JP2017045944A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2017045944A
JP2017045944A JP2015169323A JP2015169323A JP2017045944A JP 2017045944 A JP2017045944 A JP 2017045944A JP 2015169323 A JP2015169323 A JP 2015169323A JP 2015169323 A JP2015169323 A JP 2015169323A JP 2017045944 A JP2017045944 A JP 2017045944A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
leads
lead
tape
semiconductor device
sealing body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015169323A
Other languages
English (en)
Inventor
昭彦 岩谷
Akihiko Iwatani
昭彦 岩谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Electronics Corp
Original Assignee
Renesas Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Electronics Corp filed Critical Renesas Electronics Corp
Priority to JP2015169323A priority Critical patent/JP2017045944A/ja
Priority to US15/201,468 priority patent/US9805981B2/en
Priority to TW105123583A priority patent/TW201717346A/zh
Priority to CN201610647368.6A priority patent/CN106486452B/zh
Priority to KR1020160107696A priority patent/KR20170026204A/ko
Publication of JP2017045944A publication Critical patent/JP2017045944A/ja
Priority to US15/791,408 priority patent/US10020225B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49517Additional leads
    • H01L23/49524Additional leads the additional leads being a tape carrier or flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49503Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49517Additional leads
    • H01L23/4952Additional leads the additional leads being a bump or a wire
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49558Insulating layers on lead frames, e.g. bridging members
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49572Lead-frames or other flat leads consisting of thin flexible metallic tape with or without a film carrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/46Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/86Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using tape automated bonding [TAB]
    • H01L2224/868Bonding techniques
    • H01L2224/86801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

【課題】リードの変形を防止するリード変形抑制用のテープの貼り付け信頼性を向上させる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置PKG1は、複数のリードLD1から成るリード群LDg1と、複数のリードLD2から成るリード群LDg2と、リード群LDg1とリード群LDg2との間に配置された吊りリードHL1と、を有している。また、半導体装置PKG1は、複数のリードLD1のそれぞれ、吊りリードHL1及び複数のリードLD2のうちの一部に貼り付けられたテープTP1と、複数のリードLD2に貼り付けられたテープTP2と、を有する。また、テープTP1は、複数のリードLD1のそれぞれに貼り付けたリード保持部TP11と、吊りリードHL1及び複数のリードLD2のうちの一部に貼り付け、かつ、リード保持部TP11よりもワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けたテープ支持部TP12と、を有する構造とする。
【選択図】図6

Description

本発明は、半導体装置に関し、例えば、半導体チップと複数のリードとが複数のワイヤを介して接続された半導体装置に適用して有効な技術に関する。
特開2013−120768号公報(特許文献1)や、特開2009−44114号公報(特許文献2)には、半導体チップに接続される複数のリードのワイヤ接合領域の外側に、枠状(リング形状)のテープ材が貼り付けられた構造が記載されている。
また、特開2010−278308号公報(特許文献3)や、特開2006−332241号公報(特許文献4)には、リードに貼り付けられるテープが、互いに分離された複数の部材で構成されている構造が記載されている。
特開2013−120768号公報 特開2009−44114号公報 特開2010−278308号公報 特開2006−332241号公報
複数のリード、およびリードの隣に配置された吊りリードに跨ってテープを貼り付けて、製造工程中におけるリードの変形を抑制する技術がある。特に、ワイヤが接続されるワイヤ接合部の近傍にテープを貼り付ければ、ワイヤ接合部の周辺の変形を抑制できる。
ここで、上記したリードの変形を防止するリード変形抑制用のテープの取得効率について検討する。枠状に形成されたテープを1つ用いる場合と、枠状に形成されていないテープ(すなわち、略短冊状のテープ)を複数用いる場合と、を比較すると、取得効率は後者の方が高い。
しかし、複数のテープを用いる場合、複数のリードのそれぞれに対してテープを確実に貼り付けるためには、各テープの重なり(オーバラップ)を防ぐようにする必要がある。各テープの重なりを防止する方法として、複数のテープを互いに離間してリードに貼り付ける方法が考えられる。
ここで、各リードに接続される各ワイヤの長さを短くするには、リードの先端部にワイヤを接続することが好ましい。このことから、ワイヤ接合部の周辺の変形を抑制するためには、各リードのうち、上記テープも各リードの先端部の近傍に貼り付けることが好ましい。
しかし、上記の方法では、複数のテープのうちの少なくとも一つを、リードの先端部、すなわち、ワイヤ接合部(接続点)から離れた位置に貼り付けなければならない。
なお、テープ同士が互いに重ならないようするための別の方法として、例えば、リードの間に配置される吊りリードの幅または吊りリードの一部の幅を大きくして、各テープの端部を、この吊りリードまたは吊りリードの一部に貼り付ける方法も考えられる。しかし、この場合、吊りリードの幅が大きくなることにより、半導体装置の小型化を実現することが困難となる。もしくは、1つの半導体装置内に配置できるリードの数を増やすことが困難となる。すなわち、半導体装置の単位面積当たりの端子数が低下する原因になる。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
一実施の形態による半導体装置は、複数の第1リードから成る第1リード群と、複数の第2リードから成る第2リード群と、上記第1リード群と上記第2リード群との間に配置された第1吊りリードと、を有している。また、上記半導体装置は、上記複数の第1リードのそれぞれ、上記第1吊りリード、および上記複数の第2リードのうちの一部に貼り付けられた第1テープと、上記複数の第2リードに貼り付けられた第2テープと、を有している。また、上記第1テープは、上記複数の第1リードのそれぞれに貼り付けられた第1部分と、上記第1吊りリードおよび上記複数の第2リードのうちの一部に貼り付けられ、かつ、上記第1部分よりもワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられた第2部分と、を有しているものである。
上記一実施の形態によれば、半導体装置の信頼性を向上させることができる。
一実施の形態の半導体装置の上面図である。 図1のA−A線に沿った断面図である。 図1に示す封止体を透視した状態で半導体装置の内部構造を示す透視平面図である。 図3に示す複数のワイヤ、および半導体チップのパッドを取り除いた状態で示す透視平面図である。 図3に示す複数の吊りリードのうちの一つの周辺を拡大して示す拡大平面図である。 図5に示す端部リードの周辺をさらに拡大して示す拡大平面図である。 図5に示すテープの反対側の端部の周辺を拡大して示す拡大平面図である。 図1〜図7を用いて説明した半導体装置の組立工程のフローを示す説明図である。 図8に示す基材準備工程で準備するリードフレームを示す拡大平面図である。 図9のA−A線に沿った断面において、複数のリードにテープを貼り付ける状態を示す拡大断面図である。 図9のB−B線に沿った断面において、複数のリードにテープを貼り付ける状態を示す拡大断面図である。 図9に示すリードフレームのダイパッド上に半導体チップを搭載した状態を示す拡大平面図である。 図12に示す半導体チップと複数のリードとを、ワイヤを介して電気的に接続した状態を示す拡大平面図である。 図13に示す半導体チップのパッドとリードとを、ワイヤを介して電気的に接続した状態を示す拡大断面図である。 図13に示す複数のデバイス形成部のそれぞれに半導体チップを封止する封止体を形成した状態を示す拡大平面図である。 図15に示す複数のリードの露出面に金属膜を形成し、それぞれ切断した後、成形した状態を示す拡大平面図である。 図16に示す吊りリードを切断して、半導体パッケージを取得した状態を示す拡大平面図である。 図4に対する変形例である半導体装置の内部構造を示す透視平面図である。 図18に示す半導体装置の拡大平面図である。 図4に対する他の変形例である半導体装置の内部構造を示す透視平面図である。 図20に対する変形例である半導体装置の内部構造を示す透視平面図である。 図20または図21に示す半導体装置の拡大平面図である。
(本願における記載形式・基本的用語・用法の説明)
本願において、実施の態様の記載は、必要に応じて、便宜上複数のセクション等に分けて記載するが、特にそうでない旨明示した場合を除き、これらは相互に独立別個のものではなく、記載の前後を問わず、単一の例の各部分、一方が他方の一部詳細または一部または全部の変形例等である。また、原則として、同様の部分は繰り返しの説明を省略する。また、実施の態様における各構成要素は、特にそうでない旨明示した場合、理論的にその数に限定される場合および文脈から明らかにそうでない場合を除き、必須のものではない。
同様に実施の態様等の記載において、材料、組成等について、「AからなるX」等といっても、特にそうでない旨明示した場合および文脈から明らかにそうでない場合を除き、A以外の要素を含むものを排除するものではない。たとえば、成分についていえば、「Aを主要な成分として含むX」等の意味である。たとえば、「シリコン部材」等といっても、純粋なシリコンに限定されるものではなく、SiGe(シリコン・ゲルマニウム)合金やその他シリコンを主要な成分とする多元合金、その他の添加物等を含む部材も含むものであることはいうまでもない。また、金めっき、Cu層、ニッケル・めっき等といっても、そうでない旨、特に明示した場合を除き、純粋なものだけでなく、それぞれ金、Cu、ニッケル等を主要な成分とする部材を含むものとする。
