JP2017081109A - 積層体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ステルスインキ層に起因する積層体表面の凹凸を認識することを困難なものにでき、偽造や改造等をより一層防止できる積層体、及びその製造方法の提供。【解決手段】被転写体１１と、被転写体１１上の不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層１２と、被転写体１１およびステルスインキ層１２上の隠蔽層１３と、を備えてなり、隠蔽層１３の厚さが、ステルスインキ層１２の厚さの４倍以上であり、隠蔽層１３が、遮蔽層１４を含んでいる積層体１０。更に遮蔽層１４の上に受容層１５、又は、被転写体１１のステルスイン層１２の反対側の面に受容層を設け、受容層１５の上に画像を形成し、その上に保護層１６を設ける積層体１０。【選択図】図２
Description
本発明は積層体およびその製造方法に関する。
ＩＣカードや、カードゲーム等で使用されるカードの中には、赤外線等の不可視光線吸収性のインキを用いて、カード固有の情報が記録され、特定の装置により読み取ることのできるステルスインキ層（コードパターン）が形成された積層体が使用されている（特許文献１）。
ステルスインキ層が形成されたカードまたは積層体をそれら表面から観察すると、カード表面には画像が印刷されているにもかかわらず、ステルスインキ層に起因する凹凸が目視により観察されてしまい、従来から、カードの偽造や改造が行われるといった問題があった。
上記のような問題を解決するために、ステルスインキ層上に、隠蔽層を形成し、容易に情報が読み取られないようにすることが提案されている（特許文献２参照）。
しかしながら、単に隠蔽層を形成させただけでは、やはり、ステルスインキ層に起因する凹凸は観察されてしまい、コードパターンの位置および形状が認識されてしまっていた。
さらに、特許文献１において開示される積層体は、その外面の画像情報が、オフセット印刷などを用いて形成させたものであり、オンデマンドによる製造には適していなかった。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、ステルスインキ層に起因する積層体表面の凹凸を認識することを困難なものとすることができ、偽造や改造等をより一層防止することができる積層体およびその製造方法を提供することを主たる課題とする。また、オンデマンドによる製造に適性した積層体を提供することを課題とする。
本発明による積層体は、
被転写体と、
被転写体上の不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層と、
被転写体およびステルスインキ層上の隠蔽層と、
を備えてなり、
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの４倍以上であり、隠蔽層が、遮蔽層を含んでなることを特徴とする。
被転写体と、
被転写体上の不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層と、
被転写体およびステルスインキ層上の隠蔽層と、
を備えてなり、
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの４倍以上であり、隠蔽層が、遮蔽層を含んでなることを特徴とする。
上記態様においては、隠蔽層が、遮蔽層上に設けられた受容層を含んでなることが好ましい。
上記態様においては、隠蔽層が、受容層上に設けられた保護層を含んでなることが好ましい。
上記態様においては、ステルスインキ層の色と、遮蔽層の色とが同系色であることが好ましい。
本発明による上記積層体の製造方法は、
被転写体を準備する工程と、
被転写体上に、不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層を形成する工程と、
被転写体およびステルスインキ層上に、隠蔽層を形成する工程と、を含んでなることを特徴とする。
被転写体を準備する工程と、
被転写体上に、不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層を形成する工程と、
被転写体およびステルスインキ層上に、隠蔽層を形成する工程と、を含んでなることを特徴とする。
上記態様においては、隠蔽層の形成工程が、被転写体およびステルスインキ層上に、遮蔽層を形成する工程を含んでなることが好ましい。
上記態様においては、隠蔽層の形成工程が、遮蔽層上に、受容層を形成する工程と、受容層上に画像を形成する工程とを含んでなることが好ましい。
上記態様においては、隠蔽層の形成工程が、画像が形成された受容層上に、保護層を形成する工程を含んでなることが好ましい。
上記態様においては、ステルスインキ層がぼかし印刷法を用いて形成されたものであることが好ましい。
本発明によれば、ステルスインキ層に起因する積層体表面の凹凸を認識することを困難なものとすることができ、偽造や改造等をより一層防止することができる。また、本発明に係る積層体は、備える各層が熱溶融転写または昇華転写により形成させることができるものであるため、オンデマンド印刷に適したものである。
（積層体）
本発明による積層体１０は、図１に示すように、
被転写体１１と、
被転写体１１上の不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層１２と、
被転写体１１およびステルスインキ層１２上の隠蔽層１３と、
を備えてなり、
隠蔽層１３の厚さが、ステルスインキ層１２の厚さの４倍以上であることを特徴とする。
本発明による積層体１０は、図１に示すように、
被転写体１１と、
被転写体１１上の不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層１２と、
被転写体１１およびステルスインキ層１２上の隠蔽層１３と、
を備えてなり、
隠蔽層１３の厚さが、ステルスインキ層１２の厚さの４倍以上であることを特徴とする。
一実施形態において、図２に示すように、隠蔽層１３は、遮蔽層１４、受容層１５および保護層１６を含んでなる。
以下、積層体が備える各層について詳細に説明する。
（被転写体）
一実施形態において、本発明の方法に用いられる被転写体は、天燃繊維紙、上質紙、アート紙、軽量コート紙、微塗工紙、コート紙、キャストコート紙、合成樹脂またはエマルジョン含浸紙、トレーシングペーパー、プラスチックフィルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布等からなるものであり、単層からなるものであっても、複数層からなるものであっても良い。
一実施形態において、本発明の方法に用いられる被転写体は、天燃繊維紙、上質紙、アート紙、軽量コート紙、微塗工紙、コート紙、キャストコート紙、合成樹脂またはエマルジョン含浸紙、トレーシングペーパー、プラスチックフィルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布等からなるものであり、単層からなるものであっても、複数層からなるものであっても良い。
被転写体がプラスチックフィルムからなる場合、プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン等の各種プラスチックフィルムまたはシートを挙げることができる。
プラスチックフィルムは、上記した樹脂を主成分とする共重合樹脂若しくは混合体（アロイを含む）であってもよい。
プラスチックフィルムは、上記した樹脂を主成分とする共重合樹脂若しくは混合体（アロイを含む）であってもよい。
また、被転写体は、その一方の面または両面に受容層を備えてなるものであってもよく、後述するように、ステルスインキ層を設ける面とは反対の面に画像を形成してもよい。
