも板状をなし、上側壁部211と、下側壁部212とはZ方向に離間し、側壁部213はこれらの横方向の一方端部を接続する垂直壁である。嵌合部材21は、ステンレス等の金属材で構成され、例えば、平坦な板状の金属材を曲折することで形成することが可能である。
上側壁部211は摩擦部材22の支持部として機能し、その上面に摩擦部材22が固定されている。摩擦部材22は、圧着や接着等により上側壁部211に固定することができる。上側壁部211、下側壁部212及び側壁部213は、図2(C)に示すようにこれらで囲まれた空間部Sを形成し、空間部Sが嵌合部16に嵌め合わせられる。上側壁部211と下側壁部212とで嵌合部16が挟み込まれ、この挟持力で摩擦保持部材2がハンド部材1に固定される。
本実施形態の場合、図2(C)に示すように、下側壁部212は、自然状態において、側壁部213と接続される根元側から先端側(同図で右側から左側)へ向かって、上側壁部211に近づくように傾斜して設けられている。図2(B)に示すように、摩擦保持部材2がハンド部材1に装着された状態では、下側壁部212は弾性変形して下側へ押し広げられ、上側壁部211と下側壁部212とは平行状態となる。摩擦保持部材2がハンド部材1に装着された状態では下側壁部212には弾性復帰力が常時作用しており、嵌合部16を挟み込む挟持力を向上させる。
凹部16aは上側壁部211に対応した形状を、凹部16bは下側壁部212に対応した形状を、それぞれ有している。摩擦保持部材2がハンド部材1に装着された状態では、凹部16aに上側壁部211が、凹部16bに下側壁部212がそれぞれ隙間なく収まる。これにより、摩擦保持部材2の位置ずれや脱落が生じ難くなっている。
摩擦部材22は半導体ウェハの載置面を形成する帯状の部材であり、例えば、シリコーンゴム等のゴムや樹脂で構成される。シリコーンゴムを採用した場合、その粘着性によって保持性能を高めることができる。但し、このような粘着部材を採用した場合、粘着力が大きすぎると、摩擦部材22と半導体ウェハの分離が円滑に行われない場合がある。そこで、例えば、粘着性の高い粘着部材の表面に対して粗面化処理、エンボス加工、レーザなどによる切削加工等を施し、摩擦部材22の粘着力が所定の範囲に収まるように調整してもよい。
本実施形態の場合、摩擦部材22は、上側壁部211の上面における周縁部を除く部分に設けられており、上側壁部211の側方にはみ出ないように配設されている。これにより、摩擦部材22の周縁が外部の物体と接触して、上側壁部211から剥がれることを防止することができる。摩擦部材22の平面視形状は、任意の形状を採用可能であるが、本実施形態のように、矩形とすることで、半導体ウェハとの接触面積を比較的広くとることができる。また、矩形の各角部に面取り加工などを施してもよい。これにより、前述した”剥がれ”の防止性をより高めることができる。
以上の通り、本実施形態の場合、摩擦保持部材2を嵌合部16に側方から嵌め合わせることにより、ハンド部材1に装着する構成としたので、消耗品である摩擦保持部材2の交換の際、工具等を用いることなく、容易に取り外すことができる。つまり、摩擦保持部材2の交換容易性を向上することができる。
