JP2016103496A5 - - Google Patents
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Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014239439A JP2016103496A (ja) | 2014-11-27 | 2014-11-27 | プラズマ処理装置 |
| KR1020150105988A KR102044768B1 (ko) | 2014-11-27 | 2015-07-27 | 플라즈마 처리 장치 |
| TW104126395A TW201619724A (zh) | 2014-11-27 | 2015-08-13 | 電漿處理裝置 |
| US14/834,389 US10184182B2 (en) | 2014-11-27 | 2015-08-24 | Plasma processing apparatus |
| KR1020170078360A KR102082199B1 (ko) | 2014-11-27 | 2017-06-21 | 플라즈마 처리 장치 |
| US16/207,434 US11643727B2 (en) | 2014-11-27 | 2018-12-03 | Plasma processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014239439A JP2016103496A (ja) | 2014-11-27 | 2014-11-27 | プラズマ処理装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019007455A Division JP6623315B2 (ja) | 2019-01-21 | 2019-01-21 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016103496A JP2016103496A (ja) | 2016-06-02 |
| JP2016103496A5 true JP2016103496A5 (enExample) | 2016-12-08 |
Family
ID=56079611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014239439A Pending JP2016103496A (ja) | 2014-11-27 | 2014-11-27 | プラズマ処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US10184182B2 (enExample) |
| JP (1) | JP2016103496A (enExample) |
| KR (2) | KR102044768B1 (enExample) |
| TW (1) | TW201619724A (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7080065B2 (ja) * | 2018-02-08 | 2022-06-03 | 株式会社Screenホールディングス | データ処理方法、データ処理装置、データ処理システム、およびデータ処理プログラム |
| CN112585727B (zh) * | 2019-07-30 | 2023-09-29 | 株式会社日立高新技术 | 装置诊断装置、等离子体处理装置以及装置诊断方法 |
| JP7013618B2 (ja) * | 2020-02-03 | 2022-01-31 | 株式会社日立ハイテク | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3708031B2 (ja) * | 2001-06-29 | 2005-10-19 | 株式会社日立製作所 | プラズマ処理装置および処理方法 |
| JP2005038976A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 最適エッチングパラメタ自動設定システムおよびエッチング出来ばえ評価システム |
| JP4490704B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2010-06-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理方法 |
| JP5220447B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2013-06-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システムの洗浄方法、記憶媒体及び基板処理システム |
| JP2010219198A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置 |
| JP5279627B2 (ja) | 2009-06-18 | 2013-09-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP5334787B2 (ja) * | 2009-10-09 | 2013-11-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
| JP5530794B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2014-06-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置及びプラズマ処理方法 |
| JP5712741B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2015-05-07 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 |
| JP5813389B2 (ja) * | 2011-06-24 | 2015-11-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理時間設定方法及び記憶媒体 |
| JP5779482B2 (ja) * | 2011-11-15 | 2015-09-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| JP5753866B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2015-07-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理方法 |
-
2014
- 2014-11-27 JP JP2014239439A patent/JP2016103496A/ja active Pending
-
2015
- 2015-07-27 KR KR1020150105988A patent/KR102044768B1/ko active Active
- 2015-08-13 TW TW104126395A patent/TW201619724A/zh unknown
- 2015-08-24 US US14/834,389 patent/US10184182B2/en active Active
-
2017
- 2017-06-21 KR KR1020170078360A patent/KR102082199B1/ko active Active
-
2018
- 2018-12-03 US US16/207,434 patent/US11643727B2/en active Active
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