JP2017028093A - 薄膜太陽電池及び薄膜太陽電池の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極との間に配置された光電変換層を有し、前記光電変換層が、有機半導体を含有する部位と、硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物を含有する部位とを有し、前記有機半導体を含有する部位と、硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物を含有する部位との間にフッ素含有化合物を含有する部位を有することを特徴とする薄膜太陽電池。
【選択図】なし
Description
しかしながら、光キャリア生成に活性な領域は有機半導体層と無機半導体層との接合界面付近の数十nm程度と非常に狭く、この活性な領域以外は光キャリア生成に寄与できないため、光電変換効率が低くなってしまうという欠点があった。
例えば、特許文献1には、有機半導体と無機半導体を共蒸着によって複合化した共蒸着薄膜と、この薄膜を挟んでその両面に設けられ、この複合薄膜に内蔵電界を与えるための半導体もしくは金属、又はそれら双方からなる電極部とを備えた有機・無機複合薄膜太陽電池が記載されている。特許文献1には、同文献に記載の有機・無機複合薄膜においては、pn接合(有機/無機半導体接合)が膜全体に張り巡らされた構造のため、膜全体が光キャリア生成に対して活性に働き、膜で吸収された光すべてがキャリア生成に寄与するため、大きな光電流が得られる効果がある旨が記載されている。
例えば、特許文献2には、有機電子供与体と化合物半導体結晶とを含有する活性層を二つの電極の間に設けた有機太陽電池において、前記活性層は有機電子供与体と化合物半導体結晶とを混合して分散してなり、且つ、化合物半導体結晶が平均粒径が異なる二種類のロッド状の結晶を含み、この二種類のロッド状結晶の平均粒径及び含有比率を所定範囲内とする有機太陽電池が記載されている。特許文献2には、活性層中における化合物半導体結晶の充填率を増大することができ、これにより変換効率の高い太陽電池を得ることができる旨が記載されている。
しかしながら、特許文献1又は2に記載の光電変換素子であっても未だ光電変換効率はかなり低く、実用化に耐えうる有機太陽電池の開発のためには更なる光電変換効率の改善が不可欠である。
陽電池を提供することを目的とする。また、本発明は、該薄膜太陽電池の製造方法を提供することを目的とする。
以下、本発明を詳述する。
なお、光電変換効率は、開放電圧の高さ等に依存するものであるため、開放電圧が高くなると、光電変換効率も高くなる。また、開放電圧が高くなると、実際に得られる電圧も大きくなるため、薄膜太陽電池セル同士を並列に接続することが可能となり、太陽電池モジュール(透明保護剤と裏面保護剤との間に薄膜太陽電池セルを封止したもの)の施工面での簡便性及び自由度が向上するという利点もある。
なお、本明細書中、層とは、明確な境界を有する層だけではなく、含有元素が徐々に変化する濃度勾配のある層をも意味に含む。なお、層の元素は、例えば、薄膜太陽電池の断面のFE−TEM/EDS線分析測定を行い、特定元素の元素分布を確認する等によって分析できる。また、本明細書中、層とは、平坦な薄膜状の層だけではなく、他の層との境界が不鮮明であり、複雑に入り組んだ構造を形成しうる層をも意味する。
このような光電変換層においては、上記硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物部位が主にN型半導体として、上記有機半導体部位が主にP型半導体として働くと推測され、光励起によりP型半導体又はN型半導体で光キャリア(電子−ホール対)が生成し、電子がN型半導体を、ホールがP型半導体を移動することで、電界が生じる。ただし、上記硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物部位は、部分的にはP型半導体として働いていてもよいし、上記有機半導体部位は、部分的にはN型半導体として働いていてもよい。
上記有機半導体部位と、上記硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物部位とを有することにより、本発明の薄膜太陽電池は、光電変換効率が高くなる。また、P型半導体とN型半導体とがいずれも無機半導体である場合はこれらの固溶体が界面で析出する可能性があるのに対し、本発明の薄膜太陽電池においては固溶体の析出がなく、高温時においても高い安定性を得ることができるため、高温での加温後にも光電変換効率の低下が少ない。
上記光電変換層に上記有機無機ペロブスカイト化合物を用いることにより、薄膜太陽電池の光電変換効率を向上させることができる。
上記Rは、具体的には例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、エチルメチルアミン、メチルプロピルアミン、ブチルメチルアミン、メチルペンチルアミン、ヘキシルメチルアミン、エチルプロピルアミン、エチルブチルアミン、イミダゾール、アゾール、ピロール、アジリジン、アジリン、アゼチジン、アゼト、アゾール、イミダゾリン、カルバゾール及びこれらのイオン(例えば、メチルアンモニウム(CH3NH3)等)やフェネチルアンモニウム等が挙げられる。なかでも、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン及びこれらのイオンやフェネチルアンモニウムが好ましく、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン及びこれらのイオンがより好ましい。