また、嵌合部16の加工は広範囲の薄肉加工であり、ネジ穴や蟻溝などの微細加工に比べて、ハンド部材1の加工部に応力集中が生じにくい。よって、ハンド部材1が難削材であったとしても、割れや欠けを生じさせることなく加工を施すことができる。
次に、摩擦保持部材2および対応する嵌合部16の配置例について説明する。図3はハンドAの平面図であり、載置される円形の半導体ウェハWを二点鎖線で示している。点Cは半導体ウェハWの中心位置を示す。本実施形態では、摩擦保持部材2および対応する嵌合部16は、ハンド部材1の内周縁部1aに四つ配置され、外周縁部1bに四つ配置されている。
既に述べたとおり、摩擦保持部材2は、載置される半導体ウェハWの支持面を構成する。平面は三点で規定されることから、半導体ウェハWが当接する位置(図3の半導体ウェハWを示す二点鎖線の円およびその内側)に摩擦保持部材2を、少なくとも三つ配置すればよい。尤も、摩擦部材22の面積が大きい場合、摩擦保持部材2は二つ配置すればよい場合もある。
半導体ウェハWは、熱処理により湾曲している場合がある。ハンド部材1の内周縁部1aと、外周縁部1bとにそれぞれ摩擦保持部材2を配置することで、真直な半導体ウェハWは言うまでもなく、半導体ウェハWが湾曲していたとしても保持が可能である。図4(A)および図4(B)はその説明図である。
図4(A)は半導体ウェハWが山反りしている場合を示す。この場合は、外周縁部1bに配置された摩擦保持部材2と半導体ウェハWとが当接する。図4(B)は半導体ウェハWが谷反りしている場合を示す。この場合は、内周縁部1aに配置された摩擦保持部材2と半導体ウェハWとが当接する。
このようなことから、ハンド部材1の内周縁部1aと、外周縁部1bとにそれぞれ摩擦保持部材2を配置することで、半導体ウェハWが湾曲していたとしても、かつ、湾曲の反り方向を問わず、半導体ウェハWを確実に保持することができる。平面は三点で規定されることから、半導体ウェハWが当接する位置(図3の半導体ウェハWを示す二点鎖線の円およびその内側)において、内周縁部1aに少なくとも三つの摩擦保持部材2を配置し、外周縁部1bに少なくとも三つの摩擦保持部材2を配置することが好ましい。本実施形態の場合、内周縁部1aに配置された四つの摩擦保持部材2および外周縁部1bに配置された四つの摩擦保持部材2は、いずれも、半導体ウェハWが当接する位置に配置されている。また、外周縁部1bに配置された各摩擦保持部材2は、点Cを中心とした仮想円CE1が通る位置に配置されているので、図4(A)に示した山反りに湾曲した半導体ウェハWを確実に支持することができる。同様に、内周縁部1aに配置された各摩擦保持部材2は、点Cを中心とした仮想円CE2が通る位置に配置されているので、図4(B)に示した谷反りに湾曲した半導体ウェハWを確実に支持することができる。
<他の実施形態>
摩擦保持部材2および対応する嵌合部16の配置や数は、ハンド部材1の形状や、予想される半導体ウェハの湾曲態様等によって適宜設計可能である。
図5(A)の例は、図3に示した内周縁部1aに配置される4つの摩擦保持部材2を一体としたものである。また、同様に、図3に示した外周縁部1bに配置される4つの摩擦保持部材2の内、左右の2つずつをそれぞれ一体としたものである。合計で三つの摩擦保持部材2が配設され、これに対応して嵌合部16も三つ配置される。
