JP2016513240A - 可変光学フィルターおよびそれに基づく波長選択型センサー - Google Patents
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Abstract
Description
第1および第2の材料をそれぞれ含む交互の第1および第2の層のスタックを含むバンドパス・フィルターであって、バンドパス・フィルターは、横方向に可変の透過波長を提供するために、横方向に変化する厚さを有している、バンドパス・フィルターと、
第3および第4の材料をそれぞれ含む交互の第3および第4の層のスタックを含むブロッキング・フィルターであって、ブロッキング・フィルターは、横方向に可変の透過波長よりも大きいかまたは小さい波長範囲の中の波長をブロックするために、第1および第2の誘電体層の横方向に変化する厚さと調和した横方向に変化する厚さを有している、ブロッキング・フィルターとを含み、
第1、第2、および第4の材料は、異なる材料をそれぞれ含み、第1の材料の屈折率が、第2の材料の屈折率よりも小さく、第2の材料の屈折率が、第4の材料の屈折率よりも小さく、第2の材料の吸収係数が、第4の材料の吸収係数よりも小さくなっている。
一実施形態では、透過波長が、光学フィルターの長さ寸法に沿って単調に可変である。好適な実施形態では、透過波長が、長さ寸法に沿って対数的に可変である。第1および第3の材料が、同じ材料を含むことが可能である。光学フィルターが、3つまたは4つ以上の異なる材料を含むことが可能である。
(A)デバイス・チップを、
(i)第1および第2の反対向きの表面を有するデバイス・ウエハーを提供し、
(ii)第1の表面の方を向くアレイの光検出器を、デバイス・ウエハーの第2の表面内に形成させ、
(iii)アレイの光検出器を露出させるように、デバイス・ウエハーの第1の表面をポリッシングすることによって、製造するステップと、
(B)光学フィルターのバンドパス・フィルターおよびブロッキング・フィルターを形成するように、ステップ(iii)においてポリッシングされたデバイス・ウエハーの第1の表面の上に、第1から第5の層を蒸着させるステップと
によって製作可能である。
(a)光検出器のアレイを提供するステップと、
(b)光検出器のアレイの上に、
第1および第2の材料をそれぞれ含む交互の第1および第2の層のスタックを含むバンドパス・フィルターであって、バンドパス・フィルターは、横方向に可変の透過波長を提供するために、横方向に変化する厚さを有している、バンドパス・フィルターと、
第3および第4の材料をそれぞれ含む交互の第3および第4の層のスタックを含むブロッキング・フィルターであって、ブロッキング・フィルターは、横方向に可変の透過波長よりも大きいかまたは小さい波長範囲の中の波長をブロックするために、第1および第2の誘電体層の横方向に変化する厚さと調和した横方向に変化する厚さを有している、ブロッキング・フィルターと
を蒸着させるステップと
を含み、
第1、第2、および第4の材料は、異なる材料をそれぞれ含み、第1の材料の屈折率が、第2の材料の屈折率よりも小さく、第2の材料の屈折率が、第4の材料の屈折率よりも小さく、第2の材料の吸収係数が、第4の材料の吸収係数よりも小さくなっている。
(i)第1および第2の反対向きの表面を有するデバイス・ウエハーを提供するステップと、
(ii)第1の表面を向く光検出器のアレイを、デバイス・ウエハーの第2の表面内に形成するステップと、
(iii)アレイの光検出器を露出させるように、デバイス・ウエハーの第1の表面をポリッシングするステップと
を含み、
ステップ(b)において、バンドパス・フィルターおよびブロッキング・フィルターが、ステップ(iii)においてポリッシングされたデバイス・ウエハーの第1の表面内に蒸着される。
202 バルク基板
204 バンドパス・フィルター
206A ブロッキング・フィルター
206B ブロッキング・フィルター
211 第1の層
212 第2の層
213 第3の層
214 第4の層
Claims (28)
- ある波長範囲の中で横方向に可変の透過波長を有する光学フィルターであって、前記光学フィルターは、
第1および第2の材料をそれぞれ含む交互の第1および第2の層のスタックを含むバンドパス・フィルターであって、前記バンドパス・フィルターは、前記横方向に可変の透過波長を提供するために、横方向に変化する厚さを有している、バンドパス・フィルターと、