なお、結晶性半導体とは、X線回折測定等で測定し、散乱ピークが検出できる半導体を意味する。
なお、結晶化度は、X線回折測定等により検出された結晶質由来の散乱ピークと、非晶質部由来のハローとをフィッティングにより分離し、それぞれの強度積分を求めて、全体のうちの結晶質部分の比を算出することにより求めることができる。
上記チオール基を有するフッ素含有化合物としては、例えば、フルオロアルキルチオール、フルオロフェニルアルキルチオール等が挙げられる。
上記ジスルフィド基を有するフッ素含有化合物としては、例えば、フルオロアルキルジスルフィド、フルオロフェニルジスルフィド等が挙げられる。
上記リン酸基を有するフッ素含有化合物としては、例えば、フルオロオクチルホスホン酸、フルオロドデシルホスホン酸、フルオロヘキシルホスホン酸等が挙げられる。
上記アルコキシシリル基を有するフッ素含有化合物としては、例えば、フルオロアルコキシシラン、フルオロフェニルアルコキシシラン等が挙げられる。
上記電子輸送層の材料は特に限定されず、例えば、N型導電性高分子、N型低分子有機半導体、N型金属酸化物、N型金属硫化物、ハロゲン化アルカリ金属、アルカリ金属、界面活性剤等が挙げられ、具体的には例えば、シアノ基含有ポリフェニレンビニレン、ホウ素含有ポリマー、バソキュプロイン、バソフェナントレン、ヒドロキシキノリナトアルミニウム、オキサジアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ナフタレンテトラカルボン酸化合物、ペリレン誘導体、ホスフィンオキサイド化合物、ホスフィンスルフィド化合物、フルオロ基含有フタロシアニン、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウム、硫化スズ、硫化インジウム、硫化亜鉛等が挙げられる。
上記ホール輸送層の材料は特に限定されず、例えば、P型導電性高分子、P型低分子有機半導体、P型金属酸化物、P型金属硫化物、界面活性剤等が挙げられ、具体的には例えば、ポリエチレンジオキシチオフェンのポリスチレンスルホン酸付加物、カルボキシル基含有ポリチオフェン、フタロシアニン、ポルフィリン、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化ニッケル、酸化銅、酸化スズ、硫化モリブデン、硫化タングステン、硫化銅、硫化スズ等、フルオロ基含有ホスホン酸、カルボニル基含有ホスホン酸等が挙げられる。
上記有機半導体と、上記硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物を含有する部位との間にフッ素含有化合物を含有する部位を形成する工程は特に限定されず、例えば、真空蒸着法、スピンコート法等の印刷法、ディップコーティング法、その他の真空プロセス(例えば、スパッタリング法、CVD等)等が挙げられる。なかでも、高い光電変換効率を発揮できる薄膜太陽電池を大面積で簡易に形成できることから、ディップコーティング法が好ましい。
なお、上記フッ素含有化合物を溶媒に溶解させた溶液をコーティング液とした場合、該コーティング液中の上記フッ素含有化合物の濃度の好ましい上限は1M、好ましい下限は1mMである。上記フッ素含有化合物の濃度がこの範囲内であると、充分に表面にフッ素含有化合物を吸着させて、表面をフッ素含有化合物で覆うことができる。
より具体的には、例えば、上記光電変換層が薄膜状の上記硫化物部位、セレン化物部位、及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物部位と薄膜状の上記有機半導体部位とを積層した積層体である場合には、上記半導体形成用塗布液を用いてスピンコート法等の印刷法により薄膜状の硫化物部位、セレン化物部位、及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物部位を成膜し、フッ素含有化合物を含有する部位を形成させた上で、更にスピンコート法等の印刷法により薄膜状の有機半導体部位を成膜することが好ましい。
(チタンを含有する塗布液の作製)
チタン粉末10mmolを精秤し、ビーカーに入れ、過酸化水素水40gを加え、更にアンモニア水10gを加えた。これを2時間水冷した後、L−乳酸30mmolを添加し、80℃に設定したホットプレートで一日加温し、そこへ蒸留水10mLを添加し、チタンを含有する塗布液を作製した。
エタノール100重量部に、フッ化オクチルホスホン酸0.1重量部を添加した後、攪拌することによって、フッ素含有化合物を含有する溶液を作製した。
N,N−ジメチルホルムアミド100重量部に、塩化アンチモン(III)20重量部を添加した後、攪拌することによって溶解した。N,N−ジメチルホルムアミド100重量部に、チオ尿素(CS(NH2)2)20重量部を添加した後、攪拌することによって溶解した。塩化アンチモンのN,N−ジメチルホルムアミド溶液50重量部に、チオ尿素のN,N−ジメチルホルムアミド溶液40重量部を攪拌しながら徐々に添加した。その際、溶液は混合前の無色透明から黄色透明に変わった。添加終了後に更に30分間攪拌することによって、塩化アンチモンとチオ尿素とを含有する半導体形成用塗布液を作製した。
FTOガラス基板上に、チタンを含有する塗布液を回転数1500rpmの条件でスピンコート法により100nmの厚みに塗布した。塗布後、大気中550℃で10分間焼成し、電子輸送層を形成した。
