JP2016079244A

JP2016079244A - 発光体及びその製造方法

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Publication number: JP2016079244A
Application number: JP2014209995A
Authority: JP
Inventors: 正郎鈴木; Masaro Suzuki
Original assignee: LUMINESSUS Inc; NIC KK
Current assignee: LUMINESSUS Inc; NIC KK
Priority date: 2014-10-14
Filing date: 2014-10-14
Publication date: 2016-05-16
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Abstract

【課題】耐薬品性に優れた発光体及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る発光体は、蛍光体粒子と、前記蛍光体粒子の表面を被覆するアモルファスシリカとを有する。本発明に係る発光体は、（ａ）蛍光体粒子の表面に、縮合リン酸塩を沈積させた縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を得る工程と、（ｂ）前記縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子の表面に、アモルファスシリカを沈積させる工程とを有する方法により、好適に製造することができる。【選択図】なし

Description

本発明は、耐薬品性に優れた発光体及びその製造方法に関する。

光エネルギーを吸収して蛍光を発する蛍光体が知られている。蛍光体は、外部から電力が供給されなくても発光するため、例えば、夜間の安全標識や、衣服、装飾品等に多く用いられている。蛍光体の用途は、その他、多岐にわたる。

しかしながら、従来の蛍光体は、耐水性、耐熱性、加工の容易性等の点で課題を有している。すなわち、蛍光体は、一般に、水に弱い。蛍光体は、水分に晒されると、加水分解して特性が劣化する。また、蛍光体は、高温で加熱されると、輝度が著しく低下する。したがって、例えば、蛍光体を高温の樹脂に混ぜて成形品を製造することは困難である。さらに、蛍光体は、表面に多数の凹凸があるため抵抗が大きく、塗装材として利用することが難しい。

特許文献１には、屈折率が１．４３５以上である薄膜シリカで被覆（第一被覆）され、さらにポリシラザン由来の屈折率が１．４５以上のシリカ膜で被覆（第二被覆）された発光体粒子が記載されている。このような構成によれば、発光体粒子の耐湿性が向上するとされている。

特開２００３−２６１８６９号公報

しかし、特許文献１に記載された発光体粒子は、シリカからなる二重の被覆構造を有しているため、その製造は工業的に必ずしも適していなかった。また、単一の被覆構造では、十分な耐水性を実現することは難しく、さらに耐薬品性も十分ではなかった。

そこで、本発明は、耐薬品性に優れた発光体及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、（ａ）蛍光体粒子の表面に、縮合リン酸塩を沈積させた縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を得る工程と、
（ｂ）前記縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子の表面に、アモルファスシリカを沈積させる工程と
を有する発光体の製造方法、及びその製造方法により得られる発光体である。

本発明は、蛍光体粒子と、前記蛍光体粒子の表面を被覆するアモルファスシリカとを有する発光体である。

本発明によれば、耐薬品性に優れた発光体を提供できる。

＜発光体＞
本発明に係る発光体は、蛍光体粒子の表面がアモルファスシリカで被覆された構造を有する。換言すれば、本発明に係る発光体は、アモルファスシリカでマイクロカプセル化された蛍光体粒子である。本発明に係る発光体において、蛍光体粒子の表面全面が、アモルファスシリカで被覆されていることが好ましいが、蛍光体粒子の表面の一部が、アモルファスシリカで被覆されてなくても構わない。本発明に係る発光体において、アモルファスシリカは最外層を形成していることが好ましい。

蛍光体粒子の表面をアモルファスシリカで被覆することで、耐薬品性（耐酸性、耐アルカリ性）に優れた発光体となる。耐水性、耐熱性、及び耐候性も向上する。さらに、アモルファスシリカによる被覆により蛍光体粒子表面の凹凸が減少するので、粘性抵抗が下がり、取扱い性が良好になる。例えば、粘性抵抗が低い発光体を塗装材として用いることで、塗装材の伸びが良く、使い勝手が向上する。また、表面の凹凸が少ない発光体を成形機に充填して成形処理を行うことで、成形機が発光体により摩耗したり損傷したりする事態を回避できる。