さらに、特定の数値、数量に言及したときも、特にそうでない旨明示した場合、理論的にその数に限定される場合および文脈から明らかにそうでない場合を除き、その特定の数値を超える数値であってもよいし、その特定の数値未満の数値でもよい。
また、実施の形態の各図中において、同一または同様の部分は同一または類似の記号または参照番号で示し、説明は原則として繰り返さない。
また、添付図面においては、却って、煩雑になる場合または空隙との区別が明確である場合には、断面であってもハッチング等を省略する場合がある。これに関連して、説明等から明らかである場合等には、平面的に閉じた孔であっても、背景の輪郭線を省略する場合がある。更に、断面でなくとも、空隙でないことを明示するため、あるいは領域の境界を明示するために、ハッチングやドットパターンを付すことがある。
<半導体装置の概要>
まず、本実施の形態の半導体装置PKG1の構成の概要について、図1〜図4を用いて説明する。図1は本実施の形態の半導体装置の上面図である。また、図2は、図1のA−A線に沿った断面図である。また、図3は、図1に示す封止体を透視した状態で半導体装置の内部構造を示す透視平面図である。また、図4は、図3に示す複数のワイヤ、および半導体チップのパッドを取り除いた状態で示す透視平面図である。
図1〜図4に示すように、半導体装置PKG1は、半導体チップCP(図2、図3参照)と、半導体チップCPの周囲に配置される外部端子である複数のリードLDと、半導体チップCPと複数のリードLDを電気的に接続する導電性部材である複数のワイヤBW(図2参照)と、を有している。また、半導体チップCPおよび複数のワイヤBWは、封止体(樹脂体)MRに封止されている。また、複数のリードLDのそれぞれのインナリード部ILD(図2参照)は封止体MRに封止され、かつ複数のリードLDのそれぞれのアウタリード部OLDは、封止体MRから露出している。
図1に示すように、半導体装置PKG1が備える封止体MRの平面形状は四角形から成る。封止体MRは上面MRt、上面MRtの反対側に位置する下面(裏面、被実装面)MRb(図2参照)、上面MRtと下面MRbとの間に位置する複数の(4つの)側面MRs(図1、図2参照)を有している。
また、図1および図3に示すように、封止体MRは、平面視において、X方向に沿って延在する(延びる)辺(主辺)S1、およびX方向と交差する(図1では直交する)Y方向に沿って延在する辺(主辺)S2を有している。また、封止体MRは、辺S1の反対側に位置し、X方向に沿って延在する辺S3、および辺S2の反対側に位置し、Y方向に沿って延在する辺S4を有している。図1に示すように、封止体MRが備える4つの側面MRsは封止体MRの各辺に沿って配置されている。また、図1に示す例では、封止体MRの各辺が交わる角部MRcが面取り加工されている。
ここで、封止体MRの角部MRcとは、封止体MRの四辺(四つの主辺)のうち、交差する任意の二辺(二つの主辺)の交点である角の周辺領域を含んでいる。なお、厳密には、図1および図3に示すように、封止体MRの角部MRcは、面取り加工されている(図1に示す例では、テーパ加工であるが、R加工でも良い)ので、主辺の交点は封止体MRの角部MRcよりも外側に配置される。しかし、面取り加工部は、主辺の長さと比較して十分に小さいため、本願では、面取り加工部の中心を封止体MRの角と見做して説明する。つまり、本願においては、封止体MRの四辺(四つの主辺)のうち、任意の二辺(二つの主辺)が交差する領域であって、該領域が面取り加工されている場合にはその面取り加工部が角部MRcに相当し、該領域が面取り加工されていない場合には、任意の二辺(二つの主辺)の交点が角部MRcに相当する。以下、本願において、封止体MRの角部MRcと説明するときは、特に異なる意味、内容で用いている旨を明記した場合を除き、上記と同様の意味、内容として用いる。
また、半導体装置PKG1では、平面形状が四角形からなる封止体MRの各辺(各主辺)に沿って、それぞれ複数のリードLDが配置されている。複数のリードLDは、それぞれ金属材料からなり、本実施の形態では、例えば銅(Cu)を主成分とする金属部材である。
図2に示すように、複数のリードLDのアウタリード部OLDは、封止体MRの側面MRsにおいて、封止体MRの外側に向かって突出している。また、複数のリードLDのアウタリード部OLDの露出面には、例えば、銅を主成分とする基材の表面に、金属膜(外装めっき膜)MCが形成されている。金属膜MCは、例えば、半田など、基材である銅よりも半田に対する濡れ性が良好な金属材料から成り、基材である銅部材の表面を被覆する金属皮膜である。半導体装置PKG1の外部端子である複数のリードLDのアウタリード部OLDのそれぞれに、半田などから成る、金属膜MCを形成することにより、半導体装置PKG1を実装基板に実装する際に、導電性の接続材である半田材の濡れ性を向上させることができる。これにより、複数のリードLDと半田材との接合面積が増大するので、複数のリードLDと実装基板側の端子との接合強度を向上させることができる。
金属膜MCは、例えば、鉛(Pb)入りのSn−Pb半田材、あるいは、Pbを実質的に含まない、所謂、鉛フリー半田からなる半田材である。鉛フリー半田の例としては、例えば錫(Sn)のみ、錫−ビスマス(Sn−Bi)、または錫−銅−銀(Sn−Cu−Ag)、錫−銅(Sn−Cu)などが挙げられる。ここで、鉛フリー半田とは、鉛(Pb)の含有量が0.1wt%以下のものを意味し、この含有量は、RoHS(Restriction of Hazardous Substances)指令の基準として定められている。
なお、図2に示す例では、リードLDのアウタリード部OLDの露出面に半田膜である金属膜MCをめっき法により形成する例を示しているが、金属膜MCには種々の変形例がある。例えば、金属膜MCは、ニッケル(Ni)を主成分とする金属膜と、パラジウム(Pd)を主成分とする金属膜の積層膜であっても良い。あるいは、例えば、パラジウムを主成分とする金属膜の表面にさらに金(Au)を主成分とする金属膜を積層しても良い。また、金属膜MCが半田以外の材料で構成される場合には、複数のリードLDのインナリード部ILDおよびアウタリード部OLDの表面を覆うように金属膜MCを形成しても良い。
また、図2および図3に示すように、封止体MRの内部には半導体チップCPが封止されている。図3に示すように、半導体チップCPは、平面視において四角形を成し、表面CPtには、表面CPtの外縁を構成する4つの辺のそれぞれに沿って複数のパッド(ボンディングパッド)PDが設けられている。また、半導体チップCP(詳しくは、半導体基板)は、例えばシリコン(Si)から成る。図示は省略するが、半導体チップCPの主面(詳しくは、半導体チップCPの半導体基板の上面に設けられた半導体素子形成領域)には、複数の半導体素子(回路素子)が形成されている。そして、複数のパッドPDは、半導体チップCPの内部(詳しくは、表面CPtと図示しない半導体素子形成領域の間)に配置される配線層に形成された配線(図示は省略)を介して、この半導体素子と電気的に接続されている。つまり、複数のパッドPDは、半導体チップCPに形成された回路と、電気的に接続されている。
また、半導体チップCPの表面CPtには、半導体チップCPの基板および配線を覆う絶縁膜が形成されており、複数のパッドPDのそれぞれの表面は、この絶縁膜に形成された開口部において、絶縁膜から露出している。また、このパッドPDは金属からなり、本実施の形態では、例えばアルミニウム(Al)からなる。
また、半導体チップCPの周囲(言い換えれば、ダイパッドDPの周囲)には、例えば、複数のリードLDが配置されている。そして、半導体チップCPの表面CPtにおいて露出する複数のパッド(ボンディングパッド)PDは、封止体MRの内部に位置する複数のリードLDのインナリード部ILDと、複数のワイヤ(導電性部材)BWを介してそれぞれ電気的に接続されている。ワイヤBWは、例えば、金(Au)や銅(Cu)から成り、ワイヤBWの一部(例えば一方の端部)がパッドPDに接合され、他部(例えば他方の端部)がインナリード部ILDのボンディング領域(ワイヤBWの一部が接続される領域)WBR(図2参照)に接合されている。
本実施の例では、インナリード部ILDのボンディング領域WBRには、金属膜(めっき膜、めっき金属膜)BM(図2参照)が形成されている。図2に示すように、インナリードILDの一部分(最も半導体チップCPに近い先端部分の上面LDt)に部分的に金属膜BMが形成されている。金属膜BMは例えば、銀(Ag)、金、あるいはパラジウムを主成分とする材料(例えば、パラジウム膜上に薄い金膜が形成された積層構造)から成る。インナリード部ILDのボンディング領域WBRの表面に、銀、金、あるいはパラジウムを主成分とする材料から成る金属膜BMを形成することにより、金からなるワイヤBWとの接合強度を向上させることができる。
なお、金属膜BMが形成される領域には、種々の変形例がある。例えば、インナリードILDおよびアウタリード部OLDの露出面全体を覆うように金属膜BMを形成しても良い。この場合、アウタリード部OLDも金属膜BMに覆われることになるので、図2に示す金属膜MCは形成しなくて良い。
また、図2および図4に示すように、半導体チップCPはチップ搭載部であるダイパッドDPに搭載されている。図4に示す例では、ダイパッドDPの上面(チップ搭載面)DPtは、半導体チップCPの表面CPtの面積より大きい面積を有する四辺形を成す。ダイパッドDPは、半導体チップCPを支持する支持部材であって、形状および大きさは、図4に示す例の他、種々の変形例がある。例えば、ダイパッドDPの平面形状を円形としても良い。また、例えば、ダイパッドDPの上面DPtの面積が半導体チップCPの表面CPtより小さくても良い。
また、図4に示すようにダイパッドDPの周囲には複数の吊りリードHLが配置される。吊りリードHLは、半導体装置PKG1の製造工程において、リードフレームの支持部(枠部)にダイパッドDPを支持する部材であって、吊りリードHLの一方の端部は、ダイパッドDPに接続されている。図4に示す例では、ダイパッドDPには、ダイパッドDPの一部から封止体MRの4つの角部MRcのそれぞれに向かって延びる4本の吊りリードHLが接続されている。
詳しくは、複数の吊りリードHLが有する一方の端部は、ダイパッドDPの角部(角)に接続されている。また複数の吊りリードHLが有する他方の端部は、封止体MRの角部MRcに向かって延び、角部MRcの近傍において二股に分岐して、封止体MRの側面MRsにおいて封止体MRから露出する。吊りリードHLを封止体MRの角部MRcに向かって、延ばすことにより、封止体MRの各辺(各主辺)に沿って配置される複数のリードLDの配列は吊りリードHLにより阻害され難くなる。
また、本実施の形態では、ダイパッドDPの上面DPtと、リードLDのインナリード部ILDの上面が異なる高さに配置されている。図2に示す例では、インナリード部ILDの上面LDtの位置よりもダイパッドDPの上面DPtの方が低い位置に配置されている。このため、図4に示す複数の吊りリードHLには、ダイパッドDPの上面DPtの高さがリードLDのインナリード部ILDの上面LDt(図2参照)とは異なる高さに位置するように折り曲げられた、オフセット部(折り曲げ部、本実施の形態の例ではダウンセット部)HLBがそれぞれ設けられている。
また、半導体チップCPはダイパッドDPの中央に搭載されている。図2に示すように半導体チップCPは、裏面CPbがダイパッドDPの上面DPtに対向した状態で、ダイボンド材(接着材)DBを介してダイパッドDP上に搭載されている。つまり、複数のパッドPDが形成された表面(主面)CPtの反対面(裏面CPb)をチップ搭載面(上面DPt)と対向させる、所謂、フェイスアップ実装方式により搭載されている。このダイボンド材DBは、半導体チップCPをダイボンディングする際の接着材であって、例えば、エポキシ系の熱硬化性樹脂に、銀などから成る金属粒子を含有させた樹脂接着剤、または半田材などの金属接合材を用いている。
<リードレイアウト>
次に、本実施の形態の複数のリードのレイアウトについて詳細に説明する。図5は、図3に示す複数の吊りリードのうちの一つの周辺を拡大して示す拡大平面図である。また、図6は、図5に示す端部リードの周辺をさらに拡大して示す拡大平面図である。
図4に示すように、半導体装置PKG1は、封止体MRの辺S1に沿って配置された複数のリードLD1から成るリード群LDg1を有している。また、半導体装置PKG1は、封止体MRの辺S2に沿って配置された複数のリードLD2から成るリード群LDg2を有している。また、半導体装置PKG1は、封止体MRの辺S3に沿って配置された複数のリードLD3から成るリード群LDg3を有している。また、半導体装置PKG1は、封止体MRの辺S4に沿って配置された複数のリードLD4から成るリード群LDg4を有している。