得られた電子輸送層上に、半導体形成用塗布液を回転数1500rpmの条件でスピンコート法により塗布した。塗布後、サンプルを真空炉に入れ、真空環境下で260℃で10分間焼成し、硫化物半導体薄膜(薄膜状の硫化物半導体部位)を形成した。真空炉から取出した硫化物半導体薄膜は黒色であった。真空炉から取出した後、フッ素含有化合物を含有する溶液に3分間浸漬した。溶液から取出した後、エタノールで洗浄し、乾燥させ、フッ素含有化合物を含有する部位を形成した。更に、有機半導体薄膜(薄膜状の有機半導体部位)としてポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。その後、有機半導体薄膜の上にホール輸送層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。次いで、ホール輸送層の上に厚み80nmの金電極を真空蒸着法により成膜することによって薄膜太陽電池を作製した。
フッ素含有化合物を含有する部位を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして薄膜太陽電池を作製した。
フッ素含有化合物を表1に示す化合物に変更したこと以外は、実施例1と同様にして薄膜太陽電池を作製した。
FTOガラス基板上に、チタンを含有する塗布液を回転数1500rpmの条件でスピンコート法により100nmの厚みに塗布した。塗布後、大気中550℃で10分間焼成し、電子輸送層を形成した。
更に、薄膜状の電子輸送層上に、有機バインダとしてのポリイソブチルメタクリレートと酸化チタン(平均粒子径10nmと30nmとの混合物)とを含有する酸化チタンペーストをスピンコート法により塗布した後、500℃で10分間焼成し、厚み300nmの多孔質状の電子輸送層を形成した。次いで、ハロゲン化金属化合物としてヨウ化鉛をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解させて1Mの溶液を調製した。これを上記酸化チタンの層上にスピンコート法によって製膜した。更に、アミン化合物としてヨウ化メチルアンモニウムを2−プロパノールに溶解させて1Mの溶液を調製した。この溶液内に上記のヨウ化鉛を製膜したサンプルを浸漬させることによって有機無機ペロブスカイト化合物であるCH3NH3PbI3を含む層を形成した。浸漬後、得られたサンプルに対して80℃にて30分間加熱処理を行った。熱処理後、フッ素含有化合物を含有する溶液に2分間浸漬した。溶液から取出した後、プロパノールで洗浄し、乾燥させ、フッ素含有化合物を含有する部位を形成した。更に、有機半導体薄膜(薄膜状の有機半導体部位)としてPoly−TPD(1−Material社製)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。その後、有機半導体薄膜の上に厚み80nmの金電極を真空蒸着法により成膜することによって薄膜太陽電池を作製した。
フッ素含有化合物を含有する部位を形成しなかった以外は、実施例8と同様にして薄膜太陽電池を作製した。
フッ素含有化合物を表2に示す化合物に変更したこと以外は、実施例8と同様にして薄膜太陽電池を作製した。
各実施例及び比較例で得られた薄膜太陽電池について、以下の評価を行った。
(開放電圧評価)
薄膜太陽電池の電極間に、電源(KEITHLEY社製、236モデル)を接続し、強度100mW/cm2のソーラーシミュレーション(山下電装社製)を用いて薄膜太陽電池の開放電圧V0Cを測定した。なお、フッ素含有化合物を含有する部位を形成していないこと以外は実施例1と同様の条件で作製した薄膜太陽電池の開放電圧を基準とし、開放電圧の増加量を表1、2に示した。
2 基板
3 透明電極(陰極)
4 電子輸送層
5 薄膜状の硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物部位
6 フッ素含有化合物を含有する部位
7 薄膜状の有機半導体部位
8 光電変換層(積層体)
9 ホール輸送層
10 電極(陽極)
Claims (6)
- 陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極との間に配置された光電変換層を有し、
前記光電変換層が、有機半導体を含有する部位と、硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物を含有する部位とを有し、
前記有機半導体を含有する部位と、硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物を含有する部位との間にフッ素含有化合物を含有する部位を有することを特徴とする薄膜太陽電池。 - フッ素含有化合物は、カルボキシル基、チオール基、ジスルフィド基、リン酸基、アルコキシシリル基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有することを特徴とする請求項1記載の薄膜太陽電池。
- 硫化物及び/又はセレン化物は、周期表14族又は15族元素を含むことを特徴とする請求項1又は2記載の薄膜太陽電池。
- 硫化物及び/又はセレン化物は、硫化アンチモン及び/又はセレン化アンチモンであることを特徴とする請求項1、2又は3記載の薄膜太陽電池。
- 陰極と光電変換層との間に配置された電子輸送層を有することを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の薄膜太陽電池。
- 請求項1、2、3、4、又は5記載の薄膜太陽電池を製造する方法であって、有機半導体を含有する部位と、硫化物部位、セレン化物部位及び/又は有機無機ペロブスカイト化合物を含有する部位との間にフッ素含有化合物を含有する部位を形成する工程を有することを特徴とする薄膜太陽電池の製造方法。
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