被転写体の厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、３μｍ以上、８００μｍであることが好ましく、１００μｍ以上、６００μｍ以下であることがより好ましい。
（ステルスインキ層）
一実施形態において、ステルスインキ層は、赤外線や紫外線を用いた光学的読取装置を使用することにより、積層体固有の情報を読み取ることができるコードパターンを形成している。
ステルスインキ層は、ぼかし印刷法、例えば、ディザ法等により補正された画像を用いて溶融熱転写することが特に好ましい。これにより、ステルスインキ層の輪郭をぼかすことができ、ステルスインキ層の形状の認識をさらに困難なものとすることができ、偽造や改造等をより一層防止することができる。
一実施形態において、ステルスインキ層は、赤外線や紫外線を用いた光学的読取装置を使用することにより、積層体固有の情報を読み取ることができるコードパターンを形成している。
ステルスインキ層は、ぼかし印刷法、例えば、ディザ法等により補正された画像を用いて溶融熱転写することが特に好ましい。これにより、ステルスインキ層の輪郭をぼかすことができ、ステルスインキ層の形状の認識をさらに困難なものとすることができ、偽造や改造等をより一層防止することができる。
ステルスインキ層は、不可視光線吸収材料を含んでなる。不可視光線吸収材料としては、例えば、赤外線吸収材料や紫外線吸収材料を挙げることができる。
本明細書において、赤外線とは、極大吸収波長（λｍａｘ）領域が、７００〜１０００ｎｍであるものをいう。また、紫外線とは、極大吸収波長（λｍａｘ）領域が、２８０〜４００ｎｍであるものをいう。
本明細書において、赤外線とは、極大吸収波長（λｍａｘ）領域が、７００〜１０００ｎｍであるものをいう。また、紫外線とは、極大吸収波長（λｍａｘ）領域が、２８０〜４００ｎｍであるものをいう。
ステルスインキ層における不可視光線吸収材料の含有量は、１質量％以上、６０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上、４０質量％以下であることがより好ましい。不可視光線吸収材料の含有量を上記数値範囲とすることにより、ステルスインキ層を熱溶融転写する際のコードパターンの転写性と積層体固有の情報の読取を両立することができる。
赤外線吸収材料としては、例えば、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ジチオール系有機金属錯体、シアニン系化合物、アゾ系化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物、オキソール系化合物やカーボンブラック等が挙げられ、ステルスインキ層は、上記のような赤外線吸収材料を１種または２種以上含んでいてもよい。
紫外線吸収材料としては、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾエート系化合物等の有機系紫外線吸収材料や、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等の無機系紫外線吸収材料が挙げられ、ステルスインキ層は、上記のような紫外線吸収材料を１種または２種以上含んでいてもよい。
ステルスインキ層は、バインダー樹脂を含んでなることができる。バインダー樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フェノール系樹脂およびポリウレタン系樹脂等の公知の樹脂、並びにこれらの共重合体を挙げることができる。
ステルスインキ層におけるバインダー樹脂の含有量は、４０質量％以上、９９質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上、９５質量％以下であることがより好ましい。
ステルスインキ層におけるバインダー樹脂の含有量は、４０質量％以上、９９質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上、９５質量％以下であることがより好ましい。
ステルスインキ層の厚さは、０．１μｍ以上、５μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以上、２μｍ以下であることがより好ましい。
（隠蔽層）
隠蔽層は、被転写体およびステルスインキ層上に形成される層であり、ステルスインキ層の４倍以上の厚さを有する層である。
隠蔽層の厚さと、ステルスインキ層の厚さとの関係を上記のようにすることにより、ステルスインキ層に起因する積層体表面の凹凸を認識することを困難なものとすることができる。
したがって、ステルスインキ層により形成されるコードパターンの位置や形状の認識を困難なものとすることができ、偽造や改造等をより一層防止することができる。より好ましくは隠蔽層の厚さは、ステルスインキ層の厚さの４．５倍以上であり、さらに好ましくは５倍以上である。また箔切れの問題が無く、良好な熱性転写を行う観点から、隠蔽層の厚さは、ステルスインキ層の厚さの１００倍以下であることが好ましい。
隠蔽層は、被転写体およびステルスインキ層上に形成される層であり、ステルスインキ層の４倍以上の厚さを有する層である。
隠蔽層の厚さと、ステルスインキ層の厚さとの関係を上記のようにすることにより、ステルスインキ層に起因する積層体表面の凹凸を認識することを困難なものとすることができる。
したがって、ステルスインキ層により形成されるコードパターンの位置や形状の認識を困難なものとすることができ、偽造や改造等をより一層防止することができる。より好ましくは隠蔽層の厚さは、ステルスインキ層の厚さの４．５倍以上であり、さらに好ましくは５倍以上である。また箔切れの問題が無く、良好な熱性転写を行う観点から、隠蔽層の厚さは、ステルスインキ層の厚さの１００倍以下であることが好ましい。
隠蔽層は、単層からなる層であっても、多層からなる層であってもよい。
一実施形態において、隠蔽層は、後述する遮蔽層を含んでなる。
また、一実施形態において、隠蔽層は、遮蔽層および受容層をこの順に含んでなる。
また、一実施形態において、隠蔽層は、遮蔽層、受容層および保護層をこの順に含んでなる。
さらに、隠蔽層は、遮蔽層と受容層との間および／または受容層と保護層との間にプライマー層を含んでいても良い。
さらに、隠蔽層は、剥離層を含んでいても良い。
一実施形態において、隠蔽層は、後述する遮蔽層を含んでなる。
また、一実施形態において、隠蔽層は、遮蔽層および受容層をこの順に含んでなる。
また、一実施形態において、隠蔽層は、遮蔽層、受容層および保護層をこの順に含んでなる。
さらに、隠蔽層は、遮蔽層と受容層との間および／または受容層と保護層との間にプライマー層を含んでいても良い。
さらに、隠蔽層は、剥離層を含んでいても良い。
（遮蔽層）
本発明による積層体が備える隠蔽層は、遮蔽層を含んでなることができる。
この遮蔽層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
また、遮蔽層の色は、ステルスインキ層の色と同系色であることが好ましい。これにより、ステルスインキ層により形成されるコードパターンの位置や形状の認識を困難なものとすることができ、偽造や改造等をより一層防止することができる。
なお、本明細書において、同系色とは、色相、明度、彩度および光沢度の全てあるいはいずれかにおいて同一または類似である色のことを意味する。例えば、銀色と灰色とは同系色である。
より具体的には、遮蔽層と、ステルスインキ層との色差（ΔＥ*ａｂ）は、５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましく、１以下であることがさらに好ましい。