図5(B)の例は、ハンド部材1に代えて、形状が異なるハンド部材1Aを採用した例を示している。U字型のハンド部材1Aは、内周縁部1aの輪郭形状がハンド部材1よりも角張っている。内周縁部1aにおいて、摩擦保持部材2は三辺それぞれに配置され、計三つ配置される。外周縁部1bに配置される摩擦保持部材2は、ハンド部材1と同様に四つである。これらに対応して、ハンド部材1Aには嵌合部16も七つ配置される。
図6及び図7は摩擦保持部材2および嵌合部16の別例を例示している。同図の例は、内周縁部1aや外周縁部1bの厚さが全域に渡って摩擦保持部材2が嵌合可能な厚さ、すなわちハンド部材1と同じ厚さである場合を想定している。
図6(A)の嵌合部16Aは、摩擦保持部材2の上側壁部211の位置を規定する一対の突起16cをハンド部材1の上面に形成した例を示している。一対の突起16cは、上側壁部211の横幅(図6(A)中のX方向長さ)だけ離間させて設けられており、摩擦保持部材2の横幅方向における位置決めに寄与する。下側壁部212の位置を規定するものとして、ハンド部材1の下面にも一対の突起16cを形成してもよい。
図6(B)の嵌合部16Bは、摩擦保持部材2の上側壁部211の位置を規定する突起16dをハンド部材1の上面に形成した例を示している。突起16dは、上側壁部211の縦幅(図6(B)中のY方向長さ)だけ外周縁部1bの端面から離間させて設けられており、摩擦保持部材2の縦幅方向における位置決め(嵌め込み深さ)に寄与する。下側壁部212の位置を規定するものとして、ハンド部材1の下面にも突起16dを形成してもよい。
図7(A)の摩擦保持部材2Aおよび嵌合部16Aは、一対の突起211Aaを上側壁部211Aの下面に形成し、一対の溝16cをハンド部材1の上面に形成した例を示している。一対の突起211Aaは、上側壁部211Aの下面における横幅方向(図7(A)中のX方向)の両側部に、縦幅方向(図7(A)中のY方向)に沿って設けられ、一対の溝16cは、嵌合部16Aにおける一対の突起211Aaに対向する位置に設けられる。一対の突起211Aaと一対の溝16cは、摩擦保持部材2Aの横幅方向における位置決めに寄与する。下側壁部212Aの位置を規定するものとして、下側壁部212Aに一対の突起212Aaを形成し、ハンド部材1の下面に一対の溝16cを形成してもよい。
図7(B)の摩擦保持部材2Bおよび嵌合部16Bは、突起211Baを上側壁部211Bの下面に形成し、溝16dをハンド部材1の上面に形成した例を示している。突起211Baは、上側壁部211Bの先端側に横幅方向(図7(B)中のX方向)に沿って設けられ、溝16dは、嵌合部16Bにおける突起211Baに対向する位置に設けられる。突起211Baと16dは、摩擦保持部材2Bの縦幅方向における位置決め(嵌め込み深さ)に寄与する。下側壁部212Bの位置を規定するものとして、下側壁部212Bに突起212Baを形成し、ハンド部材1の下面に溝16dを形成してもよい。
A ハンド、1 ハンド部材、2 摩擦保持部材、16 嵌合部