また、リード群LDg1とリード群LDg2の間、リード群LDg1とリード群LDg4の間、リード群LDg2とリード群LDg3の間、およびリード群LDg3とリード群LDg4の間には、ダイパッドDPに接続された(ダイパッドDPを支持する)吊りリードHLがそれぞれ配置されている。
ここで、図5に示す複数のワイヤBWのそれぞれの長さを低減して、伝送経路のインピーダンス成分を低減させる観点からは、リードLD(図2参照)の先端部分を半導体チップCPのパッドPDの近傍に配置して、リードLDの先端部分と半導体チップCPのパッドPDとの距離を小さくすることが好ましい。また、本実施の形態のように、端子数の多い半導体装置の場合、複数のリードLDの先端部分(図2に示すボンディング領域WBR)は、狭い領域に狭ピッチで配置される。
例えば、図6に示す例では、複数のボンディング領域WBRのそれぞれの幅(リードの延在方向に対して直交する方向の長さ)BMWは、80μm程度であり、互いに隣り合うボンディング領域WBRの間隔BMPは、70μm程度である。
一方、図1に示すアウタリード部OLDの配置ピッチは、半導体装置PKG1を実装する実装基板(図示は省略)側の端子の制約を受けるので、極端に狭ピッチ化することが難しい。この結果、図2に示す複数のリードLDのそれぞれが有するインナリード部ILDの延在距離が長くなっている。
本実施の形態のように、リードLDの延在距離が長い場合、半導体装置の製造工程においてリードLDの一部が変形し易い。上記したリードLDの変形には、不可逆的な塑性変形の他、例えばリード自身の自重による可逆的な(弾性変形)が含まれる。特に、リードLDのうち、ボンディング領域WBRが設けられた先端部分は、インナリード部ILDの距離が長くなる程、変形(主に弾性変形)し易くなる。そして、ワイヤボンディング工程において、ボンディング領域WBRが弾性変形すると、ワイヤBWを接合し難くなる。
このため、本実施の形態では、図3に示すように複数のリードLDのそれぞれに跨るようにテープ材(図3に示すテープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4)を貼り付けて、複数のリードLDの変形を抑制している。
テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4は、複数のリードLDを相互に連結して固定する固定部材であって、例えば樹脂フィルムなどの基材の一方の面(接着面)に粘着層(接着層)が形成されている。そして、この粘着層を複数のリードLDの一方の面(例えば図2に示す例では上面LDt)に接触させると、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4がリードLDに貼り付けられる。
また、複数のリードLDのそれぞれを相互に連結するのみでは、連結された複数のリードLD全体の自重により変形する可能性がある。このため、図4に示すように、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4のそれぞれの一部は、吊りリードHLに貼り付けられていることが好ましい。詳細は後述するが、半導体装置PKG1の製造工程のうち、ワイヤボンディング工程では、吊りリードHLは一方の端部がダイパッドDPに接続され、他方の端部はリードフレームの枠部に連結されている。したがって、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4のそれぞれの一部が吊りリードHLに貼り付けられていれば、複数のリードLDは、吊りリードHLにより支持される。この結果、複数のリードLDが変形することを抑制できる。
また、図5や図6に示すように、ボンディング領域WBRの近傍の変形を抑制するためには、テープTP1、テープTP2、テープTP3(図4参照)、およびテープTP4(図4参照)のそれぞれが、ボンディング領域WBRの近くに貼り付けられていることが好ましい。例えば、図4に示す例では、テープTP1、テープTP2、テープTP3、およびテープTP4のそれぞれからボンディング領域WBR(図5参照)のワイヤ接合部までの距離は、1mm程度である。すなわち、少なくともリードの先端部とリードの他端部(ここでは、封止体MRの各辺と交わる部分)の間に位置する中間部よりも、リードの先端部側に各テープTP1、TP2、TP3、TP4を貼り付けている。
また、ワイヤ接合部(図6に示すボンディング領域WBRにおいて、ワイヤBWが接合された部分)の保持強度は、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4とワイヤ接合部との距離に応じて変化する。このため、図6に示す複数のリードLDのそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP1、TP2、TP3、またはテープTP4までの長さLWTが、ほぼ同じ値になっていることが好ましい。ワイヤ接合部の保持強度を向上させることにより、ワイヤボンディング工程においてワイヤBWをボンディング領域WBRに安定的に接合させることができる。この結果、ワイヤBWの接合強度を向上させることができる。なお、上記した「ほぼ同じ値」の定義については後述する。
また、複数のリードLDを確実に保持するためには、複数のリードLDのそれぞれが、テープTP1、TP2、TP3、またはテープTP4のうちのどれかに貼り付けられている必要がある。複数のリードLDのうちの一部がテープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4のいずれにも貼りついていない場合、当該リードLDは保持されない。このため、本実施の形態のように複数に分割されたテープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4をリードLDに貼り付ける場合には、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4のそれぞれが互いに重ならないように配置することが重要である。テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4のうちの一部分が重なっていると、テープを貼り付ける際に、貼り付け用の治具とテープの間に隙間が生じ、一部のリードLDがテープに密着しない可能性がある。
なお、テープを複数に分割せず、かつ、枠状に形成して複数のリードLDのボンディング領域WBR(図5参照)の周囲を囲むように貼りつけた場合、複数のリードLDの一部がテープに貼りつかない可能性は低く、かつ、図6に示す複数の長さLWTの値をほぼ同じにすることができる。しかし、上述したように、テープの製造工程における取得効率を考慮すると、テープを枠状に形成するより、複数の部材に分割する方が好ましい。
そこで、本願発明者は、上記の検討事項を踏まえ、本実施の形態のテープのレイアウトを見出した。すなわち、図6に示すように、本実施の形態の半導体装置PKG1は、複数のリードLD1のそれぞれ、リード群LDg1とリード群LDg2の間の吊りリードHL1、および複数のリードLDのうちの少なくとも一部に貼り付けられたテープTP1を有する。また、半導体装置PKG1は、複数のリードLD2のそれぞれに貼り付けられたテープTP2を有する。また、テープTP1およびテープTP2は、リードLDの上面LDtおよび下面LDb(図2参照)のうち、同じ面(図6に示す例では上面LDt)に貼り付けられている。
また、平面視において、テープTP1は、複数のリードLD1のそれぞれのワイヤ接合部(ボンディング領域WBRのうち、ワイヤBWが接合された部分)に沿って延在し、かつ、複数のリードLDのそれぞれに貼り付けられたリード保持部(主要部、保持部、部分)TP11を有する。また、テープTP1は、吊りリードHL1およびリードLD2(複数のLD2のうちの一部)に貼り付けられ、かつ、リード保持部TP11よりもワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられたテープ支持部(支持部、部分)TP12を有する。また、テープTP1は、リード保持部TP11とテープ支持部TP12との間に位置する連結部(部分)TP13を有している。また、テープTP1はテープTP2と重なる部分は有していない。
言い換えれば、本実施の形態のテープTP1は、吊りリードHL1の近傍において、テープTP2と重ならないように、リード保持部TP11の延長線と吊りリードHL1との交点を迂回する、テープ支持部TP12および連結部TP13を有している。
リード保持部TP11は、複数のリードLD1に貼り付けられ、複数のリードLD1を保持する機能を有している。本実施の形態のリード保持部TP11は、複数のリードLD1のワイヤ接合部の配列方向に沿って延びている。詳しくは、図5に示すように、テープTP1のリード保持部TP11は、複数のリードLD1のうち、配列の端部に位置する端部リードLDe1と交差する位置まで方向DRE1に沿って延在している。これにより、複数のリードLD1のそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP1までの長さLWTがほぼ同じ値になる。
半導体装置PKG1は、リード群LDg1に含まれる複数のリードLD1のうち、リード群LDg1とリード群LDg2との間に設けられた吊りリードHL1に最も近い位置に配置される端部リードLDe1を有している。テープTP1のリード保持部TP11は、複数のリードLD1のワイヤ接合部の配列方向である方向DRE1に沿って延びており、リード保持部TP11の終端部分(連結部TP13との境界部分)は端部リードLDe1に貼り付けられている。
このように、リード保持部TP11が端部リードLDe1と交差する位置まで方向DRE1に沿って延在していることで、複数のリードLD1のそれぞれにおいて、複数のリードLD1のそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP1までの長さLWTがほぼ同じ値になる。
上記した「ほぼ同じ値」とは、複数のリードLD1における複数の長さLWTの全てが、全く同じ値になっている状態の他、複数の長さLWTのうちの一部の値が異なっている状態も含む。例えば、ワイヤ接合部の位置は、ワイヤボンディング装置の精度など、加工精度の影響により、完全に設計通りの位置にワイヤBWを接合することは難しい。このため、図5に示すように、ボンディング領域WBRを構成する複数の金属膜BMのそれぞれは、リードLDの延在方向に沿って、長さLBMを有している。金属膜BMの長さLBMは、ワイヤ接合部の位置がずれても金属膜BM上にワイヤ接合部が位置するように形成されている。したがって、金属膜BMの長さLBMは、ワイヤ接合部の位置ずれの許容範囲の指標として考えることもできる。本実施の形態では、複数のリードLD1における複数の長さLWTの差は、金属膜BMの長さLBMよりも小さい。図5に示す例では、金属膜の長さLBMは、例えば500μm程度である。また、複数のリードLD1における複数の長さLWTのそれぞれは、例えば1mm程度である。
また、複数のリードLD1のそれぞれにおいて、複数のリードLD1のそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP1までの長さLWTが、ほぼ同じ値になっていることを表す別の表現方法として以下の表現方法がある。すなわち、端部リードLDe1におけるワイヤ接合部からテープTP1のリード保持部TP11までの長さLWTは、端部リードLDe1以外のリードLD1のうちの一部におけるワイヤ接合部からテープTP1のリード保持部TP11までの長さLWTと等しい。例えば、図5に示すように、複数のリードLD1は、上記した端部リードLDe1の他、端部リードLDe1以外の非端部リードLDc1を有している。そして、端部リードLDe1におけるワイヤ接合部からテープTP1のリード保持部TP11までの長さLWTは、非端部リードLDc1におけるワイヤ接合部からテープTP1のリード保持部TP11までの長さLWTと等しい。
同様に、平面視において、テープTP2は、複数のリードLD2のそれぞれのワイヤ接合部(ボンディング領域WBRのうち、ワイヤBWが接合された部分)に沿って延在し、かつ、複数のリードLD2のそれぞれに貼り付けられたリード保持部(主要部、保持部、部分)TP21を有する。リード保持部TP21は、複数のリードLD2のワイヤ接合部の配列方向に沿って延びている。詳しくは、図5に示すように、半導体装置PKG1は、リード群LDg2に含まれる複数のリードLD2のうち、リード群LDg1とリード群LDg2との間に設けられた吊りリードHL1に最も近い位置に配置される端部リードLDe2を有している。テープTP2のリード保持部TP21は、複数のリードLD2のワイヤ接合部の配列方向である方向DRE2に沿って延びており、リード保持部TP21の終端部分(テープ支持部TP22との境界部分)は端部リードLDe2に貼り付けられている。これにより、複数のリードLD2のそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP2までの長さLWTがほぼ同じ値になる。