蛍光体粒子としては、例えば、ストロンチウムを含む蓄光顔料（自発光性顔料）を用いることができる。ストロンチウムを含む蓄光顔料としては、アルミン酸ストロンチウムを主成分としてユーロピウムやジスプロシウム等の賦活剤を添加したものが挙げられ、その具体例としては、ＳｒＡｌ_２Ｏ_４：Ｅｕ，Ｄｙ、Ｓｒ_４Ａｌ_１４Ｏ_２５：Ｅｕ，Ｄｙ等が挙げられる。

蛍光体粒子の粒径は、目的に応じて適宜設定されるが、例えば、粒径が２〜１００μｍの範囲に揃えられた蛍光体粒子を用いることができ、また１５〜５０μｍ、１５〜２５μｍ、２５〜３５μｍ、又は３５〜５０μｍの範囲に揃えられた蛍光体粒子を用いることもできる。なお、「粒径が…揃えられた」とは、分級により粒径が当該範囲の蛍光体粒子のみになっている状態が好ましいが、粒径が当該範囲外の蛍光体粒子を少量含んでいてもよく、例えば、９５個数％以上の蛍光体粒子の粒径が当該範囲内に入っていればよい。

このように蛍光体粒子の粒径を所定範囲に揃えることで、高輝度を実現することができる。すなわち、粒径の小さい不純物や蛍光体粒子を殆ど含まないので、蛍光体から放出される光が乱反射される確率が低く、その結果として高輝度を有するようになる。また、粒径が大きいほど蛍光体粒子に蓄積される光エネルギーの量が多くなるため発光時間が長くなるが、発光体がざらつくため取扱いが不便になる。したがって、蛍光体粒子は、粒形が２〜１００μｍの範囲に揃えられていることが好適である。

蛍光体粒子の表面は、表面処理されていなくても構わないが、表面処理さえていることが好ましい。表面処理された蛍光体粒子を用いることで、アモルファスシリカとの固着がより強固なものとなり、かつ諸耐性がさらに改良される。表面処理剤としては、例えば、縮合リン酸塩を用いることができる。縮合リン酸塩を用いた表面処理の方法については、後述する。

蛍光体粒子の表面を被覆しているアモルファスシリカの膜厚は、目的とする耐水性、耐熱性、及び取扱い性に応じて適宜設定すればよいが、その平均膜厚は、５０〜５０００Åであることが好ましく、１００〜１０００Åであることがより好ましく、２００〜５０００Åであることがさらに好ましい。アモルファスシリカの平均膜厚を厚くすると、蛍光体粒子がアモルファスシリカにより十分に被覆されるため、発光体の耐薬品性等の諸耐性がより向上する。一方、アモルファスシリカの平均膜厚を薄くすると、蛍光体粒子が外光を吸収し易く、蛍光体粒子からの光がアモルファスシリカの被膜を通して外部に放出され易くなるため、発光体の輝度が向上する。なお、蛍光体粒子の表面を被覆しているアモルファスシリカの平均膜厚は、得られた発光体の粒径と、用いた蛍光体粒子の粒径とから算出することができる。

アモルファスシリカの含有率は、１〜２５重量％であることが好ましく、５〜１５重量％とすることがより好ましく、７〜１０重量％とすることがさらに好ましく、例えば８重量％とすることができる。アモルファスシリカの含有率を高くすると、蛍光体粒子がアモルファスシリカにより十分に被覆されるため、発光体の耐薬品性等の諸耐性がより向上する。一方、アモルファスシリカの含有率を低くすると、蛍光体粒子が外光を吸収し易く、蛍光体粒子からの光がアモルファスシリカの被膜を通して外部に放出され易くなるため、発光体の輝度が向上する。なお、アモルファスシリカの含有率は、得られた重量と、用いた蛍光体粒子の重量とから算出することができる。