色差（ΔＥ*ａｂ）は、例えば、分光測定器（グレタグマクベス社製、商品名：ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ）を使用することにより測色し、国際証明委員会のＬ*ａ*ｂ*表色系における数値で定義するものである。なお、ΔＥ*ａｂ＝（（ΔＬ*）２＋（Δａ*）２＋（Δｂ*）２）１／２で表される値であり、値が大きいほど目視したときの色の違いが著しい。なお、（ΔＬ*）、（Δａ*）、（Δｂ*）は、ステルスインキ層と、遮蔽層とのＬ*、ａ*およびｂ*の値の差である。
本発明による積層体が備える隠蔽層は、遮蔽層を含んでなることができる。
この遮蔽層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
また、遮蔽層の色は、ステルスインキ層の色と同系色であることが好ましい。これにより、ステルスインキ層により形成されるコードパターンの位置や形状の認識を困難なものとすることができ、偽造や改造等をより一層防止することができる。
なお、本明細書において、同系色とは、色相、明度、彩度および光沢度の全てあるいはいずれかにおいて同一または類似である色のことを意味する。例えば、銀色と灰色とは同系色である。
より具体的には、遮蔽層と、ステルスインキ層との色差（ΔＥ*ａｂ）は、５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましく、１以下であることがさらに好ましい。
色差（ΔＥ*ａｂ）は、例えば、分光測定器（グレタグマクベス社製、商品名：ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ）を使用することにより測色し、国際証明委員会のＬ*ａ*ｂ*表色系における数値で定義するものである。なお、ΔＥ*ａｂ＝（（ΔＬ*）２＋（Δａ*）２＋（Δｂ*）２）１／２で表される値であり、値が大きいほど目視したときの色の違いが著しい。なお、（ΔＬ*）、（Δａ*）、（Δｂ*）は、ステルスインキ層と、遮蔽層とのＬ*、ａ*およびｂ*の値の差である。
遮蔽層は、着色剤を含んでなることができる。着色剤としては特に限定は無く、白色、銀色、黒色、シアン、マゼンダ、イエロー等の顔料や染料、金属粉を使用することができる。
また、遮蔽層は、本発明の目的を損なわない範囲において、不可視光線吸収性の着色剤を含んでなることができる。例えば、ステルスインキ層が不可視光線吸収材料として、赤外線吸収材料を含んでなる場合、遮蔽層は、紫外線吸収性の着色剤を含んでいてもよい。
遮蔽層における着色剤の含有量は、後述する遮蔽層のバインダー樹脂の固形総量に対して２質量部以上、５００質量部以下であることが好ましく、５質量部以上、４５０質量部以下であることがより好ましい。
また、遮蔽層は、本発明の目的を損なわない範囲において、不可視光線吸収性の着色剤を含んでなることができる。例えば、ステルスインキ層が不可視光線吸収材料として、赤外線吸収材料を含んでなる場合、遮蔽層は、紫外線吸収性の着色剤を含んでいてもよい。
遮蔽層における着色剤の含有量は、後述する遮蔽層のバインダー樹脂の固形総量に対して２質量部以上、５００質量部以下であることが好ましく、５質量部以上、４５０質量部以下であることがより好ましい。
遮蔽層は、ステルスインキ層に含まれるバインダー樹脂と同様の樹脂を含んでなることができる。
遮蔽層におけるバインダー樹脂の含有量は、隠蔽層の固形総量のうち１５質量％以上、９９質量％以下であることが好ましく、１８質量％以上、９６質量％以下であることがより好ましい。
遮蔽層におけるバインダー樹脂の含有量は、隠蔽層の固形総量のうち１５質量％以上、９９質量％以下であることが好ましく、１８質量％以上、９６質量％以下であることがより好ましい。
遮蔽層の厚さは、厚さは、０．０５μｍ以上、５μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上、３μｍ以下であることがより好ましい。
（受容層）
本発明による積層体が備える隠蔽層は、受容層を含んでなることができる。
受容層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
受容層を形成するための材料としては、昇華性染料または熱溶融性インキ等の熱移行性の色材を受容し易い従来公知の樹脂材料を使用することができる。例えば、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルもしくはポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化樹脂、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体もしくはポリアクリル酸エステル等のビニル系樹脂、ＰＥＴもしくはＰＢＴ等のポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エチレンもしくはプロピレン等のオレフィンと他のビニルポリマーとの共重合体系樹脂、アイオノマーもしくはセルロースジアスターゼ等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート等が挙げられ、これらの中でも、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体、またはポリ塩化ビニル樹脂が好ましく、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体が特に好ましい。
本発明による積層体が備える隠蔽層は、受容層を含んでなることができる。
受容層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
受容層を形成するための材料としては、昇華性染料または熱溶融性インキ等の熱移行性の色材を受容し易い従来公知の樹脂材料を使用することができる。例えば、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルもしくはポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化樹脂、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体もしくはポリアクリル酸エステル等のビニル系樹脂、ＰＥＴもしくはＰＢＴ等のポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エチレンもしくはプロピレン等のオレフィンと他のビニルポリマーとの共重合体系樹脂、アイオノマーもしくはセルロースジアスターゼ等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート等が挙げられ、これらの中でも、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体、またはポリ塩化ビニル樹脂が好ましく、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体が特に好ましい。
受容層の厚さは、０．２μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上、５μｍ以下であることがより好ましい。
（保護層）
本発明による積層体が備える隠蔽層は、保護層を含んでなることができる。
保護層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
保護層を形成するための材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、これら樹脂をシリコーン変性させた樹脂、活性光線硬化樹脂等を挙げることができる。
なお、本明細書において、活性光線硬化性樹脂とは活性光線を照射する前の前駆体または組成物を意味し、活性光線線を照射して活性光線硬化性樹脂を硬化させたものを活性光線硬化樹脂というものとする。
本発明による積層体が備える隠蔽層は、保護層を含んでなることができる。
保護層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