Claims (13)

  1. 半導体ウェハを移載するロボットアームのハンドを構成するハンド部材であって、
    前記ハンド部材は、前記半導体ウェハが載置されるU字形の部材であり、
    前記ハンド部材は、その内周縁部及び外周縁部に、前記半導体ウェハを保持する摩擦保持部材が側方から嵌め合わされる嵌合部を備える、
    ことを特徴とするハンド部材。
  2. 半導体ウェハを移載するロボットアームのハンドを構成するハンド部材であって、
    前記ハンド部材は、前記半導体ウェハが載置され、難削材で構成されるU字形の部材であり、
    前記ハンド部材は、その内周縁部及び外周縁部に、前記半導体ウェハを保持する摩擦保持部材が側方から嵌め合わされる嵌合部を備え、
    前記嵌合部は、その周囲よりも薄肉の部位であり、
    前記嵌合部は、少なくとも三つ形成されている、
    ことを特徴とするハンド部材。
  3. 請求項2に記載のハンド部材であって、
    前記外周縁部には、前記嵌合部が少なくとも三つ形成され、
    前記内周縁部には、前記嵌合部が少なくとも三つ形成されている、
    ことを特徴とするハンド部材。
  4. 請求項2に記載のハンド部材であって、
    吸着部を更に備える、
    ことを特徴とするハンド部材。
  5. 半導体ウェハを移載するロボットアームのハンドであって、
    前記半導体ウェハが載置されるU字形のハンド部材と、
    前記半導体ウェハを保持する複数の摩擦保持部材と、を備え、
    前記ハンド部材は、その内周縁部及び外周縁部に、側方から前記複数の摩擦保持部材が嵌め合わされる嵌合部を備える、
    ことを特徴とするハンド。
  6. 請求項5に記載のハンドであって、
    前記摩擦保持部材は、
    上側壁部と、下側壁部と、前記上側壁部と前記下側壁部とを接続する側壁部と、を含み、
    前記下側壁部は、前記側壁部側から先端側へ向かって、前記上側壁部に近づくように傾斜して設けられ、
    前記嵌合部に、前記上側壁部、前記下側壁部、及び前記側壁部とで囲まれた空間部を嵌め合わせた、
    ことを特徴とするハンド。
  7. 請求項6に記載のハンドであって、
    前記摩擦保持部材は、
    前記上側壁部の上面に、前記半導体ウェハを保持する摩擦部材を備える、
    ことを特徴とするハンド。
  8. 請求項7に記載のハンドであって、
    前記摩擦部材は、前記上側壁部の上面における周縁部を除く部分に設けられる、
    ことを特徴とするハンド。
  9. 請求項5に記載のハンドであって、
    前記嵌合部は、その周囲よりも薄肉の部位である、
    ことを特徴とするハンド。
  10. 請求項5に記載のハンドであって、
    前記嵌合部は、少なくとも三つ形成されている、
    ことを特徴とするハンド。
  11. 請求項5に記載のハンドであって、
    前記ハンド部材の前記外周縁部には、少なくとも三つの前記嵌合部が形成され、
    前記ハンド部材の前記内周縁部には、少なくとも三つの前記嵌合部が形成されている、
    ことを特徴とするハンド。
  12. 請求項5に記載のハンドであって、
    前記ハンド部材を難削材で構成した、
    ことを特徴とするハンド。
  13. 請求項5に記載のハンドであって、
    前記ハンド部材に設けられた吸着部を更に備える、
    ことを特徴とするハンド。
JP2015228949A 2015-11-24 2015-11-24 ハンド部材およびハンド Active JP6594177B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015228949A JP6594177B2 (ja) 2015-11-24 2015-11-24 ハンド部材およびハンド
TW105132912A TWI624899B (zh) 2015-11-24 2016-10-12 手部構件及手部
US15/337,073 US9776333B2 (en) 2015-11-24 2016-10-28 Hand member and hand
KR1020160150069A KR101882903B1 (ko) 2015-11-24 2016-11-11 핸드 부재 및 핸드
CN201611052096.1A CN106783715B (zh) 2015-11-24 2016-11-24 手构件和手