本発明に係る発光体は、塗料、プラスチック、合成ゴム、建築用材料等へ配合して用いられる。

＜発光体の製造方法＞
上記の発光体は、蛍光体粒子の表面に正珪酸を高温下で沈積させることで製造することができる。正珪酸を得る方法としては、例えば以下のような方法が挙げられる。
（１）珪酸ナトリウム及び酸を加える
（２）正珪酸エチルを加水分解する。
（３）珪酸ナトリウムを陽イオン交換樹脂で処理する。
（４）ガラスと水酸化ナトリウムをオートクレーブ中で反応させる。

（２）の方法では、加水分解で生成するエチルアルコールが気化するため、それを捕集装置が必要になる。（３）の方法では、生成した正珪酸が分解しやすく、蛍光体粒子の表面に沈積させるのが難しい。また、陽イオン交換樹脂の性能が低下しやすく、再生も難しい。（４）の方法では、オートクレーブを用いる必要があるので、工業的生産には適していない。

以上のことから、本発明では、（１）の方法により蛍光体粒子の表面に正珪酸を沈積させることが好ましい。その際に、蛍光体粒子とアモルファスシリカを強固に固着させ、かつ諸耐性をさらに改良するために、あらかじめ蛍光体粒子の表面に縮合リン酸金属塩を沈積させることが好ましい。以下、その方法を詳細に説明する。

まず、蛍光体粒子の表面に、縮合リン酸塩を沈積させた縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を得る（工程（ａ））。すなわち、蛍光体粒子の表面を、縮合リン酸塩で表面処理する。蛍光体粒子としては、前述したものを用いることができる。

縮合リン酸塩としては、トリポリリン酸マグネシウム、トリポリリン酸カルシウム、トリポリリン酸ストロンチウム、トリポリリン酸バリウム、トリポリリン酸アルミニウム、トリポリリン酸亜鉛、トリポリリン酸セリウム等のトリポリリン酸塩；テトラポリリン酸マグネシウム、テトラポリリン酸カルシウム、テトラポリリン酸ストロンチウム、テトラポリリン酸バリウム、テトラポリリン酸アルミニウム、テトラポリリン酸亜鉛、テトラポリリン酸セリウム等のテトラポリリン酸塩が挙げられる。

蛍光体粒子の表面に縮合リン酸塩を沈積させる方法としては、例えば、蛍光体粒子を水中に分散させたスラリー（Ｓ１）を得た（工程（ａ−１））後、スラリー（Ｓ１）に縮合リン酸ナトリウム及び金属塩を加える（工程（ａ−２））方法が挙げられる。すなわち、蛍光体粒子が存在するスラリー（Ｓ１）中で、縮合リン酸ナトリウムから提供された縮合リン酸イオンと、金属塩から提供された金属イオンにより、縮合リン酸塩を形成させる。

縮合リン酸ナトリウムとしては、蛍光体粒子の表面に沈積させる縮合リン酸塩に対応する縮合リン酸のナトリウムを用いればよく、トリポリリン酸塩を沈積させる場合はトリポリリン酸ナトリウムを用い、テトラポリリン酸塩を沈積させる場合はテトラポリリン酸ナトリウムを用いればよい。金属塩としては、蛍光体粒子の表面に沈積させる縮合リン酸塩に対応する金属（マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、セリウムなど）の塩を用いればよい。金属塩の種類としては、塩化物、硝酸塩、硫酸塩などが挙げられる。

工程（ａ−２）により得られた固体をろ過して乾燥することで、縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を得ることができる。このとき、得られた固体を、その電導度が４５０μＳ以下になるまで水洗する（工程（ａ−３））ことが好ましい。こうすることで、後述する工程（ｂ−２）において、アルカリ金属イオン濃度を低く抑えることができる。