保護層を形成するための材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、これら樹脂をシリコーン変性させた樹脂、活性光線硬化樹脂等を挙げることができる。
なお、本明細書において、活性光線硬化性樹脂とは活性光線を照射する前の前駆体または組成物を意味し、活性光線線を照射して活性光線硬化性樹脂を硬化させたものを活性光線硬化樹脂というものとする。
保護層の厚さは、０．２μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以上、５μｍ以下であることがより好ましい。
（プライマー層）
本発明による積層体が備える隠蔽層は、受容層を含んでなることができる。
プライマー層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
本発明による積層体が備える隠蔽層は、受容層を含んでなることができる。
プライマー層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
プライマー層は、ステルスインキ層に含まれるバインダー樹脂と同様の樹脂を含んでなることができる。
また、プライマー層は、無機微粒子を含んでもよく、例えば、シリカ（コロダイルシリカ）、アルミナまたはアルミナ水和物（アルミナゾル、コロダイルアルミナ、カチオン性アルミニウム酸化物またはその水和物）、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン等が挙げられる。
無機微粒子の平均粒子径は、０．０１μｍ以上、５μｍ以下であることが好ましい。無機微粒子の平均粒子径は、０．０１μｍ以上、３μｍ以下であることがより好ましい。なお、「平均粒子径」とは、体積平均粒子径を意味し、粒度分布・粒径分布測定装置（例えば、ナノトラック粒度分布測定装置、日機装株式会社製等）を用いて公知の方法により測定することができる。
また、プライマー層は、無機微粒子を含んでもよく、例えば、シリカ（コロダイルシリカ）、アルミナまたはアルミナ水和物（アルミナゾル、コロダイルアルミナ、カチオン性アルミニウム酸化物またはその水和物）、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン等が挙げられる。
無機微粒子の平均粒子径は、０．０１μｍ以上、５μｍ以下であることが好ましい。無機微粒子の平均粒子径は、０．０１μｍ以上、３μｍ以下であることがより好ましい。なお、「平均粒子径」とは、体積平均粒子径を意味し、粒度分布・粒径分布測定装置（例えば、ナノトラック粒度分布測定装置、日機装株式会社製等）を用いて公知の方法により測定することができる。
プライマー層の厚さは、０．０２μｍ以上、６μｍ以下であることが好ましく、０．０４μｍ以上、４μｍ以下であることがより好ましい。
（剥離層）
本発明による積層体が備える隠蔽層は、剥離層を含んでなることができる。
本明細書において、剥離層とは熱転写の際、ステルスインキ層等と共に被転写体上へ転写される層のことを指す。
剥離層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
本発明による積層体が備える隠蔽層は、剥離層を含んでなることができる。
本明細書において、剥離層とは熱転写の際、ステルスインキ層等と共に被転写体上へ転写される層のことを指す。
剥離層は、不可視光線非吸収性であることが好ましい。
剥離層は、バインダー樹脂および離型性材料を含んでなることができる。
バインダー樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等が挙げられる。
離型性材料としては、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン系樹脂、メラミン樹脂、タルク、シリカ、界面活性剤等が挙げられる。
バインダー樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等が挙げられる。
離型性材料としては、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン系樹脂、メラミン樹脂、タルク、シリカ、界面活性剤等が挙げられる。
剥離層の厚さは、０．２μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましく、０．４μｍ以上、５μｍ以下であることがより好ましい。
（積層体の製造方法）
本発明による積層体の製造方法は、
被転写体を準備する工程と、
被転写体上に、不可視光線吸収材料を含むステルスインキ層を形成する工程と、
被転写体およびステルスインキ層上に、隠蔽層を熱転写する工程と、を含んでなる。
以下、上記各工程について詳細に説明する。
本発明による積層体の製造方法は、
被転写体を準備する工程と、
被転写体上に、不可視光線吸収材料を含むステルスインキ層を形成する工程と、
被転写体およびステルスインキ層上に、隠蔽層を熱転写する工程と、を含んでなる。
以下、上記各工程について詳細に説明する。
（被転写体を準備する工程）
積層体の製造に使用する被転写体は上記した通りである。
積層体の製造に使用する被転写体は上記した通りである。
（ステルスインキ層の形成工程）
ステルスインキ層は、熱転写シート上のステルスインキ層を積層体が備える被転写体上に溶融熱転写することにより、形成することができる。
ステルスインキ層は、熱転写シート上のステルスインキ層を積層体が備える被転写体上に溶融熱転写することにより、形成することができる。
（隠蔽層の形成工程）
隠蔽層は熱転写シート上の隠蔽層を積層体が備える被転写体およびステルスインキ層上に溶融熱転写することにより、形成することができる。
隠蔽層は熱転写シート上の隠蔽層を積層体が備える被転写体およびステルスインキ層上に溶融熱転写することにより、形成することができる。
一実施形態において、隠蔽層の形成工程は、被転写体およびステルスインキ層上に遮蔽層を形成する工程を含んでなる。
また、一実施形態において、隠蔽層の形成工程は、遮蔽層上に受容層を形成する工程を含んでなる。
また、一実施形態において、受容層上に画像を形成する工程を含んでなる。
また、一実施形態において、画像を形成した受容層上に保護層を形成する工程を含んでなる。
また、一実施形態において、隠蔽層の形成工程は、遮蔽層と受容層との間または受容層と保護層との間にプライマー層を形成する工程を含んでいても良い。
また、一実施形態において、隠蔽層の形成工程は、剥離層を形成する工程を含んでいても良い。
また、一実施形態において、隠蔽層の形成工程は、遮蔽層上に受容層を形成する工程を含んでなる。
また、一実施形態において、受容層上に画像を形成する工程を含んでなる。
また、一実施形態において、画像を形成した受容層上に保護層を形成する工程を含んでなる。
また、一実施形態において、隠蔽層の形成工程は、遮蔽層と受容層との間または受容層と保護層との間にプライマー層を形成する工程を含んでいても良い。
また、一実施形態において、隠蔽層の形成工程は、剥離層を形成する工程を含んでいても良い。
遮蔽層、受容層、保護層およびプライマー層の形成は、熱転写シート上の受容層を積層体が備える隠蔽層上に熱転写、好ましくは、溶融熱転写することにより、形成することができる。
受容層上への画像の形成は、熱転写シート上の染料層を積層体が備える受容層上に昇華熱転写することにより行うことができる。なお、本明細書において、画像には、絵柄だけではなく、文字等も含まれる。
また、一実施形態において、画像を形成した受容層上に金銀の箔を押したり、ホログラムを付けたり等の加工処理を施してもよい。
また、一実施形態において、被転写体のステルスインキ層等を形成させた面とは反対の面に画像を形成させてもよい。
