JP2016125072A - 金属製品の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】微細パターンを有する金属製品を高品質および高効率で製造する。【解決手段】金属製品の製造方法は、所定のパターンを有する金属製品の製造方法であって、複数の上記所定のパターンに対応する凹凸が形成された原盤を形成する工程と、上記原盤の凹凸を用いて複数の上記所定のパターンが設けられた金属製の板状部材を形成する工程と、上記金属製の板状部材の両面にフォトリソグラフィーを用いてマスクパターンを形成し、上記マスクパターンを用いてエッチングを施して個片化することにより、個々の金属製品を形成する工程とを備える。【選択図】図1

Description

本発明は、金属製品の製造方法に関する。
特開2013−60650号公報(特許文献1)には、電鋳法によって形成された電鋳物からモールドを切り取る切取方法としてウエットエッチングを用いることが示されている。
特開平11−326376号公報(特許文献2)には、電鋳法によって微細構造物を形成することが示されている。
特開2013−60650号公報 特開平11−326376号公報
微細パターンを有する金属製品を製造するにあたり、変形や精度低下、表面の汚れを抑制することが求められる。他方で、このような金属製品を効率よく製作することが求められる。
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、微細パターンを有する金属製品を高品質および高効率で製造する方法を提供することにある。
本発明に係る金属製品の製造方法は、所定のパターンを有する金属製品の製造方法であって、複数の上記所定のパターンに対応する凹凸が形成された原盤を形成する工程と、上記原盤の凹凸を用いて複数の上記所定のパターンが設けられた金属製の板状部材を形成する工程と、上記金属製の板状部材の両面にフォトリソグラフィーを用いてマスクパターンを形成し、上記マスクパターンを用いてエッチングを施して個片化することにより、個々の金属製品を形成する工程とを備える。
1つの実施態様では、上記金属製品の製造方法において、上記金属製の板状部材を形成する工程は、電鋳法によって上記原盤の凹凸が転写された型部材を形成することと、上記原盤の凹凸が転写された上記型部材を用いて複数の上記所定のパターンが設けられた金属製の板状部材を形成することとを含む。
1つの実施態様では、上記金属製品の製造方法において、上記エッチングはウエットエッチングである。
1つの実施態様では、上記金属製品の製造方法において、上記板状部材は、上記所定のパターンが形成される比較的硬度の高い第1層と、比較的硬度の低い第2層とを有する。
1つの実施態様では、上記金属製品の製造方法において、上記原盤の凹凸は超精密加工により形成される。
本発明によれば、微細パターンを有する金属製品を高品質および高効率で製造することができる。
本発明の1つの実施の形態に係る金属製品の製造方法の各工程を示すフロー図である。 図1に示す金属製品の製造方法における原盤を示す図である。 図1に示す金属製品の製造方法における型部材の製作工程を示す図である。 図1に示す金属製品の製造方法における型部材を示す図である。 図1に示す金属製品の製造方法における電鋳品の製作工程を示す図である。 図1に示す金属製品の製造方法における型部材およびその上に形成された電鋳品を示す図である。 図1に示す金属製品の製造方法における個片化の工程を示す図(その1)である。 図1に示す金属製品の製造方法における個片化の工程を示す図(その2)である。 図7,図8に示す個片化の工程によって形成された切断部分の拡大断面図である。
以下に、本発明の実施の形態について説明する。なお、同一または相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。
なお、以下に説明する実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。また、以下の実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。