第3および第4の材料をそれぞれ含む交互の第3および第4の層のスタックを含むブロッキング・フィルターであって、前記ブロッキング・フィルターは、前記横方向に可変の透過波長よりも大きいかまたは小さい前記波長範囲の中の波長をブロックするために、前記第1および第2の誘電体層の前記横方向に変化する厚さと調和した横方向に変化する厚さを有している、ブロッキング・フィルターと
を含み、
前記第1、第2、および第4の材料は、異なる材料をそれぞれ含み、前記第1の材料の屈折率が、前記第2の材料の屈折率よりも小さく、前記第2の材料の前記屈折率が、前記第4の材料の屈折率よりも小さく、前記第2の材料の吸収係数が、前記第4の材料の吸収係数よりも小さくなっており、
前記バンドパス・フィルターは、少なくとも1つの第5の層をさらに含み、前記少なくとも1つの第5の層は、前記第4の材料を含み、前記バンドパス・フィルターの内側の定在光波の局所的な最小値の領域に配設されており、それによって、前記バンドパス・フィルターのブロッキング波長領域が広げられ、前記バンドパス・フィルターの厚さが低減されている、光学フィルター。 - 前記第1および第3の材料が、同じ材料を含む、請求項1に記載の光学フィルター。
- 前記第1および第3の材料が、同じ誘電体材料を含む、請求項2に記載の光学フィルター。
- 前記誘電体材料が、二酸化ケイ素を含む、請求項3に記載の光学フィルター。
- 前記第4または第5の材料が、半導体材料を含む、請求項1に記載の光学フィルター。
- 前記半導体材料が、シリコンを含み、前記第1および第3の材料が、二酸化ケイ素を含む、請求項5に記載の光学フィルター。
- 前記第2の材料が、二酸化チタン、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、ならびに、五酸化タンタルおよび五酸化ニオブの合金からなる群から選択される、請求項6に記載の光学フィルター。
- 前記第1および第3の材料の前記屈折率が、1.35から1.6の間にあり、前記第2の材料の前記屈折率が、1.8から2.5の間にあり、前記第4の材料の前記屈折率が、2.6から4.5の間にある、請求項1に記載の光学フィルター。
- 前記波長範囲が、900nmから1700nmに広がっており、前記バンドパス・フィルターおよび前記ブロッキング・フィルターが、1300nmの前記透過波長に対応する場所において、20マイクロメートル未満の合計の厚さを有している、請求項8に記載の光学フィルター。
- 前記光学フィルターが、前記波長範囲の中で透明な基板をさらに含み、前記バンドパス・フィルターが、前記ブロッキング・フィルターによって支持されており、前記ブロッキング・フィルターが、前記基板によって支持されている、請求項9に記載の光学フィルター。
- 前記ブロッキング・フィルターが、前記透過波長よりも大きい波長および小さい波長をそれぞれブロックするための第1および第2の部分を含み、前記バンドパス・フィルターが、前記ブロッキング・フィルターの前記第1の部分と前記第2の部分との間の光路の中に配設されている、請求項1に記載の光学フィルター。
- 前記第1および第3の材料が、二酸化ケイ素を含み、前記第2の材料が、五酸化タンタルまたは五酸化ニオブを含み、前記第4の材料が、シリコンを含み、前記バンドパス・フィルターが、20以下の層を含み、前記ブロッキング・フィルターが、60以下の層を含む、請求項11に記載の光学フィルター。
- 前記バンドパス・フィルターおよび前記ブロッキング・フィルターが、10マイクロメートル以下の合計の厚さを有している、請求項12に記載の光学フィルター。
- 前記透過波長が、前記光学フィルターの長さ寸法に沿って単調に可変である、請求項1に記載の光学フィルター。
- 前記透過波長が、前記長さ寸法に沿って対数的に可変である、請求項14に記載の光学フィルター。
- 請求項14に記載の前記光学フィルターと、
前記光学フィルターに連結されている光検出器のアレイであって、前記光検出器は、前記長さ寸法に沿って間隔を離して配置されており、それによって、前記アレイの異なる光検出器が、前記アレイの反対側から前記光学フィルターに衝突する光の異なる波長に応答する、光検出器のアレイと
を含む、波長選択型センサー。 - 前記アレイが、前記光学フィルターのための基板を含む、請求項16に記載の波長選択型センサー。
- 前記光検出器が、異なる高さを有しており、前記アレイが、前記光検出器の上方に配設される平坦化層をさらに含み、前記光学フィルターが、前記平坦化層によって支持されている、請求項17に記載の波長選択型センサー。
- 前記光検出器が、横方向に間隔を置いて配置されたギャップによって分離されており、前記アレイが、前記アレイの前記個別の光検出器の光学的な隔離のために、前記ギャップの中に配設される不透明な隔離材料をさらに含む、請求項17に記載の波長選択型センサー。