剥離層の形成は、熱転写シート上のステルスインキ層等を溶融熱転写する際に、このステルスインキ層等とともに熱溶融転写することにより形成することができる。
受容層上への画像の形成は、熱転写シート上の染料層を積層体が備える受容層上に昇華熱転写することにより行うことができる。なお、本明細書において、画像には、絵柄だけではなく、文字等も含まれる。
また、一実施形態において、画像を形成した受容層上に金銀の箔を押したり、ホログラムを付けたり等の加工処理を施してもよい。
また、一実施形態において、被転写体のステルスインキ層等を形成させた面とは反対の面に画像を形成させてもよい。
剥離層の形成は、熱転写シート上のステルスインキ層等を溶融熱転写する際に、このステルスインキ層等とともに熱溶融転写することにより形成することができる。
（熱転写シート）
一実施形態において、上記した積層体が備えるステルスインキ層等の形成は、熱転写シートを用いて行われる。
熱転写シート２０は、図３に示すように、基材２１と、ステルスインキ層１２と、遮蔽層１４とを面順次に備えてなる。また、基材２１と遮蔽層１４との間に受容層１５を備えていてもよい。
また、染料層２２や保護層１６をステルスインキ層１２等と面順次に備えていてもよい。
さらに、プライマー層２３や剥離層２４を任意の層間に備えていてもよい。
また、ステルスインキ層等を形成した側とは反対の面に背面層２５を備えていてもよい。
以下、熱転写シートを構成する各層について説明する。
一実施形態において、上記した積層体が備えるステルスインキ層等の形成は、熱転写シートを用いて行われる。
熱転写シート２０は、図３に示すように、基材２１と、ステルスインキ層１２と、遮蔽層１４とを面順次に備えてなる。また、基材２１と遮蔽層１４との間に受容層１５を備えていてもよい。
また、染料層２２や保護層１６をステルスインキ層１２等と面順次に備えていてもよい。
さらに、プライマー層２３や剥離層２４を任意の層間に備えていてもよい。
また、ステルスインキ層等を形成した側とは反対の面に背面層２５を備えていてもよい。
以下、熱転写シートを構成する各層について説明する。
（基材）
基材としては、ステルスインキ層等を積層体の被転写体へ転写する際の熱エネルギー（例えば、サーマルヘッドの熱）に耐え得る耐熱性を有し、ステルスインキ層等を支持できる機械的強度や耐溶剤性を有しているものであれば、特に制限なく使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン等の各種プラスチックフィルムまたはシートを挙げることができる。
基材としては、ステルスインキ層等を積層体の被転写体へ転写する際の熱エネルギー（例えば、サーマルヘッドの熱）に耐え得る耐熱性を有し、ステルスインキ層等を支持できる機械的強度や耐溶剤性を有しているものであれば、特に制限なく使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン等の各種プラスチックフィルムまたはシートを挙げることができる。
基材は、上記した樹脂を主成分とする共重合樹脂若しくは混合体（アロイを含む）、または複数層からなる積層体であっても良い。また、基材は、延伸フィルムであっても、未延伸フィルムであってもよいが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸されたフィルムを使用することが好ましい。
基材は、厚みが２．５μｍ以上、５０μｍ以下であることが好ましい。基材の厚さを上記数値範囲とすることにより、機械的強度を維持しつつ、ステルスインキ層等の転写性を向上させることができる。
基材には、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、帯電防止層付与等の易接着処理を行ってもよい。また、基材には、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤等の添加剤を加えても良い。
（ステルスインキ層）
熱転写シートは、基材上にステルスインキ層を備えてなる。ステルスインキ層に含まれる材料等については上記した通りである。
熱転写シートは、基材上にステルスインキ層を備えてなる。ステルスインキ層に含まれる材料等については上記した通りである。
ステルスインキ層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを基材等の上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。
（遮蔽層）
熱転写シートは、基材上に遮蔽層を備えてなることができる。遮蔽層に含まれる材料等については上記した通りである。
熱転写シートは、基材上に遮蔽層を備えてなることができる。遮蔽層に含まれる材料等については上記した通りである。
遮蔽層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これをステルスインキ層等の上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。
また、乾燥時の塗布量は、０．２μｍ以上、１５μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることがより好ましい。
また、乾燥時の塗布量は、０．２μｍ以上、１５μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることがより好ましい。
（受容層）
熱転写シートは、基材と遮蔽層との間に受容層を備えていてもよい。また、これに限られず、熱転写シートは、遮蔽層等と面順次となるように受容層を備えていてもよい。また、受容層に含まれる材料等については上記した通りである。
熱転写シートは、基材と遮蔽層との間に受容層を備えていてもよい。また、これに限られず、熱転写シートは、遮蔽層等と面順次となるように受容層を備えていてもよい。また、受容層に含まれる材料等については上記した通りである。
受容層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを遮蔽層等の上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。
（染料層）
熱転写シートは、ステルスインキ層等と面順次となるように染料層を備えていてもよい。
熱転写シートは、ステルスインキ層等と面順次となるように染料層を備えていてもよい。
染料層は昇華型の染料を含んでなることが好ましく、例えば、ジアリールメタン系染料、トリアリールメタン系染料、チアゾール系染料、メロシアニン染料、ピラゾロン染料、メチン系染料、インドアニリン系染料、アセトフェノンアゾメチン、ピラゾロアゾメチン、イミダゾルアゾメチン、イミダゾアゾメチン、ピリドンアゾメチン等のアゾメチン系染料、キサンテン系染料、オキサジン系染料、ジシアノスチレン、トリシアノスチレン等のシアノスチレン系染料、チアジン系染料、アジン系染料、アクリジン系染料、ベンゼンアゾ系染料、ピリドンアゾ、チオフェンアゾ、イソチアゾールアゾ、ピロールアゾ、ピラゾールアゾ、イミダゾールアゾ、チアジアゾールアゾ、トリアゾールアゾ、ジスアゾ等のアゾ系染料、スピロピラン系染料、インドリノスピロピラン系染料、フルオラン系染料、ローダミンラクタム系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、キノフタロン系染料等が挙げられ、より具体的には、ＭＳＲｅｄＧ（三井東圧化学社製）、Ｍａｃｒｏｌｅｘ Ｒｅｄ Ｖｉｏｌｅｔ Ｒ（バイエル社製）、ＣｅｒｅｓＲｅｄ ７Ｂ（バイエル社製）、Ｓａｍａｒｏｎ Ｒｅｄ Ｆ３ＢＳ（三菱化学社製）等の赤色染料、ホロンブリリアントイエロー６ＧＬ（クラリアント社製）、ＰＴＹ−５２（三菱化成社製）、マクロレックスイエロー６Ｇ（バイエル社製）等の黄色染料、カヤセットブルー７１４（日本化薬社製）、ワクソリンブルーＡＰ−ＦＷ（ＩＣＩ社製）、ホロンブリリアントブルーＳ−Ｒ（サンド社製）、ＭＳブルー１００（三井東圧化学社製）、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー２２等の青色染料を使用することができる。