上記した「ほぼ同じ値」の定義は、複数のリードLD1における長さLWTの比較において用いた「ほぼ同じ値」と同様の定義である。すなわち、本実施の形態では、複数のリードLD2において、ワイヤ接合部からテープTP2までの複数の長さLWTの差は、金属膜BMの長さLBMよりも小さい。
また、端部リードLDe2におけるワイヤ接合部からテープTP2のリード保持部TP21までの長さLWTは、端部リードLDe2以外のリードLD2のうちの一部におけるワイヤ接合部からテープTP2のリード保持部TP21までの長さLWTと等しい。例えば、図5に示すように、複数のリードLD2は、上記した端部リードLDe2の他、端部リードLDe2以外の非端部リードLDc2を有している。そして、端部リードLDe2におけるワイヤ接合部からテープTP2のリード保持部TP21までの長さLWTは、非端部リードLDc2におけるワイヤ接合部からテープTP2のリード保持部TP21までの長さLWTと等しい。
また、テープ支持部TP12は、複数のリードLD1に貼り付けられたテープTP1のリード保持部TP11を保持する機能を有している。このため、テープ支持部TP12は、少なくとも吊りリードHL1には貼り付ける必要がある。
また、テープTP1の一部をリードLD2に貼り付けることにより、リード群LDg2の複数のリードLD2を支持することができる。本実施の形態では、図6に示すように、複数のリードLD2に貼り付けられているテープTP2の一部分は、吊りリードHL1に貼り付けられている。しかし、テープTP1の一部をリードLD2に貼り付けることにより、複数のリードLD2の支持強度を向上させることができる。また、図6に対する変形例として、テープTP2が吊りリードHL1に貼りついていない構成としても良い。この場合、複数のリードLD2およびテープTP2は、テープTP1のテープ支持部TP12を介して吊りリードHL1に支持される。
図5および図6に示す例では、テープ支持部TP12は、複数のリードLD2のうち、リード群LDg2の配列の端部(吊りリードHL1の隣)に配置される端部リードLDe2を含む複数のリードLD2に貼り付けられている。
また、テープ支持部TP12の支持強度を向上させる観点から、吊りリードHL1の幅を太くして、テープ支持部TP12と吊りリードHL1の接着面積を大きくする方法が考えられる。しかし、吊りリードHL1の幅を太くすると、リードLDの配置可能本数が低下してしまう。そこで、本実施の形態では、テープ支持部TP12は、吊りリードHL1を幅方向に跨いで、リードLD2に貼り付けられている。この場合、仮に、吊りリードHL1とテープ支持部TP12の接着界面が剥離した場合でも、テープ支持部TP12は、リードLD1だけでなくリードLD2にも貼り付けられているので、テープTP1を支持することができる。
なお、テープTP1自体の支持強度を向上させる観点からは、少なくともテープTP1の一部分(例えばリード保持部TP11や連結部TP13)がリードLD1に貼りついていれば良い。したがって、図5および図6に対する変形例として、テープ支持部TP12が端部リードLDe1に貼りついていない構造であっても良い。ただし、テープ支持部TP12と連結部TP13との境界部分に、応力が集中して破断することを防止する観点からは、連結部TP13とテープ支持部TP12との境界は、複数のリードLD1のうちの一部(例えば、図5および図6に示すように、端部リードLDe1)に貼りついていることが好ましい。
また、テープ支持部TP12と吊りリードHL1の接着面積を大きくする方法として、以下の構造が好ましい。すなわち、図5に示す例では、テープTP1のテープ支持部TP12の幅(延在方向であるX方向に直交するY方向の長さ)は、リード保持部TP11の幅(リード保持部TP11が延在する方向DRE1に対して直交する方向の長さ)と同じ、あるいはリード保持部TP11の幅より大きい。本実施の形態によれば、テープ支持部TP12は、テープTP2と重ならない位置に配置されているので、テープ支持部TP12の幅を大きくすることができる。そして、テープ支持部TP12の幅を大きくすることで、テープ支持部TP12と吊りリードHL1の接着面積を大きくすることができる。
また、図6に示す例では、テープTP1のテープ支持部TP12と吊りリードHL1とは、90度以外の角度で交差している。これにより、テープ支持部TP12が延在する方向と吊りリードHL1が延在する方向とが互いに直交する場合と比較して、テープ支持部TP12と吊りリードHL1の接着面積を大きくすることができる。
また、本実施の形態では、図5に示すように、複数のリードLD1のそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP1までの長さLWTと、複数のリードLD2のそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP2までの長さLWTが、ほぼ同じ値になっている。
本実施の形態では、複数のリードLD1および複数のリードLD2のそれぞれにおける複数の長さLWTの差は、金属膜BMの長さLBMよりも小さい。例えば、端部リードLDe1におけるワイヤ接合部からテープTP1のリード保持部TP11までの長さLWTと、端部リードLDe2におけるワイヤ接合部からテープTP2のリード保持部TP21までの長さLWTとの差は、金属膜BMの長さLBMよりも小さい。
また、複数のリードLD1のうちの端部リードLDe1におけるワイヤ接合部からテープTP1のリード保持部TP11までの長さLWTは、複数のリードLD2のうちの非端部リードLDc2におけるワイヤ接合部からテープTP2のリード保持部TP21までの長さLWTと等しい。
また、複数のリードLD2のうちの端部リードLDe2におけるワイヤ接合部からテープTP2のリード保持部TP21までの長さLWTは、複数のリードLD1のうちの非端部リードLDc1におけるワイヤ接合部からテープTP1のリード保持部TP11までの長さLWTと等しい。
このように、リード群LDg1およびリード群LDg2のそれぞれにおいて、複数の長さLWTがほぼ同じ値になっていれば、テープTP1によるボンディング領域WBRの保持強度と、テープTP2によるボンディング領域WBRの保持強度とを同程度にすることができる。
ところで、リード群LDg1およびリード群LDg2のそれぞれにおいて、複数の長さLWTがほぼ同じ値になっている場合、リード保持部TP11およびリード保持部TP21のそれぞれの延在距離を長くしすぎると、互いに重なる部分が生じる。例えば、図5に示す例では、平面視において、テープTP1のリード保持部TP11の延長線と、テープTP2のリード保持部TP21の延長線とは、吊りリードHL1と重なる位置で交差している。また、平面視において、テープTP2のテープ支持部TP22はテープTP1のリード保持部TP11の延長線上に配置されている。また、平面視に置いて、テープTP1の連結部TP13は、テープTP2のリード保持部TP21の延長線上に配置されている。
上記したようにテープTP1とテープTP2の一部分が重なっている場合、テープTP1、TP2を貼り付けるための治具とテープの間に隙間が生じ、一部のリードLDがテープに密着しない可能性がある。そこで、本実施の形態では、テープTP1に屈曲部を設けて、テープTP1とテープTP2とが重なることを防止している。
詳しくは、テープTP1のテープ支持部TP12は、リード保持部TP11よりもワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられている。図6に示す例では、テープ支持部TP12からボンディング領域WBRを構成する金属膜BMまでの距離は、リード保持部TP11から金属膜BMまでの距離より大きい。また、テープ支持部TP12からダイパッドDPまでの距離は、リード保持部TP11からダイパッドDPまでの距離より大きい。
一方、テープTP2のリード保持部TP21から複数のリードLD2のそれぞれが有するワイヤ接合部までの距離は、テープTP1のリード保持部TP11から複数のリードLD1のそれぞれが有するワイヤ接合部までの距離とほぼ等しい。また、テープTP2のリード保持部TP21から複数のリードLD2のそれぞれが有するボンディング領域WBRを構成する金属膜BMまでの距離は、テープTP1のリード保持部TP11から複数のリードLD1のそれぞれが有する金属膜BMまでの距離とほぼ等しい。また、テープTP2のリード保持部TP21からダイパッドDPまでの距離は、テープTP1のリード保持部TP11からダイパッドDPまでの距離とほぼ等しい。
したがって、テープ支持部TP12が複数のリードLD2に貼り付けられていても、テープTP1とテープTP2とは互いに重ならない状態で配置されている。このため、本実施の形態によれば、複数のリードLD1のそれぞれは、テープTP1に確実に貼り付けられ、複数のリードLD2のそれぞれはテープTP2に確実に貼り付けられている。
また、連結部TP13は、リード保持部TP11とテープ支持部TP12とを繋ぎ、テープ支持部TP12の支持力をリード保持部TP11に伝達する機能を有している。なお、図6に示す例では、連結部TP13は、リード保持部TP11とテープ支持部TP12とを直線的に結ぶように延びている。この場合、連結部TP13の距離が短くなるので、連結部TP13が破断し難い。ただし、テープ支持部TP12の支持力をリード保持部TP11に伝達するためには、リード保持部TP11とテープ支持部TP12とが繋がっていれば良い。したがって、本実施の形態に対する変形例として、リード保持部TP11とテープ支持部TP12とは、連結部TP13を含む、複数の部分を介して繋がっていても良い。
また、吊りリードHL1と複数のリードLD1との間隔を近づけて、端子数を増加させる観点からは、下記の構成が好ましい。すなわち、図6に示す例では、テープTP1の連結部TP13は、端部リードLDe1に貼り付けられている。言い換えれば、リード保持部TP11は、吊りリードHL1の位置までは、延在せず、端部リードLDe1と重なる位置で連結部TP13に接続されている。このように、端部リードLDe1と重なる位置でリード保持部TP11を終端させることにより、吊りリードHL1とリードLD1(詳しくは端部リードLDe1)の距離を近づけることができる。これにより、リードLDの配置密度を向上させることができるので、半導体装置PKG1が備える外部端子の数を増加させることができる。
また、図4に示すように、テープTP1とテープTP2とは互いに分離している。言い換えれば、テープTP1とテープTP2とは離間した状態で配置されている。なお、テープTP1とテープTP2とが重なっていなければ、上記したように一部のリードLDがテープに密着しない可能性がある。しかし、例えば、テープTP1の端部とテープTP2の端部とが接触していても、互いに重なっている部分が存在しなければ、複数のリードLDのそれぞれをテープTP1、TP2と密着させることができる。ただし、テープTP1の端部とテープTP2の端部とを接触させる場合、テープTP1とテープTP2とが互いに重なってしまう懸念があるので、本実施の形態のように、テープTP1とテープTP2とは互いに分離している方が好ましい。
また、本実施の形態では、テープTP1とテープTP2とが互いに異なる形状になっている。すなわち、図5に示すように、テープTP2は、平面視において、複数のリードLD2のそれぞれのワイヤ接合部(ボンディング領域WBRのうち、ワイヤBWが接合された部分)に沿って延在し、かつ、複数のリードLDのそれぞれに貼り付けられたリード保持部(主要部、保持部、部分)TP21を有する。また、テープTP2は、リード群LDg1とリード群LDg2の間に配置される吊りリードHL1に貼り付けられ、テープTP1の連結部TP13の延在方向に沿って延びるテープ支持部TP22を有している。
このように、テープTP2のうちの一部分を吊りリードHL1に貼り付けることにより、テープTP2の支持強度を向上させることができる。また、テープ支持部TP22は、テープTP1の連結部TP13に沿って延びているので、テープTP1とテープTP2とが重なることを防止できる。
また、図5に示すようにテープTP2のリード保持部TP21は、端部リードLDe2と重なる位置において、テープ支持部TP22に接続されている。言い換えれば、テープTP2は、端部リードLDe2と重なる位置に屈曲部を有している。そして、テープTP2は、複数のリードLD1には接触していない。このように、テープTP2と複数のリードLD1とが接触していなければ、テープTP1とテープTP2とが互いに重なることを防止できる。
また、図4に示すように、本実施の形態の半導体装置PKG1が有するテープTP1は、封止体MRの辺S1の中心と、辺S3の中心を結ぶ線(図示しない仮想線)を中心線として、線対称な構造になっている。図7は、図5に示すテープの反対側の端部の周辺を拡大して示す拡大平面図である。