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015228949A JP6594177B2 (ja) 2015-11-24 2015-11-24 ハンド部材およびハンド

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017098405A true JP2017098405A (ja) 2017-06-01
JP6594177B2 JP6594177B2 (ja) 2019-10-23

Family

ID=58720189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015228949A Active JP6594177B2 (ja) 2015-11-24 2015-11-24 ハンド部材およびハンド

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9776333B2 (ja)
JP (1) JP6594177B2 (ja)
KR (1) KR101882903B1 (ja)
CN (1) CN106783715B (ja)
TW (1) TWI624899B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116945214A (zh) * 2023-09-20 2023-10-27 万向钱潮股份公司 一种机器人手指装置

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USD805044S1 (en) * 2015-10-30 2017-12-12 Hirata Corporation Adhesive sheet for substrate
US10283393B1 (en) 2017-11-08 2019-05-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Wafer carrying fork, semiconductor device manufacturing system, and wafer transporting method
TWI758595B (zh) * 2018-03-31 2022-03-21 日商平田機工股份有限公司 腔室構造
WO2019226453A1 (en) * 2018-05-22 2019-11-28 Ii-Vi Delaware, Inc. Wafer fixture for testing and transport
CN109407359A (zh) * 2018-10-29 2019-03-01 武汉华星光电技术有限公司 机械手
US11148696B2 (en) 2018-12-27 2021-10-19 Toyota Research Institute, Inc. Assistive robots including assemblies for accommodating obstacles and methods for using the same
US11597098B2 (en) 2018-12-27 2023-03-07 Toyota Research Institute, Inc. Assistive robot systems for container lifting
US11505017B2 (en) 2018-12-27 2022-11-22 Toyota Research Institute, Inc. Devices including deployable hitch assemblies and autonomous engagement systems incorporating the same
US11827500B2 (en) 2018-12-27 2023-11-28 Toyota Research Institute, Inc. Assistive robot systems for transporting containers
JP1665227S (ja) * 2019-11-28 2020-08-03
US20220063113A1 (en) * 2020-08-26 2022-03-03 WaferPath, Inc. Protective cap for a robot end effector
CN112018024A (zh) * 2020-09-11 2020-12-01 北京北方华创微电子装备有限公司 机械手

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS645752A (en) * 1987-06-30 1989-01-10 Tokyo Electron Ltd Suction arm
JPH06268125A (ja) * 1992-05-28 1994-09-22 Fujitsu Ltd ヒートシンク並びに該ヒートシンクに用いるヒートシンク取付具及びヒートシンクを用いた可搬型電子装置
JPH1022360A (ja) * 1996-07-02 1998-01-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置
JPH10198777A (ja) * 1997-01-14 1998-07-31 Oki Electric Ind Co Ltd Pcカード
WO2003076141A1 (fr) * 2002-03-12 2003-09-18 Rorze Corporation Effecteur pour transport de feuilles, systeme porteur avec effecteur et systeme de traitement de feuilles
JP2009141091A (ja) * 2007-12-06 2009-06-25 Tokyo Electron Ltd 基板保持具、基板搬送装置および基板処理システム

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5061144A (en) * 1988-11-30 1991-10-29 Tokyo Electron Limited Resist process apparatus
US5700046A (en) * 1995-09-13 1997-12-23 Silicon Valley Group, Inc. Wafer gripper
JP3774314B2 (ja) * 1998-02-24 2006-05-10 東京エレクトロン株式会社 基板の保持装置
JPH11274283A (ja) * 1998-03-18 1999-10-08 Tokyo Electron Ltd 搬送方法及び搬送装置
JPH11284059A (ja) * 1998-03-31 1999-10-15 Ikegami Tsushinki Co Ltd 半導体ウェハ把持装置
JP2001223252A (ja) * 2000-02-07 2001-08-17 Assist Japan Kk ロボットの吸着レスハンド
JP4038653B2 (ja) 2001-12-03 2008-01-30 株式会社安川電機 ウェハ搬送フォーク
US20030234548A1 (en) * 2002-06-24 2003-12-25 Ravinder Aggarwal Wafer handler
US7048316B1 (en) * 2002-07-12 2006-05-23 Novellus Systems, Inc. Compound angled pad end-effector
US7032287B1 (en) * 2002-07-19 2006-04-25 Nanometrics Incorporated Edge grip chuck
KR20050087361A (ko) * 2004-02-26 2005-08-31 세메스 주식회사 기판 이송 장치
US7344352B2 (en) * 2005-09-02 2008-03-18 Axcelis Technologies, Inc. Workpiece transfer device
JP4740188B2 (ja) 2007-05-08 2011-08-03 三菱電線工業株式会社 搬送アーム用パッド
TWI366884B (en) * 2008-11-21 2012-06-21 Au Optronics Corp Support member
KR101534357B1 (ko) * 2009-03-31 2015-07-06 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 지지 장치 및 기판 지지 방법
JP2013006222A (ja) * 2009-10-14 2013-01-10 Rorze Corp 薄板状物の把持装置、および薄板状物の把持方法
JPWO2011077678A1 (ja) 2009-12-22 2013-05-02 株式会社アルバック 基板保持装置
JP5548163B2 (ja) 2010-09-14 2014-07-16 株式会社日立国際電気 基板搬送機構、基板処理装置および半導体装置の製造方法
JP5541299B2 (ja) * 2012-01-31 2014-07-09 株式会社安川電機 搬送システム
JP5990359B2 (ja) * 2012-10-04 2016-09-14 平田機工株式会社 搬入出ロボット
US8864202B1 (en) * 2013-04-12 2014-10-21 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Spring retained end effector contact pad
CN104134621B (zh) * 2013-05-02 2017-05-10 北京智朗芯光科技有限公司 一种晶圆片辅助装载装置
JP5929947B2 (ja) * 2014-02-28 2016-06-08 株式会社安川電機 吸着パッド、ロボットハンドおよびロボット