染料層における染料の含有量は、後述するバインダー樹脂の固形分総量１００質量部に対し、５０質量部以上、３５０質量部の範囲内であることが好ましく、８０質量部以上、３００質量部の範囲内であることがより好ましい。昇華性染料の含有量が、上記範囲未満であると印画濃度が低下する傾向にあり、上記範囲を超えると保存性等が低下する傾向にある。
染料層は、上記染料を担持するためのバインダー樹脂を含んでなることが好ましく、例えば、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等が挙げられる。
染料層におけるバインダー樹脂の含有量は、２０質量％以上、８０質量％以下であることが好ましい。
染料層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを基材等の上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。
熱転写シートは、ステルスインキ層等と面順次となるように保護層を備えていてもよい。保護層に含まれる材料等については上記した通りである。
（保護層）
保護層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを隠蔽層等の上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。また、保護層が活性光線硬化性樹脂を含んでなる場合は、塗工液と塗布した後、活性光線を照射することが好ましい。
保護層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを隠蔽層等の上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。また、保護層が活性光線硬化性樹脂を含んでなる場合は、塗工液と塗布した後、活性光線を照射することが好ましい。
（プライマー層）
熱転写シートは、基材と染料層との間等任意の層間に備えてもよく、色材層等の最表面に備えてもよい。プライマー層に含まれる材料等については上記した通りである。
熱転写シートは、基材と染料層との間等任意の層間に備えてもよく、色材層等の最表面に備えてもよい。プライマー層に含まれる材料等については上記した通りである。
プライマー層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを基材等の上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。
（剥離層）
熱転写シートは、基材と任意の層との間に剥離層を備えていてもよい。熱溶融転写シートが剥離層を備えてなることにより、熱転写シートから被転写体へ転写される各層の基材から剥離性を向上させることができる。また、剥離層は転写後、被転写体の最表層に位置することになる。
熱転写シートは、基材と任意の層との間に剥離層を備えていてもよい。熱溶融転写シートが剥離層を備えてなることにより、熱転写シートから被転写体へ転写される各層の基材から剥離性を向上させることができる。また、剥離層は転写後、被転写体の最表層に位置することになる。
剥離層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを隠蔽層上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。
（背面層）
熱転写シートは、ステルスインキ層等を形成した面とは反対の面（裏面）に背面層を備えていてもよい。背面層は、熱転写する際の基材の裏面側からサーマルヘッド等によって加熱される際に熱融着、スティキングやシワ等の悪影響を防止するために、所望により設けられる層である。
熱転写シートは、ステルスインキ層等を形成した面とは反対の面（裏面）に背面層を備えていてもよい。背面層は、熱転写する際の基材の裏面側からサーマルヘッド等によって加熱される際に熱融着、スティキングやシワ等の悪影響を防止するために、所望により設けられる層である。
背面層の材料について限定はなく、例えば、エチルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルアミド、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のアクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン変性又はフッ素変性ウレタン等の天然又は合成樹脂の単体又は混合物等を挙げることができる。
また、背面層は、滑り剤を含んでなることが好ましく、例えば、金属石鹸、ワックス、シリコーンオイル、脂肪酸エステル、フィラー、タルク、界面活性剤等が挙げられる。
背面層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤等を加え、水または有機溶剤等の適当な溶剤に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを基材上に、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の手段により、塗布、乾燥して形成することができる。
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明がこれら実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
＜熱転写シートの作製＞
基材として厚さ４．５μｍＰＥＴフィルムを用い、この上に、下記組成の背面層用塗工液を乾燥時の塗工量が、１．０μｍになるように塗工し、乾燥し、背面層を形成させた。
＜熱転写シートの作製＞
基材として厚さ４．５μｍＰＥＴフィルムを用い、この上に、下記組成の背面層用塗工液を乾燥時の塗工量が、１．０μｍになるように塗工し、乾燥し、背面層を形成させた。
（背面層用塗工液）
・ポリビニルブチラール樹脂 １．８質量部
（積水化学工業（株）製、エスレックＢＸ−１）
・ポリイソシアネート ５．５質量部
（ＤＩＣ（株）製、バーノックＤ７５０）
・リン酸エステル系界面活性剤 １．６質量部
（第一工業製薬（株）製、プライサーフＡ２０８Ｎ）
・タルク ０．３５質量部
（日本タルク工業（株）製、ミクロエースＰ−３）
・トルエン １８．５質量部
・メチルエチルケトン １８．５質量部
・ポリビニルブチラール樹脂 １．８質量部
（積水化学工業（株）製、エスレックＢＸ−１）
・ポリイソシアネート ５．５質量部
（ＤＩＣ（株）製、バーノックＤ７５０）
・リン酸エステル系界面活性剤 １．６質量部
（第一工業製薬（株）製、プライサーフＡ２０８Ｎ）
・タルク ０．３５質量部
（日本タルク工業（株）製、ミクロエースＰ−３）
・トルエン １８．５質量部
・メチルエチルケトン １８．５質量部
上記基材の背面層を設けた側とは反対の面の一部に、下記組成のステルスインキ層用塗工液を乾燥時の塗工量が、０．４μｍになるように塗工し、乾燥し、ステルスインキ層を形成させた。
（ステルスインキ層用塗工液）
・アクリル樹脂 ８．５質量部
（三菱レイヨン（株）製、ダイヤナールＢＲ−８７）
・ジイモニウム塩 １．５質量部
（日本カーリット（株）製、ＣＩＲ−ＲＬ）
・トルエン ４５質量部
・メチルエチルケトン ４５質量部
・アクリル樹脂 ８．５質量部
（三菱レイヨン（株）製、ダイヤナールＢＲ−８７）
・ジイモニウム塩 １．５質量部
（日本カーリット（株）製、ＣＩＲ−ＲＬ）
・トルエン ４５質量部
・メチルエチルケトン ４５質量部
