JP2017076667A - 基板ストック装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記通信部を介して前記露光装置の異常を検出したときは、前記通信部を介して受信した前記搬送レシピに定められた搬送順序に従って、前記基板処理システムから受け取った基板を前記基板収容ユニットに一時的に収容し、前記露光装置が復旧した後は、前記搬送レシピに定められた搬送順序に従って、前記基板収容ユニットに収容された基板を前記露光装置に搬送してもよい。
2 基板処理システム
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光装置
120a、120b ウェハ収容ユニット
121、122 受け渡し装置
123、124 ウェハ搬送機構
200 制御部
W ウェハ
Claims (7)
- 基板に対して塗布現像処理を施す複数の処理部を備えた基板処理システムと、前記基板処理システムで処理された基板に対して露光処理を施す露光装置と、の間で基板を中継する基板ストック装置であって、
複数の基板を収容する基板収容ユニットと、
前記基板処理システム、前記露光装置及び前記基板収容ユニットの間で基板を搬送する基板搬送機構と、
前記基板処理システム及び前記露光装置とは独立して設けられた、前記基板搬送機構の動作を制御する制御部と、
前記基板処理システム及び前記露光装置とは独立して設けられた、前記基板搬送機構を駆動する電力を供給する電源部と、を有することを特徴とする、基板ストック装置。 - 前記基板収容ユニットを区画する隔壁と、
前記隔壁内に不活性ガスを供給するガス供給源と、をさらに有することを特徴とする、請求項1に記載の基板ストック装置。 - 前記基板収容ユニットに収容された基板の温度を調節する温度調節機構を有していることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の基板ストック装置。
- 前記基板処理システムの制御装置との間で制御信号を通信する通信部を有し、
前記制御部は、前記通信部を介して前記基板処理システムの制御装置から、前記基板処理システムと前記露光装置との間の搬送順序を定めた搬送レシピを受信し、当該受信したレシピに基づいて前記基板搬送機構の動作を制御することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板ストック装置。 - 前記制御部は、前記通信部を介して前記基板処理システムの異常を検出したときは、前記通信部を介して受信した前記搬送レシピに定められた搬送順序に従って、前記基板収容ユニットに収容された基板を前記露光装置に搬送することを特徴とする、請求項4に記載の基板ストック装置。
- 前記制御部は、
前記通信部を介して前記基板処理システムの異常を検出したときは、前記通信部を介して受信した前記搬送レシピに定められた搬送順序に従って、前記露光装置から受け取った基板を前記基板収容ユニットに一時的に収容し、
前記基板処理システムが復旧した後は、前記搬送レシピに定められた搬送順序に従って、前記基板収容ユニットに収容された基板を前記基板処理システムに搬送することを特徴とする、請求項4または5のいずれか一項に記載の基板ストック装置。 - 前記通信部は、前記露光装置の制御装置との間で制御信号を通信可能であり、
前記制御部は、
前記通信部を介して前記露光装置の異常を検出したときは、前記通信部を介して受信した前記搬送レシピに定められた搬送順序に従って、前記基板処理システムから受け取った基板を前記基板収容ユニットに一時的に収容し、
前記露光装置が復旧した後は、前記搬送レシピに定められた搬送順序に従って、前記基板収容ユニットに収容された基板を前記露光装置に搬送することを特徴とする、請求項4〜6のいずれか一項に記載の基板ストック装置。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01216551A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板の収納保管装置 |
JPH11145052A (ja) * | 1997-11-12 | 1999-05-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2001206543A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | 自動枚葉処理ライン |
JP2001291664A (ja) * | 2000-02-01 | 2001-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
JP2002260995A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-13 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理装置における基板回収方法 |
JP2004214290A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2013191881A (ja) * | 2013-06-05 | 2013-09-26 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
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2015
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01216551A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Nec Kyushu Ltd | 半導体基板の収納保管装置 |
JPH11145052A (ja) * | 1997-11-12 | 1999-05-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2001206543A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | 自動枚葉処理ライン |
JP2001291664A (ja) * | 2000-02-01 | 2001-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
JP2002260995A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-13 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理装置における基板回収方法 |
JP2004214290A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2013191881A (ja) * | 2013-06-05 | 2013-09-26 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
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