JP2016517847A - ルテニウム錯体のジアステレオ選択的な調製方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Xは、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−または−CH2−CH2−CH2−CH2−であり;
Y1は、−CH2−;−CH2−CH2−または−NH−であり;
Y2は、NHR7またはSHであり;ここで、R7は水素、C1〜C4アルキルまたはフェニルであり;
R1およびR2は、互いに独立して、脂肪族または芳香族基を表し;
R3およびR4は、互いに独立して、脂肪族または芳香族基を表し;
R5およびR6はそれぞれ水素であるか、またはそれらが結合している炭素原子と一緒にフェニル環を表す)
の化合物の調製方法であって;その方法が、式II
[RuCl2(R8)n]m (II)
(式中、nは1であり、mは>1であり、R8が金属にハプト−2配位モードで配位する2つのアルケンまたはアルキン部分を含有する分子である場合にはポリマー構造を表し;
またはR8が窒素、酸素または硫黄含有分子であり、その分子において前記窒素、酸素または硫黄が前記金属に配位している場合にはnは4であり、mは1である)
の化合物を、式III
の化合物、および式IV
R3R4P−X−PR1R2 (IV)
(式中、R1、R2、R3、R4およびXは、式Iの下で定義される通りである)
のホスファンと、沸点が112℃〜165℃である不活性溶媒の存在下で
反応させる工程を含む方法が提供される。
Xは好ましくは−CH2−CH2−CH2−CH2−である。
R8は好ましくは、nが1であり、m>1である場合にはシス,シス−シクロオクタ−1,5 ジエン(シクロオクタジエンもしくはCODと略記される)またはビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエン(ノルボルナジエンもしくはNBDと略記される)であるか;または好ましくは、nが4であり、mが1である場合にはRuCl2(dmso−κORuCl2(dmso−κS)3(dmso−κO)もしくはRuCl2(dmso−κS)4を前駆体としてもたらすジメチルスルホキシドであるが、特にシス,シス−シクロオクタ−1,5 ジエンまたはビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエンである。
R1、R2、R3およびR4は好ましくはフェニルであり、
R5およびR6は好ましくは水素であるか、またはそれらが結合している炭素原子と一緒にフェニル環を表し;
Y1は好ましくは−CH2−であり、
Y2は好ましくはNH2である。
からなる群から選択される。式III−1〜III−10の前記好ましい化合物の使用がまた、上述の本発明の前記好ましい実施形態においてとりわけ好ましい。
[RuCl2(COD)]m (IIa)
(式中、(mは>1である))
の化合物を、125〜135℃の反応温度でシクロヘキサノンのような不活性溶媒中で1当量の二座ホスフィン配位子、好ましくは1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタンの存在下で1.225当量の二座アミン配位子、好ましくは2−ピコリルアミンまたは化合物(III−2)と反応させることを特徴とする。
− [RuCl2(シクロオクタジエン)]mについては、典型的には29〜37重量%のルテニウム、
− [RuCl2(ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエン)]mについては、31〜39重量%のルテニウム、
− [RuCl2(dmso−κS)3(dmso−κO)]については、およびRuCl2(dmso−κS)4については、16〜21重量%のルテニウム。
実施例P1:式IaのRuCl2[PPh2(CH2)4PPh2][2−H2NCH2]C5H4N]の調製
Claims (9)
- 式I
Xは、−CH2−、−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−または−CH2−CH2−CH2−CH2−であり;
Y1は、−CH2−;−CH2−CH2−または−NH−であり;
Y2は、NHR7またはSHであり;ここで、R7は水素、C1〜C4アルキルまたはフェニルであり;
R1およびR2は、互いに独立して、脂肪族または芳香族基を表し;
R3およびR4は、互いに独立して、脂肪族または芳香族基を表し;
R5およびR6はそれぞれ水素であるか、またはそれらが結合している炭素原子と一緒にフェニル環を表す)
の化合物の調製方法であって;その方法が、式II
[RuCl2(R8)n]m (II)
(式中、nは1であり、mは>1であり、R8が金属にハプト−2配位モードで配位する2つのアルケンまたはアルキン部分を含有する分子である場合にはポリマー構造を表し;
またはR8が窒素、酸素または硫黄含有分子であり、前記分子において前記窒素、酸素または硫黄が前記金属に配位している場合にはnは4であり、mは1である)
の化合物を、
式III
の化合物、および式IV
R3R4P−X−PR1R2 (IV)
(式中、R1、R2、R3、R4およびXは、式Iの下で定義される通りである)
のホスファンと、沸点が112℃〜165℃である不活性溶媒の存在下で
反応させる工程を含む方法。 - Xが−CH2−CH2−CH2−CH2−である、式Iの化合物の調製のための請求項1に記載の方法。
- R8が、nが1であり、m>1である場合にシクロオクタジエンもしくはビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエンであるか;またはnが4であり、mが1である場合にジメチルスルホキシドである、式Iの化合物の調製のための請求項2に記載の方法。
- R1、R2、R3およびR4がフェニルであり、
R5およびR6が水素であるか、またはそれらが結合している炭素原子と一緒にフェニル環を表し;
Y1が−CH2−であり、
Y2がNH2である、
式Iの化合物の調製のための請求項2に記載の方法。 - ワンポット手順として行われる請求項1に記載の方法。
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