図7に示すように、テープTP1の一部は、テープ支持部TP12(図5参照)の反対側の端部において、リード群LDg4とリード群LDg1の間に配置される吊りリードHL2、および複数のリードLD4のうちの一部に貼り付けられている。
詳しくは、平面視において、テープTP1は、複数のリードLD1のそれぞれのワイヤ接合部(ボンディング領域WBRのうち、ワイヤBWが接合された部分)に沿って延在し、かつ、複数のリードLD1のそれぞれに貼り付けられたリード保持部(主要部、保持部、部分)TP14を有する。また、テープTP1は、吊りリードHL2およびリードLD4(複数のLD4のうちの一部)に貼り付けられ、かつ、リード保持部TP14よりもワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられたテープ支持部(支持部、部分)TP15を有する。また、テープTP1は、リード保持部TP14とテープ支持部TP15との間に位置する連結部(部分)TP16を有している。
詳しくは、図7に示すように、半導体装置PKG1は、リード群LDg1に含まれる複数のリードLD1のうち、リード群LDg1とリード群LDg4との間に設けられた吊りリードHL2に最も近い位置に配置される端部リードLDe3を有している。テープTP1のリード保持部TP14は、複数のリードLD1のワイヤ接合部の配列方向である方向DRE3に沿って延びており、リード保持部TP14の終端部分(連結部TP16との境界部分)は端部リードLDe3に貼り付けられている。これにより、複数のリードLD1のそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP1までの長さLWTが、ほぼ同じ値になる。
また、半導体装置PKG1は、複数のリードLD4のそれぞれに貼り付けられたテープTP4を有する。平面視において、テープTP4は、複数のリードLD4のそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、複数のリードLD4のそれぞれに貼り付けられたリード保持部(主要部、保持部、部分)TP41を有する。リード保持部TP41は、複数のリードLD4のワイヤ接合部の配列方向に沿って延びている。
詳しくは、図7に示すように、半導体装置PKG1は、リード群LDg4に含まれる複数のリードLD4のうち、リード群LDg1とリード群LDg4との間に設けられた吊りリードHL2に最も近い位置に配置される端部リードLDe4を有している。テープTP4のリード保持部TP41は、複数のリードLD4のワイヤ接合部の配列方向である方向DRE4に沿って延びており、リード保持部TP41の終端部分(テープ支持部TP42との境界部分)は端部リードLDe4に貼り付けられている。これにより、複数のリードLD4のそれぞれが有するボンディング領域WBRのワイヤ接合部からテープTP4までの長さLWTが、ほぼ同じ値になる。
また、テープTP1はテープTP4と重なる部分は有していない。また、テープTP1およびテープTP4は、リードLDの上面LDtおよび下面LDb(図2参照)のうち、同じ面(図7に示す例では上面LDt)に貼り付けられている。
なお、本実施の形態では、図5に示す複数のリードLD1の複数のワイヤ接合部の配列方向である方向DRE1、および図7に示す複数のリードLD1の複数のワイヤ接合部の配列方向である方向DRE3のそれぞれは、図4に示す辺S4と平行ではない。言い換えると、図5に示す方向DRE1および図7に示す方向DRE3のそれぞれは、図4に示す辺S4に対して傾斜するように延びている。また、図5に示す方向DRE1および図7に示す方向DRE3のそれぞれは、互いに平行ではない。これは、半導体チップCPの複数のパッドPDと複数のリードLD1とを接続する複数のワイヤBWの長さを等長化するためである。
このため、上記の説明では、ワイヤ接合部の配列方向毎に、テープTP1の構成部分を分けて、図5に示すリード保持部TP11と図7に示すリード保持部TP14として説明した。ただし、リード保持部TP11とリード保持部TP14とは互いに接続されており、かつ、同じ機能(複数のリードLD1に貼り付けられ、複数のリードLD1を保持する機能)を有している。したがって、リード保持部TP11とリード保持部TP14とを一つの構成部分と見做して考えても良い。
また、上記したように、テープTP1は、封止体MRの辺S1の中心と、辺S3の中心を結ぶ線(図示しない仮想線)を中心線として、線対称な構造になっている。また、テープTP4は、封止体MRの辺S2の中心と、辺S4の中心を結ぶ線(図示しない仮想線)を中心線として、線対称な構造になっている。したがって、図5および図6を用いた説明において、リード保持部TP11、テープ支持部TP12、連結部TP13、端部リードLDe1、および非端部リードLDc1のそれぞれを、リード保持部TP14、テープ支持部TP15、連結部TP16、端部リードLDe3、および非端部リードLDc3に置き換えて適用することができる。また、図5および図6を用いた説明において、テープTP2、リード保持部TP21、テープ支持部TP22、端部リードLDe2、および非端部リードLDc2のそれぞれを、テープTP4、リード保持部TP41、テープ支持部TP42、端部リードLDe4、および非端部リードLDc4に置き換えて適用することができる。同様に、また、図5および図6を用いた説明において、吊りリードHL1を、吊りリードHL2に置き換えて適用することができる。
また、重複する説明は省略するが、図4に示すテープTP2およびテープTP4のそれぞれは、封止体MRの辺S2の中心と、辺S4の中心を結ぶ線(図示しない仮想線)を中心線として、線対称な構造になっている。また、図4に示すテープTP3とテープTP1とは、封止体MRの辺S2の中心と、辺S4の中心を結ぶ線(図示しない仮想線)を中心線として、線対称な構造になっている。したがって、図5および図6を用いた説明において、テープTP1を図4に示すテープTP3に置き換えて適用することができる。
<半導体装置の製造方法>
次に、図1〜図7を用いて説明した半導体装置PKG1の製造方法について、図8に示すフロー図を用いて説明する。図8は、図1〜図7を用いて説明した半導体装置の組立工程のフローを示す説明図である。
また、図8には、半導体装置PKG1の製造工程のうちの主要な工程について示しているが、図8に示す組立フローの他、種々の変形例を適用することができる。例えば、図8では、封止体MRに製品識別マークを形成する、マーキング工程は図示していないが、これを封止工程とめっき工程の間に追加することもできる。また、例えば、図8では、検査工程を図示していないが、例えば、個片化工程の後などに検査工程を追加しても良い。
<基材準備工程>
図8に示す基材準備工程では、図9に示すリードフレームLFを準備する。図9は、図8に示す基材準備工程で準備するリードフレームを示す拡大平面図である。また、図10は、図9のA−A線に沿った断面において、複数のリードにテープを貼り付ける状態を示す拡大断面図である。また、図11は、図9のB−B線に沿った断面において、複数のリードにテープを貼り付ける状態を示す拡大断面図である。
なお、リードフレームLFは、複数のデバイス形成部LFdを備える基材であるが、図9では、見易さのため、複数のデバイス形成部LFdのうちの一つを拡大して示している。また、図9では、見易さのため、図3に示す複数のリードLDのうちの一部は図示を省略している。以降、半導体装置PKG1の製造方法を説明する拡大平面図において同様である。
本工程で準備するリードフレームLFは、枠部LFfの内側に複数のデバイス形成部LFdを備えている。リードフレームLFは、金属から成り、本実施の形態では、例えば銅(Cu)を主成分とする金属から成る。
なお、本実施の形態では、図8に示すように、封止工程の後でめっき工程を行い、図2に示す金属膜MCをアウタリード部OLDに形成する例を取り上げて説明する。ただし、変形例として、基材準備工程の段階で、予め銅を主成分とする基材の表面が金属膜MCで覆われていても良い。この場合、リードフレームLFの露出面の全体が金属膜MCで覆われる。
また、図9に示すように、デバイス形成部LFdの中央部には、チップ搭載部であるダイパッドDPが形成されている。ダイパッドDPには、複数の吊りリードHLがそれぞれ接続され、デバイス形成部LFdの角部に向かって延びるように配置されている。すなわち、ダイパッドDPは、吊りリードHLで支持されており、また、この吊りリードHLを介してリードフレームLFの枠部LFfに支持されている。
また、ダイパッドDPの周囲には、複数の吊りリードHLの間に、それぞれ複数のリードLDが形成されている。複数のリードLDは、枠部LFfにそれぞれ接続されている。図9に示す例では、複数のリードLDは、X方向に沿って配列される複数のリードLD1、X方向と交差(直交)するY方向に沿って配列される複数のLD2を含んでいる。また、複数のリードLDは、X方向にそって、かつ、複数のリードLD1の反対側に配列される複数のリードLD3、およびY方向にそって、かつ、複数のリードLD2の反対側に配列される複数のリードLD4を含んでいる。
また、複数のリードLDのそれぞれは、タイバーTBを介して互いに連結されている。タイバーTBは、複数のリードLDを連結する連結部材としての機能の他、図8に示す封止工程において、樹脂の漏れ出しを抑制するダム部材としての機能を有する。タイバーTBは、複数のリードLDおよびリードフレームLFの枠部LFfに接続されている。また、複数のリードLDの一方の端部は、リードフレームLFの枠部LFfに接続されている。このため、図8に示すリードカット工程までの間は、複数のリードLDのそれぞれは、リードフレームLFの枠部LFfに支持されている。
ただし、上記したように、本実施の形態の複数のリードLDは、インナリード部ILD(図2参照)の延在距離が長い。このため、リードLDの他方の端部(枠部LFfに接続されていない方の端部)の変形を防止するため、上記したテープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4が貼り付けられている。
ここで、リードフレームLFに形成された複数のリードLDにテープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4を貼り付ける工程は、例えば以下のように行う。すなわり、図10および図11に示すようにステージ(貼り付けステージ)ATSに複数のリードLDを配置した状態で、複数のリードLDの一方の面(図10および図11に示す例では上面LDt側にテープTP1、およびテープTP2を配置する。そして、テープTP1およびテープTP2の上面側から治具(貼り付け治具)ATJを押し当てて、テープTP1、TP2を複数のリードLDに向かって押し付ける。これにより、テープTP1およびテープTP2が複数のリードLDに貼り付けられる。この時、テープTP1とテープTP2に重なる部分が存在する場合、ステージATSと治具ATJの離間距離は、重なった部分の厚さにより規定される。このため、テープTP1とテープTP2とが重なっていない部分では、治具ATJまたはステージATSとテープTP1、TP2との間に隙間が生じる。この結果、治具ATJから印加される押圧力がテープTP1、TP2の一部に伝達されず、複数のリードLDのうちの一部に、テープTP1およびテープTP2のいずれも接着されないものが残ってしまう懸念がある。
しかし、図9〜図11に示すように、本実施の形態によれば、テープTP1、TP2、TP3(図9参照)、およびテープTP4(図9参照)のそれぞれは、お互いに重なる部分を含んでいない。これにより、複数のリードLDのそれぞれは、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4のうち、少なくともいずれか一つには、確実に接着される。
なお、図10および図11では、テープTP1およびテープTP2を一括して貼り付ける例を示しているが、テープTP1とテープTP2を順番に貼り付けても良い。この場合でも、テープTP1とテープTP2とが重なる部分を有していないことにより、複数のリードLD1のそれぞれは、テープTP1に貼り付けられ、複数のリードLD2のそれぞれは、テープTP2に貼り付けられる。また、図9に示すテープTP3およびテープTP4の貼り付け方法も同様である。
<ダイボンド工程>
次に、図8に示すダイボンド工程(半導体チップ搭載工程)では、図12に示すように、ダイパッドDPに半導体チップCPを搭載する。図12は、図9に示すリードフレームのダイパッド上に半導体チップを搭載した状態を示す拡大平面図である。