図1は、本実施の形態に係る金属製品の製造方法の各工程を示すフロー図である。本実施の形態に係る金属製品の製造方法は、所定のパターンを有する金属製品の製造方法である。ここで、「所定のパターン」とは、典型的には「微細パターン」を意味する。「微細パターン」とは、典型的には、パターンの幅が1μm以上500μm以下程度、パターンのピッチが10μm以上1mm以下程度、パターンの深さが1μm以上500μm以下程度のパターンを意味する。また、本実施の形態に係る金属製品の厚みは、典型的には1mm以下程度である。微細パターンの形状としては、たとえば、角錐(三角錐、四角錐など)、円錐、角錐台、円錐台、回転楕円体(真球を含む)の一部分、柱状体などが考えられる。本実施の形態に係る金属製品は、特定の用途に限定されるものではなく、光エレクトロニクス、半導体、自動車、医療、バイオなど、あらゆる分野における機能性金属部品に適用可能なものである。より具体的には、たとえば、スタンパ、コネクタの接触子、微小部分の硬度を測定するための圧子の先端部、コンタクトプローブの先端部などに金属製品は用いられる。
金属製品の用途としては、微細パターンの形状に関連づけて、たとえば次のものが挙げられる。微細パターンの形状が円錐、角錐の金属製品は次の用途に使用できる。第1に、微小な信号を印加または検出するためのコンタクトプローブとして使用できる。これらの形状は、電極表面に形成され得る絶縁層(酸化シリコンなど)を突き破って確実に微小な信号を印加または検出する際に有用である。第2に、生物(ヒトを含む)から体液を採取したり生物に薬液などを供給したりするための穿刺器具の一部として使用できる。第3に、微小部分の硬度を測定するための圧子の先端部として使用できる。微細パターンの形状が円錐台、角錐台、柱状体のものは、高電圧を印加したり大電流を供給したりして電気的な検査を行うためのコンタクトプローブとして使用できる。これらの形状は、先端面によって大面積で電極に接触するので、電気的な検査を行う際に低い接触抵抗を可能にする。
図1に示すように、本実施の形態に係る金属製品の製造方法は、複数(N個)の上記所定のパターンに対応する凹凸が形成された「原盤」を形成する工程(S10)と、電鋳法によって上記原盤の凹凸が転写された「型部材」を形成する工程(S21)と、「原盤」の凹凸が転写された「型部材」を用いて複数(N個)の上記所定のパターンが設けられた「金属製の板状部材」としての「電鋳品」を形成する工程(S22)と、「電鋳品」の両面にフォトリソグラフィーを用いてマスクパターンを形成し、上記マスクパターンを用いてエッチングを施して個片化することにより、個々の金属製品を形成する工程(S30)と、金属製品を洗浄、検査する工程(S40)とを備える。本明細書では、「型部材」を形成する工程(S21)と「電鋳品」を形成する工程(S22)とを総称して「電鋳品」を形成する工程(S20)と称する場合がある。
たとえば、原盤に凸パターンを形成した場合、型部材に転写されたパターンは凹パターンとなり(反転)、電鋳品に形成されたパターンは原盤と同じ凸パターンとなる。このように、1回の反転を介して電鋳品に凹凸パターンを形成してもよいが、2回以上の反転を介して電鋳品に凹凸パターンを形成してもよい。
上記金属製品の製造方法において、「型部材」を介さず、「原盤」を用いて直接「電鋳品」を形成してもよい。この場合、たとえば「原盤」に凹パターンを形成すれば、その凹パターンに対応した凸パターンを有する「電鋳品」が形成される。
図2は、原盤を示す図である。S10において、原盤10の凹凸パターン10Aは、たとえば公知の超精密加工により形成される。原盤10の材料としては、たとえばステンレスなどの金属、樹脂、シリコン、レジスト材などが用いられる。
図3は、型部材の製作工程を示す図であり、図4は、製作された型部材を示す図である。S21において、型部材21は、たとえば公知の精密電鋳法により形成される。型部材21に形成された凹凸パターン21Aは、原盤10に形成されたものが精確に転写されたものである。型部材21の材料としては、ニッケル、ニッケル合金、銅などが用いられる。硬度などの機械的特性は適宜調整される。
上述のとおり、原盤10は超精密加工等により形成され、その製作には長い時間を要する。電鋳法によって型部材21を形成することにより、原盤10の凹凸パターン10Aが精確に転写された型部材を短時間で複数形成することが可能となる。この結果、金属製品の製造のリードタイムを短縮できる。
図5は、電鋳品の製作工程を示す図である。図6は、型部材およびその上に形成された電鋳品を示す図である。S22において、電鋳品22は、型部材21,21Bを用いた電鋳法により形成される。電鋳品22の材料としては、ニッケル、コバルト−ニッケル合金、リン合金などが用いられる。
