JP2016072578A - リードフレームの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属板10の略全面にめっき層30を形成する工程と、めっき層30上に所定のリードフレーム形状のエッチングマスク41を形成する工程と、エッチングマスク41で覆われていない領域のめっき層30を除去する工程と、めっき層30の除去により露出した金属板10にエッチング処理を施して所定のリードフレーム形状に加工する工程と、所定のリードフレーム形状に加工された金属板10の表面の外周縁よりも外側に突出しているめっき層のバリを除去する工程と、エッチングマスク41を除去する工程と、を有する。
【選択図】図1
Description
該めっき層上に所定のリードフレーム形状のエッチングマスクを形成する工程と、
該エッチングマスクで覆われていない領域の前記めっき層を除去する工程と、
前記めっき層の除去により露出した前記金属板にエッチング処理を施して前記所定のリードフレーム形状に加工する工程と、
前記所定のリードフレーム形状に加工された前記金属板の表面の外周縁よりも外側に突出している前記めっき層のバリを除去する工程と、
前記エッチングマスクを除去する工程と、を有する。
[比較例1]
[比較例2]
11 表面
12 裏面
20 メカマスク
30 めっき層
31 バリ
40、140、150 フォトレジスト層
41、141、151 レジストパターン
Claims (9)
- 金属板の略全面にめっき層を形成する工程と、
該めっき層上に所定のリードフレーム形状のエッチングマスクを形成する工程と、
該エッチングマスクで覆われていない領域の前記めっき層を除去する工程と、
前記めっき層の除去により露出した前記金属板にエッチング処理を施して前記所定のリードフレーム形状に加工する工程と、
前記所定のリードフレーム形状に加工された前記金属板の表面の外周縁よりも外側に突出している前記めっき層のバリを除去する工程と、
前記エッチングマスクを除去する工程と、を有するリードフレームの製造方法。 - 前記めっき層を除去する工程で使用した剥離剤を用いて、前記めっき層のバリを除去する工程を行う請求項1または2に記載のリードフレームの製造方法。
- 前記めっき層のバリを除去する工程は、回転ブラシを正転及び逆転させて前記バリに接触させることにより行う請求項1又は2に記載のリードフレームの製造方法。
- 前記金属板は銅材又は銅合金材からなり、前記めっき層を形成する工程は、銅ストライクめっきを行った後に行われる請求項1乃至3のいずれか一項に記載のリードフレームの製造方法。
- 前記エッチングマスクを形成する工程は、フォトレジストを全面に形成し、露光及び現像により前記フォトレジストのパターニングを行う工程を含む請求項1乃至4のいずれか一項に記載のリードフレームの製造方法。
- 前記エッチング処理は、スプレー式のウェットエッチングにより行われる請求項1乃至5のいずれか一項に記載のリードフレームの製造方法。
- 前記金属板の略全面に前記めっき層を形成する工程は、銀めっき層を形成する工程である請求項1乃至6のいずれか一項に記載のリードフレームの製造方法。
- 前記めっき層は、前記金属板の一方の面にのみ形成され、
前記金属板の他方の面には、前記金属板上に所定のリードフレーム形状のエッチングマスクを形成する工程と、
前記前記金属板にエッチング処理を施して前記所定のリードフレーム形状に加工する工程と、
前記エッチングマスクを除去する工程が行われる請求項1乃至7に記載のリードフレームの製造方法。 - 前記金属板の略全面に前記めっき層を形成する工程は、前記他方の面に弾性体からなるメカマスクを押圧した状態で前記金属板に電気めっき処理を施すことにより行われる請求項8に記載のリードフレームの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2014
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