蛍光体粒子の表面に沈積させる縮合リン酸塩の量は、蛍光体粒子に対して０．２〜１５．０重量％とすることが好ましい。縮合リン酸塩の量を多くすれば、蛍光体粒子とアモルファスシリカの固着がより強固なものとなり、かつ諸耐性がさらに改良される。ただし、縮合リン酸塩を必要以上に多くしても、その効果は頭打ちとなる。蛍光体粒子の表面に沈積させる縮合リン酸塩の量は、蛍光体粒子に対して０．５〜１０．０重量％とすることがより好ましく、１．０〜６．０重量％とすることがさらに好ましく、２．０〜４．０重量％とすることが特に好ましい。

次いで、得られた縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子の表面に、アモルファスシリカを沈積させる（工程（ｂ））。この方法としては、縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を水中に分散させたスラリー（Ｓ２）を得た（工程（ｂ−１））後、スラリー（Ｓ２）に珪酸ナトリウム及び酸を加える（工程（ｂ−２））方法が挙げられる。こうすることで、本発明に係る発光体を得ることができる。

工程（ｂ−１）において、分散剤として珪酸ナトリウム又はヘキサメタリン酸ナトリウムを用いることが好ましい。こうすることで、縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子が一次粒子として水中に分散しやすくなる。そして、縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子が一次粒子に分散されているほど、アモルファスシリカは被覆されやすくなる。すなわち、二次凝集塊にアモルファスシリカを形成すると、乾燥・粉砕する際や樹脂へ分散する際に凝集塊が壊れ、アモルファスシリカが被覆されていない面が露出しやすくなる。分散剤の使用量は、縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子１００重量部に対して１〜１０重量部とすることが好ましく、２〜７重量部とすることがより好ましく、３〜５重量部とすることがさらに好ましい。

工程（ｂ−２）で添加する酸としては、硫酸、塩酸、硝酸、硝酸アンモニウムなどが挙げられる。ただし、揮発性のある酸を用いる場合は、良好な作業環境を確保するために捕集装置等が必要になることから、不揮発性の酸を用いることが好ましく、硫酸を用いることがより好ましい。

工程（ｂ−２）を行う際に、スラリー（Ｓ２）の温度を６０℃以上に保つことが好ましい。スラリー（Ｓ２）の温度を高く保つことで、アモルファスシリカの形成が速くなる。スラリー（Ｓ２）の温度は、８０℃以上に保たれることが好ましく、８５℃以上に保たれることがより好ましく、９０℃以上に保たれることがさらに好ましく、９５℃以上に保たれることが特に好ましい。工程（ｂ−２）を行う際のスラリー（Ｓ２）の温度は、通常は１００℃以下となるが、１００℃未満でもよい。

工程（ｂ−２）を行う際に、スラリー（Ｓ２）のｐＨを６以上に保つことが好ましい。スラリー（Ｓ２）のｐＨを高く保つことで、多孔質ゲル状のシリカが析出しにくくなる。スラリー（Ｓ２）のｐＨは、８以上に保たれることが好ましく、９．０以上に保たれることがより好ましく、９．５以上に保たれることがさらに好ましく、１０以上に保たれることが特に好ましい。工程（ｂ−２）を行う際のスラリー（Ｓ２）のｐＨは、通常は１１以下となる。

工程（ｂ−２）を行う際に、アルカリ金属イオン濃度を１．０Ｎ（規定）以下とすることが好ましい。こうすることで、凝集塊が生じることを抑えることができる。アルカリ金属イオン濃度は、０．１Ｎ（規定）以下とすることがより好ましく、０．０３Ｎ（規定）以下とすることがさらに好ましく、０．０２Ｎ（規定）以下とすることが特に好ましい。工程（ｂ−２）を行う際のアルカリ金属イオン濃度は、低い方が好ましいが、例えば０．００１Ｎ（規定）以上でもよい。

以上のような方法により、蛍光体粒子の表面がアモルファスシリカで被覆された発光体を製造することができる。

以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。なお、以下の説明において、「部」は「重量部」を表し、「％」は「重量％」を表す。

