JP2016219812A5 - - Google Patents
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- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 27
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 1
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201161478117P | 2011-04-22 | 2011-04-22 | |
| US61/478,117 | 2011-04-22 | ||
| US201161533673P | 2011-09-12 | 2011-09-12 | |
| US61/533,673 | 2011-09-12 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014505664A Division JP5951753B2 (ja) | 2011-04-22 | 2012-04-23 | リソグラフィ機のクラスタのためのネットワークアーキテクチャおよびプロトコル |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016219812A JP2016219812A (ja) | 2016-12-22 |
| JP2016219812A5 true JP2016219812A5 (https=) | 2018-12-20 |
| JP6550623B2 JP6550623B2 (ja) | 2019-07-31 |
Family
ID=45998374
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014505664A Active JP5951753B2 (ja) | 2011-04-22 | 2012-04-23 | リソグラフィ機のクラスタのためのネットワークアーキテクチャおよびプロトコル |
| JP2014505667A Active JP6042410B2 (ja) | 2011-04-22 | 2012-04-23 | リソグラフィ機クラスタのためのネットワークアーキテクチャ |
| JP2016102480A Active JP6550623B2 (ja) | 2011-04-22 | 2016-05-23 | リソグラフィ機のクラスタのためのネットワークアーキテクチャおよびプロトコル |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014505664A Active JP5951753B2 (ja) | 2011-04-22 | 2012-04-23 | リソグラフィ機のクラスタのためのネットワークアーキテクチャおよびプロトコル |
| JP2014505667A Active JP6042410B2 (ja) | 2011-04-22 | 2012-04-23 | リソグラフィ機クラスタのためのネットワークアーキテクチャ |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US9244726B2 (https=) |
| EP (2) | EP2700081B1 (https=) |
| JP (3) | JP5951753B2 (https=) |
| KR (2) | KR101791252B1 (https=) |
| CN (2) | CN103649836B (https=) |
| RU (1) | RU2573398C2 (https=) |
| TW (2) | TWI526789B (https=) |
| WO (2) | WO2012143555A2 (https=) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6158091B2 (ja) * | 2010-12-14 | 2017-07-05 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | リソグラフィシステム及びこのようなリソグラフィシステムで基板を処理する方法 |
| US8893059B2 (en) | 2012-02-06 | 2014-11-18 | Kla-Tencor Corporation | Pattern data system for high-performance maskless electron beam lithography |
| JP2014204012A (ja) * | 2013-04-05 | 2014-10-27 | キヤノン株式会社 | 描画装置、及び物品の製造方法 |
| CN103389625A (zh) * | 2013-07-11 | 2013-11-13 | 浙江大学 | 一种应用于浸没式光刻机中浸液液体传送系统的通讯方法 |
| JP6312379B2 (ja) | 2013-07-19 | 2018-04-18 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、リソグラフィシステム、プログラム、物品の製造方法 |
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| JP6198805B2 (ja) * | 2015-02-16 | 2017-09-20 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、プログラム、リソグラフィシステムおよび物品製造方法 |
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| NL2019502B1 (en) | 2016-09-08 | 2018-08-31 | Mapper Lithography Ip Bv | Method and system for fabricating unique chips using a charged particle multi-beamlet lithography system |
| US10714427B2 (en) | 2016-09-08 | 2020-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Secure chips with serial numbers |
| US10418324B2 (en) | 2016-10-27 | 2019-09-17 | Asml Netherlands B.V. | Fabricating unique chips using a charged particle multi-beamlet lithography system |
| CN106647181B (zh) * | 2016-12-19 | 2018-03-09 | 电子科技大学 | 一种用于dmd无掩膜光刻机的高速图像曝光方法 |
| EP3514640B1 (de) | 2018-01-18 | 2023-05-17 | Gebr. Saacke GmbH & Co.KG | Vorrichtung und verfahren zur bereitstellung von maschinendaten |
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| WO2026074934A1 (ja) * | 2024-10-03 | 2026-04-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理装置の検査方法 |
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| US3157308A (en) | 1961-09-05 | 1964-11-17 | Clark Mfg Co J L | Canister type container and method of making the same |
| US3159408A (en) | 1961-10-05 | 1964-12-01 | Grace W R & Co | Chuck |
| US4524308A (en) | 1984-06-01 | 1985-06-18 | Sony Corporation | Circuits for accomplishing electron beam convergence in color cathode ray tubes |
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| AU6449994A (en) | 1993-04-30 | 1994-11-21 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Megavoltage scanning imager and method for its use |
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| KR101570974B1 (ko) | 2008-02-26 | 2015-11-23 | 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. | 투사 렌즈 배열체 |
| JP5408674B2 (ja) | 2008-02-26 | 2014-02-05 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | 投影レンズ構成体 |
| US8258484B2 (en) | 2008-04-15 | 2012-09-04 | Mapper Lithography Ip B.V. | Beamlet blanker arrangement |
| CN102105960B (zh) | 2008-05-23 | 2014-01-29 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 成像系统 |
| EP2297766B1 (en) | 2008-06-04 | 2016-09-07 | Mapper Lithography IP B.V. | Writing strategy |
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| CN102460631B (zh) | 2009-05-20 | 2015-03-25 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 两次扫描 |
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-
2012
- 2012-04-23 JP JP2014505664A patent/JP5951753B2/ja active Active
- 2012-04-23 EP EP12719948.7A patent/EP2700081B1/en active Active
- 2012-04-23 JP JP2014505667A patent/JP6042410B2/ja active Active
- 2012-04-23 EP EP12716017.4A patent/EP2699966B1/en active Active
- 2012-04-23 WO PCT/EP2012/057385 patent/WO2012143555A2/en not_active Ceased
- 2012-04-23 RU RU2013151876/07A patent/RU2573398C2/ru active
- 2012-04-23 CN CN201280030773.3A patent/CN103649836B/zh active Active
- 2012-04-23 TW TW101114467A patent/TWI526789B/zh active
- 2012-04-23 US US13/453,008 patent/US9244726B2/en active Active
- 2012-04-23 CN CN201610308354.1A patent/CN105974743B/zh active Active
- 2012-04-23 TW TW101114468A patent/TWI576670B/zh active
- 2012-04-23 KR KR1020137030924A patent/KR101791252B1/ko active Active
- 2012-04-23 KR KR1020177029925A patent/KR102072200B1/ko active Active
- 2012-04-23 US US13/452,990 patent/US9086912B2/en active Active
- 2012-04-23 WO PCT/EP2012/057366 patent/WO2012143548A2/en not_active Ceased
-
2015
- 2015-06-15 US US14/738,962 patent/US9507629B2/en active Active
-
2016
- 2016-05-23 JP JP2016102480A patent/JP6550623B2/ja active Active
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