次に、図7,図8を用いて、本実施の形態における電鋳品22の個片化工程について説明する。
図7に示すように、電鋳品22の両面にレジストパターンRを形成する。レジストパターンRは、フォトリソグラフィーを用いて形成される。フォトリソグラフィーに用いるマスクとしては、ガラスマスクまたはフィルムマスクなどが用いられる。レジストパターンRとしては、フィルムレジストまたは液状レジストなどが用いられる。ポジ型とするかネガ型とするかは適宜選択される。個片化の際の切断部に対するレジストパターンRの開口部の幅(W)は、たとえば0.1mm以上程度である。
電鋳品22は、比較的硬度の高い第1層22A(たとえばビッカース硬度:HV600)と、比較的硬度の低い第2層22B(たとえばビッカース硬度:HV300)とを含む。微細パターン22Cは、第1層22A上に形成されている。
図7に示す電鋳品22をエッチング液に浸すことにより(ウエットエッチング)、図8に示すように、両面ともにレジストパターンRが形成されていない切断部31において電鋳品22が切断されて、個片化された金属製品30が形成される。エッチング液としては、金属を溶融する液(たとえば塩化第二鉄溶液など)が用いられる。
図9は、切断部31の拡大断面図である。図9に示すように、切断部31においては、電鋳品22の両面にレジストパターンRが形成されていないため(図7参照)、電鋳品22をエッチング液に浸すことにより、両側から電鋳品22が溶かされ、金属製品の両面側に凹部32が形成されている。
金属製品30の個片化工程にウエットエッチングを用いることにより、個片化工程において金属製品30に歪みなどの変形が生じにくい。また、図7に示すように、微細パターン22C上にレジストパターンRを形成した状態でフォトリソグラフィーおよびウエットエッチングを行なっているため、微細パターン22Cを変形や汚れ等から確実に守ることが可能である。
本実施の形態に係る金属製品の製造方法は、「超精密微細加工(原盤)」+「精密電鋳法(型部材)」+「ウエットエッチング(個片化)」の3工程を組み合わせた点を1つの特徴とするものである。超精密微細加工により、寸法精度および位置精度の高い微細パターンの加工が可能となる。精密電鋳法により、効率的な量産加工が可能となる。ウエットエッチングにより、金属製品の歪みが抑制された個片化処理を短時間で行なうことができる。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
10 原盤、10A 凹凸パターン、21 型部材、21A 凹凸パターン、21B 型部材、22 電鋳品、22A 第1層、22B 第2層、22C 微細パターン、30 金属製品、31 切断部、32 凹部、R レジストパターン。

Claims (5)

  1. 所定のパターンを有する金属製品の製造方法であって、
    複数の前記所定のパターンに対応する凹凸が形成された原盤を形成する工程と、
    前記原盤の凹凸を用いて複数の前記所定のパターンが設けられた金属製の板状部材を形成する工程と、
    前記金属製の板状部材の両面にフォトリソグラフィーを用いてマスクパターンを形成し、前記マスクパターンを用いてエッチングを施して個片化することにより、個々の金属製品を形成する工程とを備えた、金属製品の製造方法。
  2. 前記金属製の板状部材を形成する工程は、
    電鋳法によって前記原盤の凹凸が転写された型部材を形成することと、
    前記原盤の凹凸が転写された前記型部材を用いて複数の前記所定のパターンが設けられた金属製の板状部材を形成することとを含む、請求項1に記載の金属製品の製造方法。
  3. 前記エッチングはウエットエッチングである、請求項1または請求項2に記載の金属製品の製造方法。
  4. 前記板状部材は、前記所定のパターンが形成される比較的硬度の高い第1層と、比較的硬度の低い第2層とを有する、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の金属製品の製造方法。
  5. 前記原盤の凹凸は超精密加工により形成される、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の金属製品の製造方法。
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