上記基材の背面層を設けた側とは反対の面の一部に、上記のようにして形成させたステルスインキ層と面順次となるように、下記組成の受容層用塗工液を乾燥時の塗工量が、０．８μｍになるように塗工し、乾燥し、受容層を形成させた。
（受容層用塗工液）
・塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体樹脂 １５．８質量部
（日信化学工業（株）製、ソルバインＣＮＬ）
・塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体樹脂 １．０質量部
（日信化学工業（株）製、ソルバインＣ）
・有機変性シリコーンオイル １．２質量部
（信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−３０００Ｔ）
・有機変性シリコーンオイル １．２質量部
（信越化学工業（株）製、Ｘ−２４−５１０）
・有機変性シリコーンオイル ０．８質量部
（信越化学工業（株）製、ＫＦ−３５２Ａ）
・メチルエチルケトン ４０質量部
・トルエン ４０質量部
・塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体樹脂 １５．８質量部
（日信化学工業（株）製、ソルバインＣＮＬ）
・塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体樹脂 １．０質量部
（日信化学工業（株）製、ソルバインＣ）
・有機変性シリコーンオイル １．２質量部
（信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−３０００Ｔ）
・有機変性シリコーンオイル １．２質量部
（信越化学工業（株）製、Ｘ−２４−５１０）
・有機変性シリコーンオイル ０．８質量部
（信越化学工業（株）製、ＫＦ−３５２Ａ）
・メチルエチルケトン ４０質量部
・トルエン ４０質量部
上記のようにして形成させた受容層上に、下記組成のプライマー層用塗工液を乾燥時の塗工量が、０．１μｍになるように塗工し、乾燥し、プライマー層Ａを形成させた。
（プライマー層用塗工液）
・アルミナゾル ２．５質量部
（日産化学工業（株）製、アルミナゾル２００）
・ポリビニルピロリドン樹脂 ２．５質量部
（ＩＳＰジャパン（株）製、ＰＶＰ Ｋ−６０）
・水 ４７．５質量部
・イソプロピルアルコール ４７．５質量部
・アルミナゾル ２．５質量部
（日産化学工業（株）製、アルミナゾル２００）
・ポリビニルピロリドン樹脂 ２．５質量部
（ＩＳＰジャパン（株）製、ＰＶＰ Ｋ−６０）
・水 ４７．５質量部
・イソプロピルアルコール ４７．５質量部
上記のようにして形成させたプライマー層上に、下記組成の遮蔽層用塗工液１を乾燥時の塗工量が、１．４μｍになるように塗工し、乾燥し、遮蔽層を形成させた。
（遮蔽層用塗工液１）
・アクリル樹脂 ８質量部
・塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 ２質量部
・酸化チタン ３０質量部
・トルエン ３０質量部
・メチルエチルケトン ３０質量部
・アクリル樹脂 ８質量部
・塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 ２質量部
・酸化チタン ３０質量部
・トルエン ３０質量部
・メチルエチルケトン ３０質量部
上記のようにして形成させた受容層と面順次となるように、上記組成のプライマー層用塗工液を乾燥時の塗工量が、０．１μｍになるように塗工し、乾燥し、プライマー層Ｂを形成させた。このプライマー層Ｂ上へ、下記組成のイエロー染料層用塗工液（Ｙ）、マゼンタ染料層用塗工液（Ｍ）、およびシアン染料層用塗工液（Ｃ）を、グラビア印刷機により、各層の乾燥時塗工量が０．７μｍになるように塗工、乾燥して、この順に面順次に繰返して染料層を形成させた。
（イエロー染料層用塗工液（Ｙ））
・ソルベントイエロー９３ ２質量部
・ディスパースイエロー２０１ ５質量部
・ポリビニルアセタール樹脂 ５質量部
（積水化学工業（株）製、ＫＳ−５）
・トルエン ５０質量部
・メチルエチルケトン ５０質量部
・ソルベントイエロー９３ ２質量部
・ディスパースイエロー２０１ ５質量部
・ポリビニルアセタール樹脂 ５質量部
（積水化学工業（株）製、ＫＳ−５）
・トルエン ５０質量部
・メチルエチルケトン ５０質量部
（マゼンタ染料層用塗工液（Ｍ））
・ディスパースレッド６０ ３質量部
・ディスパースバイオレット２６ ４質量部
・ポリビニルアセタール樹脂 ５質量部
（積水化学工業（株）製、ＫＳ−５）
・トルエン ５０質量部
・メチルエチルケトン ５０質量部
・ディスパースレッド６０ ３質量部
・ディスパースバイオレット２６ ４質量部
・ポリビニルアセタール樹脂 ５質量部
（積水化学工業（株）製、ＫＳ−５）
・トルエン ５０質量部
・メチルエチルケトン ５０質量部
（シアン染料層用塗工液（Ｃ）
・ソルベントブルー６３ ４質量部
・ディスパースブルー３５４ ４質量部
・ポリビニルアセタール樹脂 ５質量部
（積水化学工業（株）製、ＫＳ−５）
・トルエン ５０質量部
・メチルエチルケトン ５０質量部
・ソルベントブルー６３ ４質量部
・ディスパースブルー３５４ ４質量部
・ポリビニルアセタール樹脂 ５質量部
（積水化学工業（株）製、ＫＳ−５）
・トルエン ５０質量部
・メチルエチルケトン ５０質量部
上記のようにして形成させたプライマー層と面順次となるように、下記組成の剥離層用塗工液を乾燥時の塗工量が、０．８μｍになるように塗工し、乾燥し、剥離層を形成させた。この剥離層上に上記組成のプライマー層塗工液を乾燥時の塗工量が、０．１μｍになるように塗工し、乾燥し、プライマー層Ｃを形成させた。このプライマー層Ｃ上に下記組成の保護層用塗工液を乾燥時の塗工量が、０．８μｍになるように塗工し、乾燥し、保護層を形成させ、図３に示すような熱転写シートを得た。
（剥離層用塗工液）
・アクリル樹脂 ２０質量部
（三菱レイヨン（株）製、ダイヤナールＢＲ−８７）
・メチルエチルケトン ４０質量部
・トルエン ４０質量部
・アクリル樹脂 ２０質量部
（三菱レイヨン（株）製、ダイヤナールＢＲ−８７）
・メチルエチルケトン ４０質量部
・トルエン ４０質量部
（保護層用塗工液）
・ポリエステル樹脂 ２４質量部
（東洋紡績（株）製、バイロン７００）
・紫外線吸収剤 ６質量部
・トルエン ３５質量部
・メチルエチルケトン ３５質量部
・ポリエステル樹脂 ２４質量部
（東洋紡績（株）製、バイロン７００）
・紫外線吸収剤 ６質量部
・トルエン ３５質量部
・メチルエチルケトン ３５質量部
＜積層体の形成＞
被転写体として、昇華型転写プリンター（株式会社ＤＮＰフォトルシオ製 ＤＳ−４０）の純正ペーパーを準備した。
被転写体として、昇華型転写プリンター（株式会社ＤＮＰフォトルシオ製 ＤＳ−４０）の純正ペーパーを準備した。
上記のようにして作製した熱転写シートが備えるステルスインキ層を下記テストプリンターを用いて、被転写体上へ、コードパターンを形成するように熱溶融転写した。被転写体上のステルスインキ層の厚さは、０．４μｍであった。
（テストプリンター）
サーマルヘッド：ＫＥＥ−５７−１２ＧＡＮ２−ＳＴＡ（京セラ（株）製）
発熱体平均抵抗値：３３０３（Ω）
主走査方向印字密度：３００ｄｐｉ
副走査方向印字密度：３００ｄｐｉ
印画電圧：１８（Ｖ）
１ライン周期：１．５（ｍｓｅｃ．）
印字開始温度：３５（℃）
パルスＤｕｔｙ比：８５％
（テストプリンター）
サーマルヘッド：ＫＥＥ−５７−１２ＧＡＮ２−ＳＴＡ（京セラ（株）製）
発熱体平均抵抗値：３３０３（Ω）
主走査方向印字密度：３００ｄｐｉ
副走査方向印字密度：３００ｄｐｉ
印画電圧：１８（Ｖ）
１ライン周期：１．５（ｍｓｅｃ．）
印字開始温度：３５（℃）
パルスＤｕｔｙ比：８５％
熱転写シートが備える遮蔽層、プライマー層Ａおよび受容層を、上記テストプリンターを用いて、被転写体およびステルスインキ層上へ、同時に熱溶融転写した。遮蔽層の厚さは、１．４μｍ、プライマー層Ａの厚さは、０．１μｍ、受容層の厚さは、０．８μｍであった。