- 前記光学フィルターが、複数のスロットを含み、前記複数のスロットは、前記横方向に間隔を置いて配置されたギャップのうちの対応する1つの上方にそれぞれ配設されており、前記隔離材料が、前記アレイの前記個別の光検出器の追加的な光学的な隔離のために、前記スロットの中に配設されている、請求項19に記載の波長選択型センサー。
- 前記アレイが、反対向きの第1および第2の表面を有するデバイス・チップを含み、前記アレイの前記光検出器が、前記デバイス・チップの前記第1の表面内に配設されており、前記光学フィルターが、前記光検出器を覆って前記第1の表面の上に配設されている、請求項17に記載の波長選択型センサー。
- 前記アレイが、前記デバイス・チップの前記第2の表面に結合されているキャリアー・チップをさらに含む、請求項21に記載の波長選択型センサー。
- 前記アレイが、反対向きの第1および第2の表面を有するアレイ基板を含み、前記アレイの前記光検出器が、前記第1の表面内に配設されており、前記光学フィルターが、前記アレイ基板の前記第2の表面の上に配設されている、請求項17に記載の波長選択型センサー。
- 前記波長選択型センサーが、前記アレイの前記光検出器の光電信号を読み取るためのマルチプレクサー・チップをさらに含み、前記マルチプレクサー・チップは、前記アレイ基板の前記第1の表面にフリップ・チップ接合されている、請求項23に記載の波長選択型センサー。
- 請求項17に記載の波長選択型センサーを製造する方法であって、前記方法は、
(a)前記光検出器のアレイを提供するステップと、
(b)前記光学フィルターの前記バンドパス・フィルターおよびブロッキング・フィルターを形成するように、前記第1から第5の層を前記光検出器のアレイの上に蒸着させるステップと
を含む、波長選択型センサーを製造する方法。 - 請求項21に記載の波長選択型センサーを製造する方法であって、前記方法は、
(A)前記デバイス・チップを、
(i)第1および第2の反対向きの表面を有するデバイス・ウエハーを提供し、
(ii)前記第1の表面の方を向く前記アレイの前記光検出器を、前記デバイス・ウエハーの前記第2の表面内に形成させ、
(iii)前記アレイの前記光検出器を露出させるように、前記デバイス・ウエハーの前記第1の表面をポリッシングすることによって、
製造するステップと、
(B)前記光学フィルターの前記バンドパス・フィルターおよび前記ブロッキング・フィルターを形成するように、ステップ(iii)においてポリッシングされた前記デバイス・ウエハーの前記第1の表面の上に、前記第1から第5の層を蒸着させるステップと
を含む、波長選択型センサーを製造する方法。 - 波長選択型センサーを製造する方法であって、前記方法は、
(a)光検出器のアレイを提供するステップと、
(b)前記光検出器のアレイの上に、
第1および第2の材料をそれぞれ含む交互の第1および第2の層のスタックを含むバンドパス・フィルターであって、前記バンドパス・フィルターは、前記横方向に可変の透過波長を提供するために、横方向に変化する厚さを有している、バンドパス・フィルターと、
第3および第4の材料をそれぞれ含む交互の第3および第4の層のスタックを含むブロッキング・フィルターであって、前記ブロッキング・フィルターは、前記横方向に可変の透過波長よりも大きいかまたは小さい前記波長範囲の中の波長をブロックするために、前記第1および第2の誘電体層の前記横方向に変化する厚さと調和した横方向に変化する厚さを有している、ブロッキング・フィルターと
を蒸着させるステップと
を含み、
前記第1、第2、および第4の材料は、異なる材料をそれぞれ含み、前記第1の材料の屈折率が、前記第2の材料の屈折率よりも小さく、前記第2の材料の前記屈折率が、前記第4の材料の屈折率よりも小さく、前記第2の材料の吸収係数が、前記第4の材料の吸収係数よりも小さくなっている、波長選択型センサーを製造する方法。 - ステップ(a)が、
(i)第1および第2の反対向きの表面を有するデバイス・ウエハーを提供するステップと、
(ii)前記第1の表面を向く前記光検出器のアレイを、前記デバイス・ウエハーの前記第2の表面内に形成するステップと、
(iii)前記アレイの前記光検出器を露出させるように、前記デバイス・ウエハーの前記第1の表面をポリッシングするステップと
を含み、
ステップ(b)において、前記バンドパス・フィルターおよびブロッキング・フィルターが、ステップ(iii)においてポリッシングされた前記デバイス・ウエハーの前記第1の表面内に蒸着される、請求項27に記載の方法。
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