図2を用いて説明したように、半導体チップCPは、複数のパッドPDが形成された表面CPtおよび表面CPtの反対側に位置する裏面CPbを有している。本工程では、例えばエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂からなる接着材であるダイボンド材DB(図2参照)を介して、半導体チップCPとダイパッドDPとを接着固定する。図12に示す例では、平面視において、ダイパッドDPの上面DPtの一部が半導体チップCPにより覆われるように半導体チップCPを搭載する。
また、図2を用いて説明したように、本実施の形態の例では、半導体チップCPは、裏面CPbがダイパッドDPのチップ搭載面である上面DPtと対向するように、所謂、フェイスアップ実装方式によりダイパッドDP上に搭載される。
<ワイヤボンド工程>
次に、図8に示すワイヤボンド工程では、図13に示すように、半導体チップCPの表面CPtに形成された複数のパッドPDと、半導体チップCPの周囲に配置された複数のリードLDとを、複数のワイヤ(導電性部材)BWを介して、それぞれ電気的に接続する。図13は、図12に示す半導体チップと複数のリードとを、ワイヤを介して電気的に接続した状態を示す拡大平面図である。また、図14は、図13に示す半導体チップのパッドとリードとを、ワイヤを介して電気的に接続した状態を示す拡大断面図である。
本工程では、例えば図14に示すように、凹部10cが形成されたヒートステージ10を準備し、ダイパッドDPが凹部10c内に位置するように、半導体チップCPが搭載されたリードフレームLFをヒートステージ10上に配置する。そして、半導体チップCPのパッドPDとリードLDとを、ワイヤBWを介して電気的に接続する。ここで、本実施の形態では、キャピラリ11を介してワイヤBWを供給し、超音波と熱圧着を併用する、所謂、ネイルヘッドボンディング方式によりワイヤBWを接合している。また、本実施の形態では、半導体チップCPのパッドPDにワイヤBWの一方の端部を接続した後、ワイヤBWの他方の端部をリードLDのボンディング領域WBRに接続する、所謂、正ボンディング方式によりワイヤBWを接合している。図14に示す例では、ワイヤBWの他方の端部は、リードLDの上面LDtに形成された金属膜BMに接合されている。このワイヤBWが接合された部分が、上記したワイヤ接合部である。
また、本工程では、ヒートステージ10を介してリードLDを加熱する。このため、リードLDに貼り付けられたテープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4が、ヒートステージ10とリードLDの密着性を阻害することを抑制することが好ましい。そこで、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4はリードLDの上面LDtおよび下面LDbのうち、ワイヤBWが接合される面と同じ面に貼り付けられていることが好ましい。本実施の形態の場合、ワイヤBWはリードLDの上面LDt側に接合される。このため、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4のそれぞれはリードLDの上面LDtに貼り付けられている。これにより、ヒートステージ10とリードLDとを密着させることができる。
また、本実施の形態によれば、複数のリードLDのそれぞれは、テープTP1、TP2、TP3、およびテープTP4により保持されている。このため、ワイヤボンディング工程において、リードLDの一部分が変形することを抑制できる。この結果、複数のリードLDのそれぞれのボンディング領域WBRに確実にワイヤBWを接合することができる。
<封止工程>
次に、図8に示す封止工程では、図13に示す半導体チップCP、複数のワイヤBW、および複数のリードLDのそれぞれのインナリード部ILDを樹脂により封止し、図15に示す封止体MRを形成する。図15は、図13に示す複数のデバイス形成部のそれぞれに半導体チップを封止する封止体を形成した状態を示す拡大平面図である。
本工程では、例えば、図示しない複数のキャビティを備える成形金型内にリードフレームLFを配置した状態で、キャビティにより形成される空間内に樹脂を供給した後、上記樹脂を硬化させることにより封止体(封止部)MRを形成する。このような封止体MRの形成方法は、トランスファモールド方式と呼ばれる。
図15に示す例では、成形金型のキャビティは、平面視において、デバイス形成部LFdのタイバーTBで囲まれた領域内に配置される。このため、封止体MRの本体部分は、図15に示すように、デバイス形成部LFdのタイバーTBで囲まれた領域内に、それぞれ形成される。また、キャビティから漏れた樹脂の一部は、タイバーTBにより堰き止められる。このため、複数のリードLDのそれぞれが備えるアウタリード部OLDは、封止体MRの側面MRsから露出している。
複数のリードLDのうち、Y方向に沿って延びる複数のリードLD1のそれぞれのアウタリード部OLDは、封止体MRの辺S1において、封止体MRの側面MRsから突出する。また、複数のリードLDのうち、X方向に沿って延びる複数のリードLD2のそれぞれのアウタリード部OLDは、封止体MRの辺S2において、封止体MRの側面MRsから突出する。また、複数のリードLDのうち、Y方向に沿って延びる複数のリードLD3のそれぞれのアウタリード部OLDは、封止体MRの辺S3において、封止体MRの側面MRsから突出する。また、複数のリードLDのうち、X方向に沿って延びる複数のリードLD4のそれぞれのアウタリード部OLDは、封止体MRの辺S4において、封止体MRの側面MRsから突出する。
<めっき工程>
次に、図8に示すめっき工程では、図15に示す複数のリードLDの露出面に金属膜MC(図2参照)をめっき法により形成する。本工程で形成する金属膜MCは、半導体装置PKG1を図示しない実装基板に実装する際に、接合材として用いる半田材の濡れ性を向上させるために形成される。
本工程では、リードLDの露出面に半田から成る金属膜MCを形成することが好ましい。また、金属膜MCの形成方法としては、電離した金属イオンをリードLDの露出面に析出させる、電気めっき法を適用することができる。電気めっき法の場合、金属膜MC形成時の電流を制御することで金属膜MCの膜質を容易に制御できる点で好ましい。また、電解めっき法は、金属膜MCの形成時間が短くできる点で好ましい。
<リードカット工程>
次に、図8に示すリードカット工程では、図16に示すように、複数のリードLDのそれぞれのアウタリード部OLDを切断し、リードフレームLFから複数のリードLDのそれぞれを切り離す。また、本実施の形態では、リードLDを切断した後、図2に示すような曲げ加工を施し、複数のリードLDを成形する。図16は、図15に示す複数のリードの露出面に金属膜を形成し、それぞれ切断した後、成形した状態を示す拡大平面図である。
本工程では、複数のリードLDを連結しているタイバーTB(図15参照)を切断する。また、複数のリードLDのそれぞれを枠部LFfから切り離す。これにより、複数のリードLDは、それぞれが分離した独立部材になる。また、複数のリードLDが切り離された後は、封止体MRおよび複数のリードLDは、吊りリードHL(図9参照)を介して枠部LFfに支持された状態になる。
なお、本実施の形態では、上記めっき工程の後にタイバーTBを切断することについて説明したが、タイバーTBのみを先に切断してから、めっき工程を行い、さらに、複数のリードLDのそれぞれを枠部LFfから切り離す手順でもよい。これにより、タイバーTBの切断面にも金属膜MCを形成することができ、タイバーTBの切断面が酸化により変色するのを抑制できる。また、リードLDが枠部LFfから切り離される前にめっき工程を行うため、めっき液によるリードLDの変形も抑制できる。
複数のリードLDやタイバーTBは、後述する、切断用の金型を用いて、プレス加工により切断する。また、切断後の複数のリードLDは、例えば、図示しない成形用の金型を用いたプレス加工を用いて複数のリードLDのアウタリード部OLDに曲げ加工を施すことにより、例えば図2に示すように成形することができる。
リードカット工程の詳細については後述する。
<個片化工程>
次に、図8に示す個片化工程では、図17に示すように、複数の吊りリードHLをそれぞれ切断して、デバイス形成部LFdのそれぞれにおいて半導体パッケージを分離する。図17は、図16に示す吊りリードを切断して、半導体パッケージを取得した状態を示す拡大平面図である。
本工程では図9に示す複数の吊りリードHL、および封止体MRの角部に残った樹脂を切断して、半導体パッケージである半導体装置PKG1(詳しくは、検査工程前の検査体)を取得する。切断方法は、例えば、上記リード成形工程と同様に、図示しない切断金型を用いて、プレス加工により切断することができる。
本工程の後、外観検査、電気的試験など、必要な検査、試験を行い、合格したものが、図1〜図7に示す完成品の半導体装置PKG1となる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
<変形例1>
例えば、上記実施の形態では、テープTP1とテープTP3、テープTP2とテープTP4をそれぞれ同じ形状とし、2種類のテープを貼り付ける実施態様について説明した。しかし、図18に示す半導体装置PKG2のように、テープTP1、TP2、TP3およびテープTP4のそれぞれを同じ形状にしても良い。図18は、図4に対する変形例である半導体装置の内部構造を示す透視平面図である。また、図19は、図18に示す半導体装置の拡大平面図であって、図7示す半導体装置に対する変形例になっている。
図18および図19に示す半導体装置PKG2は、テープTP1とテープTP2、テープTP3とテープTP4をそれぞれ同じ形状になっている点で図1〜図7に示す半導体装置PKG1と相違する。
詳しくは、図19に示すように、テープTP1のリード保持部TP14には、テープ支持部TP15が直接的に接続されており、リード保持部TP14とテープ支持部TP15との間に連結部TP16(図7参照)が介在していない。一方、テープTP4は、図5に示すテープTP1と同様の構造になっている。すなわち、平面視において、テープTP4は、複数のリードLD4のそれぞれのワイヤ接合部(ボンディング領域WBRのうち、ワイヤBWが接合された部分)に沿って延在し、かつ、複数のリードLD4のそれぞれに貼り付けられたリード保持部(主要部、保持部、部分)TP41を有する。また、テープTP4は、吊りリードHL2およびリードLD1(複数のLD1のうちの一部)に貼り付けられ、かつ、リード保持部TP41よりもワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられたテープ支持部(支持部、部分)TP42を有する。また、テープTP4は、リード保持部TP41とテープ支持部TP42との間に位置する連結部(部分)TP43を有している。また、テープTP1はテープTP4と重なる部分は有していない。
なお、半導体装置PKG2が有するテープTP1のうち、図19に示す拡大平面と反対側の端部の構造は、図5に示す半導体装置PKG1が有するテープTP1と同じ構造なので、重複する説明は省略する。また、図18に示すように、半導体装置PKG2が有するテープTP2、TP3およびテープTP4のそれぞれは、テープTP1と同様な構造になっているので、これらの説明も省略する。
本変形例によれば、テープTP1とテープTP2、テープTP3とテープTP4がそれぞれ同じ形状になっているので、図4に示す半導体装置PKG1のように2種類のテープを準備する場合と比較して、テープを効率的に製造することができる。
なお、半導体装置PKG2は、上記した相違点を除き、上記実施の形態で説明した半導体装置PKG1と同様である。したがって、テープTP1とテープTP2、テープTP3とテープTP4がそれぞれ同じ形状になっているという特徴を損なわない範囲において、上記実施の形態で説明した変形例を適用できる。
<変形例2>
また、上記実施の形態および上記変形例1では、4本のテープを貼り付ける実施態様について説明した。しかし、図20に示す半導体装置PKG3や、図21に示す半導体装置PKG4のように、テープTP1およびテープTP2の2本を貼り付ける実施態様であっても良い。図20は、図4に対する他の変形例である半導体装置の内部構造を示す透視平面図である。また、図21は、図20に対する変形例である半導体装置の内部構造を示す透視平面図である。また、図22は、図20または図21に示す半導体装置の拡大平面図であって、図7示す半導体装置に対する他の変形例になっている。
図20に示す半導体装置PKG3、および図21に示す半導体装置PKG4は、テープTP1とテープTP2のそれぞれが、吊りリードHLを跨いで設けられた複数のリード群がそれぞれ有する複数のリードLDを保持している点で、図1〜図7に示す半導体装置PKG1と相違する。
