JP2017011268A5 - - Google Patents

Description

本発明の１つの側面は、基板の上に供給されたインプリント材にモールド保持部によって保持されたモールドのパターン領域を接触させて該インプリント材を硬化させるインプリント装置に係り、前記インプリント装置は、前記基板を保持する基板保持部と、前記基板を回転させる回転機構と、を備え、前記パターン領域の回転誤差に応じて前記回転機構によって前記基板が回転された後に前記基板が前記基板保持部に配置される。

Claims (11)

1. 基板の上に供給されたインプリント材にモールド保持部によって保持されたモールドのパターン領域を接触させて該インプリント材を硬化させるインプリント装置であって、
   前記基板を保持する基板保持部と、
   前記基板を回転させる回転機構と、を備え、
   前記パターン領域の回転誤差に応じて前記回転機構によって前記基板が回転された後に前記基板が前記基板保持部に配置される、
   ことを特徴とするインプリント装置。
2. 前記パターン領域の回転誤差を検出するための計測器を更に備える、
   ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
3. 前記計測器は、前記モールドに形成された複数のマークの位置を計測し、
   前記複数のマークの位置に基づいて前記パターン領域の回転誤差が検出される、
   ことを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
4. 前記モールドおよび前記基板とは異なる位置に形成されている複数の基準マークを有し、
   前記計測器は、前記モールドに形成された複数のマークと前記複数の基準マークとの相対位置を計測し、
   前記相対位置に基づいて前記パターン領域の回転誤差を検出される、
   ことを特徴とする請求項２または３に記載のインプリント装置。
5. 前記回転機構は、前記基板保持部に前記基板を搬送する搬送機構に備えられており、
   前記搬送機構は、前記基板を前記基板保持部に搬送中に前記パターン領域の回転誤差に応じて前記基板を回転させて前記基板保持部に配置することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のインプリント装置。
6. 前記基板保持部に前記基板を搬送する搬送機構を備え、
   前記パターン領域の回転誤差に応じて前記回転機構によって前記基板が回転された後に前記搬送機構によって前記基板が前記基板保持部に配置されることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のインプリント装置。
7. 前記パターン領域の回転誤差は、前記モールドの外形を基準とする前記パターン領域の回転誤差成分を含み、
   前記回転誤差成分は、記憶装置から取得され、
   前記回転誤差成分に応じて前記回転機構によって前記基板が回転された後に前記基板が前記基板保持部に配置される、
   ことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載のインプリント装置。
8. 前記インプリント装置の基準座標に対する前記モールドの外形の回転を検出するための計測器を更に備え、
   前記パターン領域の回転誤差は、前記モールドの外形を基準とする前記パターン領域の回転誤差成分と、前記モールドの外形の回転とを含み、
   前記回転誤差成分は、記憶装置から取得され、
   前記パターン領域の回転誤差は、前記回転誤差成分と前記計測器を使って検出された前記モールドの外形の回転とに基づいて決定される、
   ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
9. 第１基板が処理された後に第２基板が処理され、
   前記計測器は、前記モールドに形成された複数のマークと前記第１基板に形成された複数のマークとの相対位置を計測し、
   前記相対位置に基づいて前記パターン領域の回転誤差が決定される、
   ことを特徴とする請求項２又は３に記載のインプリント装置。
10. 基板を回転させる回転工程と、
    回転された前記基板を基板保持部に搬送し前記基板保持部に保持させる搬送工程と、
    前記基板の上に供給されたインプリント材にモールド保持部によって保持されたモールドのパターン領域を接触させて前記インプリント材を硬化させるインプリント工程と、を含み、
    前記回転工程では、前記パターン領域の回転誤差に応じて前記基板を回転させる、
    ことを特徴とするインプリント方法。
11. 請求項１乃至９のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて、基板の上のインプリント材にパターンを形成する工程と、
    インプリント材に形成されたパターンを用いて前記基板を加工する工程と、
    を含むことを特徴とする物品製造方法。