＜実施例１＞
蓄光顔料（株式会社菱晃製、商品名：クライトブライト、組成式：Ｓｒ_４Ａｌ_１４Ｏ_２５：Ｅｕ，Ｄｙ、粒径：２〜１００μｍ）１００部を水２５００部に加えて撹拌しながら、６０℃まで加熱した。得られたスラリーに、トリポリリン酸ナトリウム２．０部（Ｐ_２Ｏ_５として５６．５〜５８．０％）を水１００部に溶解したものを約１５分間かけて添加した。１５分間撹拌した後、得られたスラリーに、塩化バリウム（ＢａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ）４．０部を水１００部に溶解したものを約１５分間かけて添加した。１５分間撹拌した後、スラリーのｐＨを７．０に調整し、電導度が４５０μＳ以下となるまで水洗しながらろ過した。得られた固体を乾燥し、粉砕することで、蓄光顔料の表面にトリポリリン酸バリウムを沈積させた。蓄光顔料の表面に沈積させたトリポリリン酸バリウムの量は、蓄光顔料に対して３．２％であった。

表面処理蓄光顔料１００部を水１６００部に加えて撹拌し、６０℃まで加熱した。得られたスラリーに、珪酸ナトリウム（ＳｉＯ_２：２８．５％、Ｎａ_２Ｏ：１０％）３．５部を水２０部に溶解したものを添加し、さらに撹拌しながら９０℃まで加熱した。このときのスラリーのｐＨは、９．０〜１０．０であった。

次に、珪酸ナトリウム（ＳｉＯ_２：２８．５％、Ｎａ_２Ｏ：１０％）２７部を水１２０部に溶解させたものと、９８％硫酸４３部を水１２０部に溶解させたものを、上記のスラリーに１０部／１０分の速度で同時に添加した（添加時間は約１２０分間）。なお、添加中のスラリーの温度は９５℃以上に保ち、ｐＨは９．０以下とならないように注意した。添加終了３０分経過後、９８％硫酸によりスラリーのｐＨを６．０まで中和し、さらに３０分間撹拌した後、水洗しながらろ過した。得られた固体を乾燥し、粉砕することで、アモルファスシリカでマイクロカプセル化されたアモルファスシリカ被覆蓄光顔料のサンプル１を得た。サンプル１におけるアモルファスシリカの含有率は８．０％であり、アモルファスシリカの平均膜厚は３００Åであった。

＜実施例２＞
塩化バリウム（ＢａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ）４．０部の代わりに塩化亜鉛（ＺｎＣｌ_２）２．３部を用いて、蓄光顔料の表面にトリポリリン酸亜鉛を沈積させたこと以外は、実施例１と同様の方法で、アモルファスシリカ被覆蓄光顔料のサンプル２を得た。なお、蓄光顔料の表面に沈積させたトリポリリン酸亜鉛の量は、蓄光顔料に対して２．２％であった。また、サンプル２におけるアモルファスシリカの含有率は８．０％であり、アモルファスシリカの平均膜厚は３００Åであった。

＜実施例３＞
塩化バリウム（ＢａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ）４．０部の代わりに硝酸セリウム（Ｃｅ（ＮＯ_３）_３・６Ｈ_２Ｏ）４．７部を用いて、蓄光顔料の表面にトリポリリン酸セリウムを沈積させたこと以外は、実施例１と同様の方法で、アモルファスシリカ被覆蓄光顔料のサンプル３を得た。なお、蓄光顔料の表面に沈積させたトリポリリン酸セリウムの量は、蓄光顔料に対して２．６％であった。また、サンプル３におけるアモルファスシリカの含有率は８．０％であり、アモルファスシリカの平均膜厚は３００Åであった。

＜実施例４＞
トリポリリン酸ナトリウム２．０部の代わりにテトラポリリン酸ナトリウム１．８部（Ｐ_２Ｏ_５として６１．０〜６３．０％）を用い、塩化バリウム（ＢａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ）４．０部の代わりに塩化カルシウム（ＣａＣｌ_２）２．０部を用いて、蓄光顔料の表面にテトラポリリン酸カルシウムを沈積させたこと以外は、実施例１と同様の方法で、アモルファスシリカ被覆蓄光顔料のサンプル４を得た。なお、蓄光顔料の表面に沈積させたテトラポリリン酸カルシウムの量は、蓄光顔料に対して３．２％であった。また、サンプル４におけるアモルファスシリカの含有率は８．０％であり、アモルファスシリカの平均膜厚は３００Åであった。