詳しくは、図22に示すように、半導体装置PKG3、PKG4のそれぞれが有するテープTP1は、複数のリードLD1のそれぞれを保持するリード保持部TP11(図5参照)およびリード保持部TP14の他、複数のリードLD4のそれぞれを保持するリード保持部TP17を有している点で、図7に示す半導体装置PKG1と相違する。本変形例のテープTP1は、複数のリードLD4のそれぞれのワイヤ接合部(ボンディング領域WBRのうち、ワイヤBWが接合された部分)に沿って延在し、かつ、複数のリードLD4のそれぞれに貼り付けられたリード保持部(主要部、保持部、部分)TP17を有する。また、テープTP1は、吊りリードHL2に貼り付けられ、かつ、リード保持部TP17およびリード保持部TP14のそれぞれに繋がっているテープ支持部TP15を有している。
本変形例の場合、テープTP1およびテープTP2のそれぞれは独立した部材であって、リング状に形成されていないので、テープの製造工程において、テープの取得効率が低下することを抑制できる。また、リード保持部TP14とリード保持部TP17とがテープ支持部TP15を介して繋がっている場合、リード保持部TP14とリード保持部TP17とが重なる懸念は生じない。このため、複数のリードLD1のそれぞれ、および複数のリードLD4のそれぞれを、確実にテープTP1に貼り付けることができる。
なお、図20および図21に示すテープTP2は、端部の形状がテープTP1と異なっている点を除き、同様である。また、テープTP1およびテープTP2の端部の形状は、図5を用いて説明したテープTP1の端部の形状、あるいはテープTP2の端部の形状と同様なので、重複する説明は省略する。さらに、図21に示す半導体装置PKG4は、同じ形状のテープTP1とテープTP2を貼り付けている点で、図20に示す半導体装置PKG3と相違する。これにより、上記変形例1で説明したように、2種類のテープを準備する場合と比較して、テープを効率的に製造することができる。
なお、半導体装置PKG3および半導体装置PKG4は、上記した相違点を除き、上記実施の形態で説明した半導体装置PKG1と同様である。したがって、テープTP1およびテープTP2を貼り付けることで、複数のリードLD1、LD2、LD3およびリードLD4のそれぞれが保持されているという特徴を損なわない範囲において、上記実施の形態で説明した変形例を適用できる。
<変形例3>
また、例えば、上記の通り種々の変形例について説明したが、上記で説明した各変形例同士を組み合わせて適用することができる。
その他、上記実施の形態に記載された内容の一部を以下に記載する。
〔付記1〕
以下の工程を含む、半導体装置の製造方法:
(a)第1方向に沿って配置された複数の第1リードから成る第1リード群と、前記第1方向と交差する第2方向に沿って配置された複数の第2リードから成る第2リード群と、前記第1リード群と前記第2リード群との間に配置された第1吊りリードと、前記第1吊りリードが接続されたダイパッドと、前記複数の第1リードのそれぞれ、前記第1吊りリード、および前記複数の第2リードのうちの一部に貼り付けられた第1テープと、前記複数の第2リードのそれぞれに貼り付けられた第2テープと、を有するリードフレームを準備する工程、
(b)前記ダイパッドに複数のパッドを有する半導体チップを搭載する工程、
(c)前記半導体チップの前記複数のパッドと、前記リードフレームの前記複数の第1リードおよび前記複数の第2リードと、を複数のワイヤを介してそれぞれ電気的に接続する工程、
を含み、
前記複数の第1リード、前記複数の第2リード、および前記第1吊りリードのそれぞれは、第1面、および前記第1面の反対側に位置する第2面を有し、
前記第1テープおよび前記第2テープのそれぞれは、前記第1面に貼り付けられ、
平面視において、前記第1テープは、
前記複数の第1リードのそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、前記複数の第1リードのそれぞれに貼り付けられた第1部分と、
前記第1吊りリードおよび前記複数の第2リードのうちの一部に貼り付けられ、かつ、前記第1部分よりも前記ワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられた第2部分と、
前記第1部分と前記第2部分との間に位置する第3部分と、
を有し、
前記第1テープは、前記第2テープと重なる部分を有していない。
10 ヒートステージ
10c 凹部
11 キャピラリ
ATJ 治具(貼り付け治具)
ATS ステージ(貼り付けステージ)
BM 金属膜(めっき膜、めっき金属膜)
BMP 間隔
BMW 幅
BW ワイヤ(導電性部材)
CP 半導体チップ
CPb 裏面
CPt 表面(主面)
DB ダイボンド材(接着材)
DP ダイパッド(チップ搭載部)
DPt 上面(チップ搭載面)
DRE1、DRE2、DRE3、DRE4 方向
HL、HL1、HL2 吊りリード
HLB オフセット部(折り曲げ部、本実施の形態の例ではダウンセット部)
ILD インナリード部
LD、LD1、LD2、LD3、LD4 リード
LDb 下面
LDc1、LDc2、LDc3、LDc4 非端部リード(内側配列リード)
LDe1、LDe2、LDe3、LDe4 端部リード
LDg1、LDg2、LDg3、LDg4 リード群
LDt 上面
LF リードフレーム
LFd デバイス形成部
LFf 枠部
MB 金属膜
MC 金属膜(外装めっき膜)
MR 封止体(樹脂体、封止部)
MRb 下面(裏面、被実装面)
MRc 角部
MRs 側面
MRt 上面
OLD アウタリード部
PD パッド(ボンディングパッド)
PKG1、PKG2、PKG3、PKG4 半導体装置
S1、S2、S3、S4 辺
TB タイバー
TP1、TP2、TP3、TP4 テープ
TP11、TP14、TP17、TP21、TP41 リード保持部(主要部、保持部、部分)
TP12、TP15、TP22、TP42 テープ支持部(支持部、部分)
TP13、TP16、TP43 連結部(部分)
WBR ボンディング領域

Claims (19)

  1. 第1方向に沿って延在する第1辺と、前記第1方向と交差する第2方向に沿って延在する第2辺と、を有する封止体と、
    前記封止体の前記第1辺に沿って配置された複数の第1リードから成る第1リード群と、
    前記封止体の前記第2辺に沿って配置された複数の第2リードから成る第2リード群と、
    前記第1リード群と前記第2リード群との間に配置された第1吊りリードと、
    前記第1吊りリードが接続されたダイパッドと、
    前記複数の第1リードのそれぞれ、前記第1吊りリード、および前記複数の第2リードのうちの一部に貼り付けられた第1テープと、
    前記複数の第2リードのそれぞれに貼り付けられた第2テープと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記ダイパッドに搭載された半導体チップと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記半導体チップの複数の第1パッドと前記複数の第1リードをそれぞれ電気的に接続する複数の第1ワイヤと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記半導体チップの複数の第2パッドと前記複数の第2リードをそれぞれ電気的に接続する複数の第2ワイヤと、
    を含み、
    前記複数の第1リード、前記複数の第2リード、および前記第1吊りリードのそれぞれは、第1面、および前記第1面の反対側に位置する第2面を有し、
    前記第1テープおよび前記第2テープのそれぞれは、前記第1面に貼り付けられ、
    平面視において、前記第1テープは、
    前記複数の第1リードのそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、前記複数の第1リードのそれぞれに貼り付けられた第1部分と、
    前記第1吊りリードおよび前記複数の第2リードのうちの一部に貼り付けられ、かつ、前記第1部分よりも前記ワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられた第2部分と、
    前記第1部分と前記第2部分との間に位置する第3部分と、
    を有し、
    前記第1テープは、前記第2テープと重なる部分を有していない、半導体装置。
  2. 請求項1において、
    前記第1リード群は、前記複数の第1リードのうち、前記第1吊りリードに最も近い位置に配置される第1端部リードを有し、
    前記第2リード群は、前記複数の第2リードのうち、前記第1吊りリードに最も近い位置に配置される第2端部リードを有し、
    前記第1テープの前記第2部分は、前記第2端部リードに貼り付けられている、半導体装置。
  3. 請求項2において、
    前記第1テープの前記第3部分は、前記第1端部リードに貼り付けられている、半導体装置。
  4. 請求項3において、
    前記第1テープの前記第2部分は、前記複数の第1リードのうちの一部に貼り付けられている、半導体装置。
  5. 請求項1において、
    前記第2テープの一部は、平面視において、前記第1テープの前記第1部分の延長線上に位置している、半導体装置。
  6. 請求項1において、
    前記第1テープの前記第3部分は、平面視において、前記第2テープのうちの複数の第2リードに貼り付けられた第4部分の延長線上に位置している、半導体装置。
  7. 請求項1において、
    前記第1リード群は、前記複数の第1リードのうち、前記第1吊りリードに最も近い位置に配置される第1端部リード、および前記第1端部リード以外の第1内側リードを有し、
    前記第1テープの前記第1部分と前記第1端部リードの前記ワイヤ接合部とは、第1長さ分、離れて配置され、
    前記第1テープの前記第1部分と前記第1内側リードの前記ワイヤ接合部とは、第2長さ分、離れて配置され、
    前記第1長さと前記第2長さとは等しい、半導体装置。
  8. 請求項1において、
    平面視において、
    前記第2テープは、前記複数の第2リードのそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、前記複数の第2リードのそれぞれに貼り付けられた第4部分を有し、
    前記第1テープの前記第1部分の延長線と、前記第2テープの前記第4部分の延長線とは、前記第1吊りリードと重なる位置で互いに交差している、半導体装置。
  9. 請求項1において、
    前記第1リード群は、前記複数の第1リードのうち、前記第1吊りリードに最も近い位置に配置される第1端部リードを有し、
    前記第2リード群は、前記複数の第2リードのうち、前記第1吊りリードに最も近い位置に配置される第2端部リードを有し、
    前記第2テープは、前記複数の第2リードのそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、前記複数の第2リードのそれぞれに貼り付けられた第4部分を有し、
    前記第1端部リードは、母材、および前記母材の一部分に形成され、かつ、前記複数の第1ワイヤのうちの一つが接合された第1金属膜を有し、
    前記第1テープの前記第1部分と前記第1端部リードの前記ワイヤ接合部とは、第1長さ分、離れた位置に配置され、
    前記第2テープの前記第4部分と前記第2端部リードの前記ワイヤ接合部とは、第2長さ分、離れた位置に配置され、
    前記第1長さと前記第2長さの差は、前記第1端部リードの延在方向における前記第1金属膜の長さよりも小さい、半導体装置。
  10. 請求項1において、
    前記第1リード群は、前記第1吊りリードに最も近い位置に配置される第1端部リードを有し、
    前記第2テープは、前記複数の第2リードのそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、前記複数の第2リードのそれぞれに貼り付けられた第4部分を有し、
    前記第1テープの前記第1部分と前記第1端部リードの前記ワイヤ接合部とは、第1長さ分、離れた位置に配置され、
    前記第2テープの前記第4部分と前記複数の第2リードに含まれる第3リードの前記ワイヤ接合部とは、第3長さ分、離れた位置に配置され、
    前記第1長さと前記第3長さとは等しい、半導体装置。
  11. 請求項1において、
    前記第1テープと前記第2テープとは、互いに分離している、半導体装置。
  12. 請求項1において、
    前記第2テープは、前記第1吊りリードに貼り付けられている、半導体装置。
  13. 請求項12において、
    前記第2テープは、前記複数の第1リードには接触していない、半導体装置。
  14. 請求項13において、
    平面視において、前記第2テープは、
    前記複数の第2リードのそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、前記複数の第2リードのそれぞれに貼り付けられた第4部分と、
    前記第1吊りリードに貼り付けられ、前記第1テープの前記第3部分の延在方向に沿って延びる第5部分とを有している、半導体装置。