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS645752A (en) * 1987-06-30 1989-01-10 Tokyo Electron Ltd Suction arm
JPH06268125A (ja) * 1992-05-28 1994-09-22 Fujitsu Ltd ヒートシンク並びに該ヒートシンクに用いるヒートシンク取付具及びヒートシンクを用いた可搬型電子装置
JPH1022360A (ja) * 1996-07-02 1998-01-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置
JPH10198777A (ja) * 1997-01-14 1998-07-31 Oki Electric Ind Co Ltd Pcカード
WO2003076141A1 (fr) * 2002-03-12 2003-09-18 Rorze Corporation Effecteur pour transport de feuilles, systeme porteur avec effecteur et systeme de traitement de feuilles
JP2009141091A (ja) * 2007-12-06 2009-06-25 Tokyo Electron Ltd 基板保持具、基板搬送装置および基板処理システム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116945214A (zh) * 2023-09-20 2023-10-27 万向钱潮股份公司 一种机器人手指装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20170060575A (ko) 2017-06-01
TW201729327A (zh) 2017-08-16
US20170144313A1 (en) 2017-05-25
KR101882903B1 (ko) 2018-07-27
CN106783715A (zh) 2017-05-31
JP6594177B2 (ja) 2019-10-23
US9776333B2 (en) 2017-10-03
TWI624899B (zh) 2018-05-21
CN106783715B (zh) 2019-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6594177B2 (ja) ハンド部材およびハンド
KR102150621B1 (ko) 웨이퍼 지지 및 정렬 장치
CN108140607B (zh) 基板托架
KR20170095215A (ko) 가요성 흑연 시트 지지 구조체 및 열 관리 배열체
KR102178987B1 (ko) 브레이크용 지그
JP7364692B2 (ja) 基板吸引保持構造及び基板搬送ロボット
TW201543606A (zh) 終端效果器墊
TWI791561B (zh) 非接觸式處置器及使用非接觸式處置器處置工件之方法
JP2019515512A5 (ja)
JP6462525B2 (ja) 粘着搬送トレイ及びその製造方法
CN115039212A (zh) 用于支撑基板的支撑装置、处理基板的方法及半导体基板
US11348815B2 (en) Board storing container
JP6282662B2 (ja) 吸引ヘッドおよびシート取扱装置
JP3217399U (ja) ピンセット
JP6236256B2 (ja) 真空吸着装置および真空吸着方法
JP2018046032A (ja) ウエーハ保持装置
JP2011037549A (ja) ガラス基板吸着保持装置およびそれを用いたガラス基板搬送装置
KR20140104237A (ko) 기판 수납 장치
JP6126194B2 (ja) ブレイク用治具
JP2011159936A (ja) 基板保持具及びその製造方法
JP3158395U (ja) 湿式工程用基板の移送トレー
JP3167729U (ja) ピンセット
JP2004223650A (ja) 吸着保持装置
JP2020097065A (ja) 非接触吸引装置
JP2009194183A (ja) 半導体ウェーハの取り扱い方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180817

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190510

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190517

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190710

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190823

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190924

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6594177

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250