＜実施例５＞
トリポリリン酸ナトリウム２．０部の代わりにテトラポリリン酸ナトリウム１．８部（Ｐ_２Ｏ_５として６１．０〜６３．０％）を用い、塩化バリウム（ＢａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ）４．０部の代わりに塩化アルミニウム（ＡｌＣｌ_３・６Ｈ_２Ｏ）４．０部を用いて、蓄光顔料の表面にテトラポリリン酸アルミニウムを沈積させたこと以外は、実施例１と同様の方法で、アモルファスシリカ被覆蓄光顔料のサンプル５を得た。なお、蓄光顔料の表面に沈積させたテトラポリリン酸アルミニウムの量は、蓄光顔料に対して２．４％であった。また、サンプル５におけるアモルファスシリカの含有率は８．０％であり、アモルファスシリカの平均膜厚は３００Åであった。

＜実施例６＞
トリポリリン酸ナトリウム２．０部の代わりにテトラポリリン酸ナトリウム１．８部（Ｐ_２Ｏ_５として６１．０〜６３．０％）を用い、塩化バリウム（ＢａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏ）４．０部の代わりに硝酸セリウム（Ｃｅ（ＮＯ_３）_３・６Ｈ_２Ｏ）４．７部を用いて、蓄光顔料の表面にテトラポリリン酸セリウムを沈積させたこと以外は、実施例１と同様の方法で、アモルファスシリカ被覆蓄光顔料のサンプル６を得た。なお、蓄光顔料の表面に沈積させたテトラポリリン酸セリウムの量は、蓄光顔料に対して３．３％であった。また、サンプル６におけるアモルファスシリカの含有率は８．０％であり、アモルファスシリカの平均膜厚は３００Åであった。

＜比較例１＞
実施例１で用いた蓄光顔料を、アモルファスシリカでマイクロカプセル化せず、そのままサンプル７として使用した。

＜評価＞
各サンプルについて、耐酸性試験、耐アルカリ性試験、及び分散性試験を行い、各試験において得られた結果より、下記の８段階で評価した。
「８」：極めて優秀
「７」：優秀
「６」：極めて良好
「５」：良好
「４」：普通
「３」：可
「２」：やや可
「１」：不可

＜耐酸性試験＞
ＪＩＳＫ５１０１−８に準拠し、各サンプルを２％Ｈ_２ＳＯ_４溶液に浸漬させ、浸漬後のサンプルと浸漬していないサンプルの発光輝度を計測することで、耐酸性を評価した。

＜耐アルカリ性試験＞
ＪＩＳＫ５１０１−８に準拠し、各サンプルを１％ＮａＯＨ溶液に浸漬させ、浸漬後のサンプルと浸漬していないサンプルの発光輝度を計測することで、耐アルカリ性を評価した。

＜分散性試験＞
ＪＩＳＫ５１０１−５−２に準拠し、メラミンアルキド樹脂によるペイントコンディショナー法により分散性を評価した。

以上のように、本発明によれば、耐酸性及び耐アルカリ性の優れた発光体が得られることが分かった。

本発明は、（ａ−１）ストロンチウムを含む蓄光顔料である蛍光体粒子を水中に分散させたスラリー（Ｓ１）を得る工程と、
（ａ−２）前記スラリー（Ｓ１）に、トリポリリン酸ナトリウム又はテトラポリリン酸ナトリウムと、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、及びセリウムから選択される金属の塩を加えることで、前記蛍光体粒子の表面に、前記蛍光体粒子に対して０．２〜１５．０重量％の縮合リン酸塩を沈積させた縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を得る工程と、
（ａ−３）得られた固体を、その電導度が４５０μＳ以下になるまで水洗する工程と、
（ｂ−１）前記縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を水中に分散させたスラリー（Ｓ２）を得る工程と、
（ｂ−２）前記スラリー（Ｓ２）に、珪酸ナトリウム及び酸を加えることで、前記縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子の表面に、アモルファスシリカを沈積させる工程と
を有する発光体の製造方法、及びその製造方法により得られる発光体である。

