JP2016201540A5 - - Google Patents

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  1. コランダム構造を有する結晶性酸化物半導体を主成分として含む結晶性酸化物半導体膜であって、主面が、a面、m面またはr面であることを特徴とする結晶性酸化物半導体膜。
  2. 結晶性酸化物半導体が、ガリウムまたはインジウムを少なくとも含む請求項1記載の結晶性酸化物半導体膜。
  3. 結晶性酸化物半導体が、ガリウムを少なくとも含む請求項1または2に記載の結晶性酸化物半導体膜。
  4. ドーパントを含む請求項1〜3のいずれかに記載の結晶性酸化物半導体膜。
  5. ドーパントがスズまたはゲルマニウムである請求項4記載の結晶性酸化物半導体膜。
  6. 主面がa面またはm面である請求項1〜5のいずれかに記載の結晶性酸化物半導体膜。
  7. 主面がa面である請求項1〜6のいずれかに記載の結晶性酸化物半導体膜。
  8. 請求項1〜7のいずれかに記載の結晶性酸化物半導体膜と電極とを少なくとも含む半導体装置。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6945121B2 (ja) * 2015-09-30 2021-10-06 株式会社Flosfia 結晶性半導体膜および半導体装置
US11393906B2 (en) 2016-11-07 2022-07-19 Flosfia Inc. Crystalline oxide semiconductor film and semiconductor device
JP7166522B2 (ja) * 2017-08-21 2022-11-08 株式会社Flosfia 結晶膜の製造方法
JP2020011858A (ja) * 2018-07-17 2020-01-23 トヨタ自動車株式会社 成膜方法、及び、半導体装置の製造方法
JP7453607B2 (ja) 2019-03-29 2024-03-21 株式会社Flosfia サーミスタならびにその製品およびシステム
CN114269972A (zh) * 2019-09-02 2022-04-01 日本碍子株式会社 半导体膜

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4083396B2 (ja) * 2000-07-10 2008-04-30 独立行政法人科学技術振興機構 紫外透明導電膜とその製造方法
US20120045661A1 (en) * 2010-08-19 2012-02-23 Raveen Kumaran Rare-earth-doped aluminum-gallium-oxide films in the corundum-phase and related methods
JP2013038394A (ja) * 2011-07-14 2013-02-21 Rohm Co Ltd 半導体レーザ素子
JP5793732B2 (ja) * 2011-07-27 2015-10-14 高知県公立大学法人 ドーパントを添加した結晶性の高い導電性α型酸化ガリウム薄膜およびその生成方法
JP5948581B2 (ja) * 2011-09-08 2016-07-06 株式会社Flosfia Ga2O3系半導体素子
US20140217470A1 (en) * 2011-09-08 2014-08-07 Tamura Corporation Ga2O3 SEMICONDUCTOR ELEMENT
JP5343224B1 (ja) * 2012-09-28 2013-11-13 Roca株式会社 半導体装置および結晶
JP5397794B1 (ja) * 2013-06-04 2014-01-22 Roca株式会社 酸化物結晶薄膜の製造方法
JP5528612B1 (ja) * 2013-07-09 2014-06-25 Roca株式会社 半導体装置
JP6152514B2 (ja) * 2013-10-17 2017-06-28 株式会社Flosfia 半導体装置及びその製造方法、並びに結晶及びその製造方法

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