上記テストプリンターを用いて、熱転写シートが備える染料層から、染料を受容層上へ移行させ、画像を形成させた。
画像を形成させた受容層上へ、熱転写シートが備える保護層、プライマー層Ｃおよび剥離層Ｂを熱溶融転写し、積層体を得た。保護層の厚さは、０．８μｍ、プライマー層Ｃの厚さは、０．１μｍ、剥離層Ａの厚さは、０．８μｍであった。
遮蔽層、プライマー層Ａ、受容層、保護層、プライマー層Ｃ、剥離層Ａの厚さの合計（隠蔽層の厚さ）は、４．０μｍであり、ステルスインキ層の厚さの１０倍であった。
遮蔽層、プライマー層Ａ、受容層、保護層、プライマー層Ｃ、剥離層Ａの厚さの合計（隠蔽層の厚さ）は、４．０μｍであり、ステルスインキ層の厚さの１０倍であった。
（実施例２）
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの５倍となるよう、遮蔽層用塗工液１の塗布量、プライマー層用塗工液および受容層塗工液の塗布量を変更した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの５倍となるよう、遮蔽層用塗工液１の塗布量、プライマー層用塗工液および受容層塗工液の塗布量を変更した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
（実施例３）
遮蔽層用塗工液１を下記組成へ変更した以外は、実施例１と同様にして、隠蔽層の厚さがステルスインキ層の厚さの１０倍となるように積層体を作製した。
（遮蔽層用塗工液２）
・アクリル樹脂 ８質量部
・塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 ２質量部
・昇華染料（ステルスインキ層と同色） ０．２質量部
・トルエン ４５質量部
・メチルエチルケトン ４５質量部
遮蔽層用塗工液１を下記組成へ変更した以外は、実施例１と同様にして、隠蔽層の厚さがステルスインキ層の厚さの１０倍となるように積層体を作製した。
（遮蔽層用塗工液２）
・アクリル樹脂 ８質量部
・塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 ２質量部
・昇華染料（ステルスインキ層と同色） ０．２質量部
・トルエン ４５質量部
・メチルエチルケトン ４５質量部
（実施例４）
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの５倍となるよう、遮蔽層用塗工液２の塗布量、プライマー層用塗工液および受容層塗工液の塗布量を変更した以外は、実施例３と同様にして、積層体を作製した。
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの５倍となるよう、遮蔽層用塗工液２の塗布量、プライマー層用塗工液および受容層塗工液の塗布量を変更した以外は、実施例３と同様にして、積層体を作製した。
（比較例１）
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの３倍となるよう、遮蔽層用塗工液１の塗布量、プライマー層用塗工液および受容層塗工液の塗布量を変更した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの３倍となるよう、遮蔽層用塗工液１の塗布量、プライマー層用塗工液および受容層塗工液の塗布量を変更した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
（比較例２）
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの３倍となるよう、遮蔽層用塗工液２の塗布量、プライマー層用塗工液および受容層塗工液の塗布量を変更した以外は、実施例２と同様にして、積層体を作製した。
隠蔽層の厚さが、ステルスインキ層の厚さの３倍となるよう、遮蔽層用塗工液２の塗布量、プライマー層用塗工液および受容層塗工液の塗布量を変更した以外は、実施例２と同様にして、積層体を作製した。
＜目視認識試験＞
実施例および比較例において作製した積層体を目視により観察し、ステルスインキ層の位置およびステルスインキ層が形成するコードパターンを認識することができるかを、下記評価基準に従い、評価した。評価結果を表１に表す。
（評価基準）
Ａ：予めステルスインキ層の位置を知っている人が見ても、その位置、形状を認識することができなかった。
Ｂ：予めステルスインキ層の位置を知っている人が見ると、その位置、形状を認識することができたが、知らない人が見た場合、その位置、形状を認識できなかった。
Ｃ：予めステルスインキ層の位置、形状を知らない人が見ても、その位置、形状を認識することができた。
実施例および比較例において作製した積層体を目視により観察し、ステルスインキ層の位置およびステルスインキ層が形成するコードパターンを認識することができるかを、下記評価基準に従い、評価した。評価結果を表１に表す。
（評価基準）
Ａ：予めステルスインキ層の位置を知っている人が見ても、その位置、形状を認識することができなかった。
Ｂ：予めステルスインキ層の位置を知っている人が見ると、その位置、形状を認識することができたが、知らない人が見た場合、その位置、形状を認識できなかった。
Ｃ：予めステルスインキ層の位置、形状を知らない人が見ても、その位置、形状を認識することができた。
１０：積層体
１１：被転写体
１２：ステルスインキ層
１３：隠蔽層
１４：遮蔽層
１５：受容層
１６：保護層
２０：熱転写シート
２１：基材
２２：染料層
２３：プライマー層
２４：剥離層
２５：背面層
１１：被転写体
１２：ステルスインキ層
１３：隠蔽層
１４：遮蔽層
１５：受容層
１６：保護層
２０：熱転写シート
２１：基材
２２：染料層
２３：プライマー層
２４：剥離層
２５：背面層
Claims (8)
- 被転写体と、
前記被転写体上の不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層と、
前記被転写体および前記ステルスインキ層上の隠蔽層と、
を備えてなり、
前記隠蔽層の厚さが、前記ステルスインキ層の厚さの４倍以上であることを特徴とする、積層体。 - 前記隠蔽層が、前記遮蔽層上に設けられた受容層を含んでなる、請求項１に記載の積層体。
- 前記隠蔽層が、前記受容層上に設けられた保護層を含んでなる、請求項１または２に記載の積層体。
- 請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体の製造方法であって、
被転写体を準備する工程と、
前記被転写体上に、不可視光線吸収材料を含んでなるステルスインキ層を形成する工程と、
前記被転写体および前記ステルスインキ層上に、隠蔽層を形成する工程と、を含んでなることを特徴とする、積層体の製造方法。 - 前記隠蔽層の形成工程が、前記被転写体および前記ステルスインキ層上に、遮蔽層を形成する工程を含んでなる、請求項４に記載の方法。
- 前記隠蔽層の形成工程が、前記遮蔽層上に、受容層を形成する工程と、前記受容層上に画像を形成する工程とを含んでなる、請求項５に記載の方法。
- 前記隠蔽層の形成工程が、前記画像が形成された受容層上に、保護層を形成する工程を含んでなる、請求項６に記載の方法。
- 前記ステルスインキ層がぼかし印刷法を用いて形成されたものである、請求項５〜７のいずれか一項に記載の方法。
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2015
- 2015-10-30 JP JP2015214826A patent/JP6745052B2/ja active Active
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