本発明は、表面に０．２〜１５．０重量％の縮合リン酸塩が沈積した、ストロンチウムを含む蓄光顔料である蛍光体粒子と、前記蛍光体粒子の表面を被覆するアモルファスシリカとを有し、前記縮合リン酸塩が、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、及びセリウムから選択される金属のトリポリリン酸塩又はテトラポリリン酸塩である発光体である。

Claims

（ａ）蛍光体粒子の表面に、縮合リン酸塩を沈積させた縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を得る工程と、
（ｂ）前記縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子の表面に、アモルファスシリカを沈積させる工程と
を有する発光体の製造方法。
前記縮合リン酸塩が、トリポリリン酸塩又はテトラポリリン酸塩である請求項１に記載の発光体の製造方法。
前記縮合リン酸塩が、トリポリリン酸マグネシウム、トリポリリン酸カルシウム、トリポリリン酸ストロンチウム、トリポリリン酸バリウム、トリポリリン酸アルミニウム、トリポリリン酸亜鉛、トリポリリン酸セリウムである請求項２に記載の発光体の製造方法。
前記縮合リン酸塩が、テトラポリリン酸マグネシウム、テトラポリリン酸カルシウム、テトラポリリン酸ストロンチウム、テトラポリリン酸バリウム、テトラポリリン酸アルミニウム、テトラポリリン酸亜鉛、テトラポリリン酸セリウムである請求項２に記載の発光体の製造方法。
前記蛍光体粒子が、ストロンチウムを含む蓄光顔料である請求項１〜４のいずれか１項に記載の発光体の製造方法。
前記工程（ａ）において、前記蛍光体粒子に対して０．２〜１５．０重量％の縮合リン酸塩を沈積させる１〜５のいずれか１項に記載の発光体の製造方法。
前記工程（ａ）として、
（ａ−１）前記蛍光体粒子を水中に分散させたスラリー（Ｓ１）を得る工程と、
（ａ−２）前記スラリー（Ｓ１）に、縮合リン酸ナトリウム及び金属塩を加える工程と
を有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の発光体の製造方法。
（ａ−３）得られた固体を、その電導度が４５０μＳ以下になるまで水洗する工程
をさらに有する請求項７に記載の発光体の製造方法。
前記工程（ｂ）として、
（ｂ−１）前記縮合リン酸塩被覆蛍光体粒子を水中に分散させたスラリー（Ｓ２）を得る工程と、
（ｂ−２）前記スラリー（Ｓ２）に、珪酸ナトリウム及び酸を加える工程と
を有する請求項１〜８のいずれか１項に記載の発光体の製造方法。
前記工程（ｂ−１）において、分散剤として珪酸ナトリウム又はヘキサメタリン酸ナトリウムを用いる請求項９に記載の発光体の製造方法。
前記工程（ｂ−２）で添加する酸が、硫酸である請求項９又は１０に記載の発光体の製造方法。
前記工程（ｂ−２）を行うにあたり、前記スラリー（Ｓ２）の温度を６０℃以上に保ち、かつｐＨを６以上に保つ請求項９〜１１のいずれか１項に記載の発光体の製造方法。
請求項１〜１２のいずれか１項に発光体の製造方法により得られる発光体。
蛍光体粒子と、前記蛍光体粒子の表面を被覆するアモルファスシリカとを有する発光体。
前記蛍光体粒子が、ストロンチウムを含む蓄光顔料である請求項１４に記載の発光体。
前記発光体中のアモルファスシリカの含有率が、１〜２５重量％である請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の発光体。