JP2016204216A - ガスハイドレート製造装置、および、ガスハイドレート製造方法 - Google Patents
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図1は、ガスハイドレート製造装置100の概略的な構成を説明するための図である。図1に示すように、ガスハイドレート製造装置100は、ガス供給源110と、冷却部120と、補助剤供給部130と、ハイドレート生成部140と、分離部150と、分解部160と、吸収部170と、中央制御部180とを含んで構成される。本実施形態において、ガスハイドレート製造装置100は、ゲスト物質として二酸化炭素を包接したガスハイドレート(二酸化炭素ハイドレート)を製造する場合を例に挙げて説明する。
続いて、ガスハイドレート製造装置100を用いたガスハイドレート製造方法について説明する。図3は、ガスハイドレート製造方法の処理の流れを説明するフローチャートである。
110 ガス供給源
120 冷却部
140 ハイドレート生成部
142 気液混合部
150 分離部
160 分解部
170 吸収部
180 中央制御部(濃度調整部)
210 ボイラ
212 発電機
Claims (9)
- 原料水を冷却する冷却部と、
ガス供給源から供給された原料ガスと、冷却された前記原料水とを混合する気液混合部を少なくとも有し、該原料ガスのうち少なくとも一種類のガスをゲスト物質として包接したガスハイドレートを生成するハイドレート生成部と、
前記ハイドレート生成部において前記ガスハイドレートを生成した結果生じる、該ガスハイドレートと、未反応ガスと、前記原料水とを含む混合物から、該未反応ガスを分離する分離部と、
前記分離部によって分離された前記未反応ガスのうち、少なくとも前記ゲスト物質となるガスを水に吸収させてガス吸収水を生成する吸収部と、
を備え、
前記冷却部は、前記ガス吸収水を前記原料水として冷却することを特徴とするガスハイドレート製造装置。 - 前記分離部は、前記混合物から前記ガスハイドレートを分離し、
前記分離部によって分離された前記ガスハイドレートを、前記ゲスト物質と、水とに分解する分解部をさらに備え、
前記吸収部は、前記分解部によって生成された水に前記未反応ガスを吸収させてガス吸収水を生成することを特徴とする請求項1に記載のガスハイドレート製造装置。 - 前記分離部は、前記混合物から前記原料水を分離し、
前記吸収部は、前記分離部によって分離された前記原料水に前記未反応ガスを吸収させてガス吸収水を生成することを特徴とする請求項1または2に記載のガスハイドレート製造装置。 - 前記原料水には、臭化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、および、弗化テトラブチルアンモニウムで構成されるハロゲン化物のうち、1または複数のハロゲン化物で構成される補助剤が含まれることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記気液混合部に導入される前記原料水中の前記補助剤の濃度を、予め定められた濃度範囲に調整する濃度調整部を備えたことを特徴とする請求項4に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記ゲスト物質は、二酸化炭素であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記ガス供給源は、
液化天然ガスを燃焼させるボイラと、
前記ボイラで生じた燃焼排ガスが有する熱で発電する発電機と、
を備え、
前記気液混合部は、前記原料ガスとして前記燃焼排ガスを、前記原料水に混合することを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置。 - 前記冷却部は、前記液化天然ガスによって前記原料水を冷却することを特徴とする請求項7に記載のガスハイドレート製造装置。
- 原料水を冷却する工程と、
ガス供給源から供給された原料ガスと、冷却された前記原料水とを混合して、該原料ガスのうち少なくとも一種類のガスをゲスト物質として包接したガスハイドレートを生成する工程と、
前記ガスハイドレートを生成する工程において該ガスハイドレートを生成した結果生じる、該ガスハイドレートと、未反応ガスと、前記原料水とを含む混合物から、該未反応ガスを分離する工程と、
分離された前記未反応ガスのうち、少なくとも前記ゲスト物質となるガスを水に吸収させてガス吸収水を生成する工程と、
を含み、
前記原料水を冷却する工程において、前記ガス吸収水を前記原料水として冷却することを特徴とするガスハイドレート製造方法。
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