JP2016071280A - フォトマスクブランク、それを用いたフォトマスクの製造方法とフォトマスク、それを用いて作製したマイクロレンズ - Google Patents
フォトマスクブランク、それを用いたフォトマスクの製造方法とフォトマスク、それを用いて作製したマイクロレンズ Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】フォトマスクブランクにおいて、遮光層13は少なくとも2種類の膜厚の異なる領域からなり、遮光層13上にハードマスク層14を備え、遮光層13の下に、遮光層13よりも遮光性の低い半透光層12を備える。遮光層13の少なくとも2種類の異なる膜厚のうち、露光転写するパターンを含む領域の膜厚は50nm以下とする。
【選択図】図1
Description
するアライメントマークパターンの掘り込み量が浅くなり、アライメントマークのコントラストが取れなくなる問題があった。
図3は、本発明の実施の形態のフォトマスクブランクを製造工程順に示す模式断面図である。
本発明の別のフォトマスク製造方法を、図6、図7により、工程順に説明する。
本発明と比較するため、従来の形状のマスクブランクでフォトマスクを作製し、マスクパターンの解像性について評価した。評価用パターンは、前述の実施例1、2の場合と同じ
である。
本発明の効果を確認するために、実施例1の方法で作製したフォトマスク、実施例2の方法で作製したフォトマスク、従来の形状のマスクブランクから作製したフォトマスクを用いて、微小なマイクロレンズを作製する場合の作製可能性ついて評価した。
11、21・・・透明性基板
12・・・半透光層
12a・・・半透光層パターン
13、23・・・遮光層
13a、23a・・・遮光層パターン
13−2、23−2・・・薄膜化した遮光層
13−2a、23−2a・・・薄膜化した遮光層のパターン
13−3・・・第1の遮光層
13−4・・・第2の遮光層
13−3a・・・第1の遮光層のパターン
14、24・・・ハードマスク層
14a・・・ハードマスク層パターン
100、200・・・フォトマスク
15、16、17・・・レジスト
15a、16a、17a・・・レジストパターン
45、46、47・・・レジスト
45a、46a、47a・・・レジストパターン
51・・・孤立スペースパターン
61・・・マイクロレンズのマスクパターン
62・・・寸法
63・・・マイクロレンズのマスクパターン単位
64・・・寸法
A1、A2、A1−16・・・非遮光部(メインパターン領域)
B1、B2、B1−16・・・遮光部(アライメントマークパターン領域)
71・・・マイクロレンズの寸法
72・・・マイクロレンズの高さ
73・・・マイクロレンズの高さ80%でのマイクロレンズの寸法
Claims (10)
- 少なくとも透明性基板と露光光を遮光する遮光層を備えるフォトマスクブランクであって、前記遮光層は少なくとも2種類の膜厚の異なる領域からなり、前記遮光層上にハードマスク層を備える事を特徴とするフォトマスクブランク。
- 前記遮光層の下に、前記遮光層よりも遮光性の低い半透光層を備えることを特徴とする請求項1に記載のフォトマスクブランク。
- 前記遮光層の少なくとも2種類の異なる膜厚のうち、露光転写するメインパターンを含む領域の膜厚は、50nm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のフォトマスクブランク。
- 前記ハードマスク層は、モリブデン、シリコン、タンタルより選ばれた少なくとも1つ以上の金属、または、前記金属を含む合金、または、前記金属または前記金属を含む合金の酸化物、または、前記金属または前記金属を含む合金の窒化物、のいずれかであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のフォトマスクブランクを用いて作製することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
- 少なくとも透明性基板と露光光を遮光する遮光層を備えるフォトマスクの製造方法であって、少なくとも前記透明性基板上に第1の遮光層を成膜する工程、前記第1の遮光層に露光用のアライメントマークパターン及び露光転写するパターンを形成する工程、前記アライメントマークパターンのスペース部及び前記露光転写するパターンのライン部とスペース部をレジストパターンで被覆する工程、第2の遮光層を成膜する工程、前記第2の遮光層を成膜後に前記レジストパターンを除去する工程、をこの順に具備することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
- 前記第1の遮光層を成膜する工程の前に、前記第1の遮光層よりも遮光性の低い半透光層を成膜する工程を具備することを特徴とする請求項6に記載のフォトマスクの製造方法。
- 前記第1の遮光層の膜厚は、50nm以下であることを特徴とする請求項6または7に記載のフォトマスクの製造方法。
- 請求項5〜8のいずれかに記載のフォトマスクの製造方法によって作製されたことを特徴とするフォトマスク。
- 請求項9に記載のフォトマスクを用いて作製されたことを特徴とするマイクロレンズ。
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