  15. 請求項1において、
    前記第1テープの前記第2部分の幅は、前記第1テープの前記第1部分の幅以上である、半導体装置。
  16. 請求項1において、
    平面視において、前記第1テープの前記第2部分と前記第1吊りリードとは90度以外の角度で交差している、半導体装置。
  17. 請求項1において、
    前記封止体は、前記第1辺の反対側に位置する第3辺、および前記第2辺の反対側に位置する第4辺を有し、
    前記封止体の前記第1辺に沿って配置された複数の第3リードから成る第3リード群と、
    前記封止体の前記第4辺に沿って配置された複数の第4リードから成る第4リード群と、
    前記第1リード群と前記第4リード群との間に配置され、かつ、前記ダイパッドに接続された第2吊りリードと、
    前記複数の第1リードのそれぞれ、前記第1吊りリード、前記複数の第2リードのうちの一部、前記第2吊りリード、および前記複数の第4リードのうちの一部に貼り付けられた前記第1テープと、
    前記複数の第4リードに貼り付けられた第3テープと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記半導体チップの複数の第3パッドと前記複数の第3リードをそれぞれ電気的に接続する複数の第3ワイヤと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記半導体チップの複数の第4パッドと前記複数の第2リードをそれぞれ電気的に接続する複数の第4ワイヤと、
    を含み、
    平面視において、前記第1テープは、
    前記第2吊りリードおよび前記複数の第4リードのうちの一部に貼り付けられ、かつ、前記第1部分よりも前記ワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられた第4部分と、
    前記第1部分と前記第4部分との間に位置し、前記第1部分および前記第4部分のそれぞれに繋がっている第5部分と、
    を有する、半導体装置。
  18. 請求項1において、
    前記封止体は、前記第1辺の反対側に位置する第3辺、および前記第2辺の反対側に位置する第4辺を有し、
    前記封止体の前記第1辺に沿って配置された複数の第3リードから成る第3リード群と、
    前記封止体の前記第4辺に沿って配置された複数の第4リードから成る第4リード群と、
    前記第1リード群と前記第4リード群との間に配置され、かつ、前記ダイパッドに接続された第2吊りリードと、
    前記複数の第4リードのそれぞれ、前記第2吊りリード、および前記複数の第1リードのうちの一部に貼り付けられた第3テープと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記半導体チップの複数の第3パッドと前記複数の第3リードをそれぞれ電気的に接続する複数の第3ワイヤと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記半導体チップの複数の第4パッドと前記複数の第2リードをそれぞれ電気的に接続する複数の第4ワイヤと、
    を含み、
    平面視において、前記第3テープは、
    前記複数の第1リードのそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、前記複数の第1リードのそれぞれに貼り付けられた第4部分と、
    前記第2吊りリードおよび前記複数の第1リードのうちの一部に貼り付けられ、かつ、前記第4部分よりも前記ワイヤ接合部から遠い位置に貼り付けられた第5部分と、
    前記第4部分と前記第5部分との間に位置し、前記第4部分および前記第5部分のそれぞれに繋がっている第6部分と、
    を有する、半導体装置。
  19. 請求項1において、
    前記封止体は、前記第1辺の反対側に位置する第3辺、および前記第2辺の反対側に位置する第4辺を有し、
    前記封止体の前記第1辺に沿って配置された複数の第3リードから成る第3リード群と、
    前記封止体の前記第4辺に沿って配置された複数の第4リードから成る第4リード群と、
    前記第1リード群と前記第4リード群との間に配置され、かつ、前記ダイパッドに接続された第2吊りリードと、
    前記複数の第1リードのそれぞれ、前記第1吊りリード、前記複数の第2リードのうちの一部、前記第2吊りリード、および前記複数の第4リードのそれぞれに貼り付けられた前記第1テープと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記半導体チップの複数の第3パッドと前記複数の第3リードをそれぞれ電気的に接続する複数の第3ワイヤと、
    前記封止体で封止され、かつ、前記半導体チップの複数の第4パッドと前記複数の第2リードをそれぞれ電気的に接続する複数の第4ワイヤと、
    を含み、
    平面視において、前記第1テープは、
    前記複数の第4リードのそれぞれのワイヤ接合部に沿って延在し、かつ、前記複数の第4リードのそれぞれに貼り付けられた第4部分と、
    前記第2吊りリードに貼り付けられ、かつ、前記第1部分および前記第4部分のそれぞれに繋がっている第5部分と、
    を有する、半導体装置。
JP2015169323A 2015-08-28 2015-08-28 半導体装置 Pending JP2017045944A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015169323A JP2017045944A (ja) 2015-08-28 2015-08-28 半導体装置
US15/201,468 US9805981B2 (en) 2015-08-28 2016-07-03 Semiconductor device
TW105123583A TW201717346A (zh) 2015-08-28 2016-07-26 半導體裝置
CN201610647368.6A CN106486452B (zh) 2015-08-28 2016-08-09 半导体装置
KR1020160107696A KR20170026204A (ko) 2015-08-28 2016-08-24 반도체 장치
US15/791,408 US10020225B2 (en) 2015-08-28 2017-10-23 Method of manufacturing semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015169323A JP2017045944A (ja) 2015-08-28 2015-08-28 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017045944A true JP2017045944A (ja) 2017-03-02

Family

ID=58095811

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015169323A Pending JP2017045944A (ja) 2015-08-28 2015-08-28 半導体装置

Country Status (5)

Country Link
US (2) US9805981B2 (ja)
JP (1) JP2017045944A (ja)
KR (1) KR20170026204A (ja)
CN (1) CN106486452B (ja)
TW (1) TW201717346A (ja)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05218283A (ja) * 1992-02-03 1993-08-27 Nec Corp 半導体装置
JPH09246457A (ja) * 1996-03-06 1997-09-19 Mitsubishi Electric Corp リードフレーム
JP2006332241A (ja) 2005-05-25 2006-12-07 Nichiden Seimitsu Kogyo Kk リードフレーム及びリードフレームの製造方法
JP5155644B2 (ja) 2007-07-19 2013-03-06 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US7847376B2 (en) 2007-07-19 2010-12-07 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method of the same
JP2010278308A (ja) 2009-05-29 2010-12-09 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP5798021B2 (ja) * 2011-12-01 2015-10-21 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP2013120768A (ja) 2011-12-06 2013-06-17 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法
JP5919087B2 (ja) * 2012-05-10 2016-05-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
US20140272665A1 (en) * 2013-03-13 2014-09-18 Redox Power Systems, LLC Ceramic Fuel Cell With Enhanced Flatness And Strength And Methods Of Making Same
CN104201232A (zh) * 2014-08-28 2014-12-10 南京大学 SnS2纳米纸自组装微球的制备及其微球薄膜的光探测器

Also Published As

Publication number Publication date
CN106486452A (zh) 2017-03-08
TW201717346A (zh) 2017-05-16
CN106486452B (zh) 2021-05-14
KR20170026204A (ko) 2017-03-08
US20180047629A1 (en) 2018-02-15
US9805981B2 (en) 2017-10-31
US10020225B2 (en) 2018-07-10
US20170062314A1 (en) 2017-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9601415B2 (en) Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device
US9324644B2 (en) Semiconductor device
JP6129645B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
KR102054385B1 (ko) 수지 봉지형 반도체 장치 및 그 제조 방법
WO2017002268A1 (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP6129315B2 (ja) 半導体装置
JP6253531B2 (ja) 半導体装置
JP6035656B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP6279339B2 (ja) 半導体装置の製造方法
US9385071B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device and semiconductor device
JP2019121698A (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP2017045944A (ja) 半導体装置
JP2014165425A (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP2019145625A (ja) 半導体装置
JP2019075474A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2015060876A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2014045161A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP2006013391A (ja) 半導体装置およびその製造方法