JP2016071237A - 構造体及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】従来のモスアイ構造に代わる構造体であって、耐久性および生産性の両方において優れた構造体を提供する。【解決手段】構造体１０は、凹凸構造層２０を有する。凹凸構造層２０は、５００ｎｍ以下の平均配列間隔Ｐａｖｅで配列され且つ各々が配列方向と非平行な方向に延びている複数の線状凸部２２によって形成された凹凸面２１を有する。【選択図】図１

Description

本発明は、可視光透過性の凹凸構造層を有する構造体に関する。

近年、透明基材の表面に多数の微小突起を密接して配置し、当該微小突起間隔を可視光線の波長以下とする、所謂モスアイ（蛾の目）構造を利用することにより、反射防止を図る方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この方法は、入射光に対する屈折率を厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。

特開２０１２−１２８１６８号公報

前記モスアイ（蛾の目）構造のように、多数の微小突起を密接して配置した微細凹凸構造は、その表面構造のため、耐汚れ性等の耐久性の点で問題があった。すなわち、その表面構造のため、皮脂等の汚れが付着し易く、また当該汚れは微小突起間の溝奥まで入り込むため、除去が困難であり、表面外観が悪化し易いという問題があった。更に、汚れを拭取る時の圧力で、突起が容易に潰れたり、突起の先端同士が付着する等の塑性変形が生じ、拭いた箇所に拭き痕が残ってしまう場合があるなど、使用中の耐久性に問題があった。

また、モスアイ（蛾の目）構造は、微小突起に対応する微細孔が型面に形成された金型を用いて製造され得る。通常、金型は、陽極酸化やケミカルエッチング、ブラスト等の手法を用いてアルミニウム材料に微細孔を形成することにより、作製される。しかしながら、このような金型の製造において、微細孔のばらつきを制御することは容易ではない。また、微細孔が密集して形成された金型を大面積で作製することも容易ではない。さらに、微細孔に賦型樹脂が詰まりやすいため、この金型の寿命は短い。このような事情から、モスアイ構造の生産性も問題となっている。

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、従来のモスアイ構造に代わる構造体であって、耐久性および生産性の両方において優れた構造体を提供することを目的とする。

本発明による構造体は、
凹凸構造層を備える構造体であって、
前記凹凸構造層は、５００ｎｍ以下の平均配列間隔Ｐ_ａｖｅで配列され且つ各々が配列方向と非平行な方向に延びている複数の線状凸部によって形成された凹凸面を有する。

本発明による構造体において、前記複数の線状凸部は、折れ線状または波線状のパターンで、前記配列方向と非平行な方向に延びていてもよい。

本発明による構造体において、
前記複数の線状凸部は、前記配列方向に連続する二以上の線状凸部毎に、線状凸部群を形成し、
一つの線状凸部群に含まれる二以上の線状凸部の配列間隔ｐ_ｘは、当該一つの線状凸部群および当該一つの線状凸部群に隣り合う他の線状凸部群にそれぞれ属し且つ前記配列方向に隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐ_ｙよりも、狭くなっていてもよい。

本発明による構造体において、
前記凹凸構造層は、シート状の本体部をさらに有し、
前記本体部は、前記線状凸部の配列方向に沿って複数のベース面を有し、各ベース面上に二以上の線状凸部が支持され、
一つのベース面内において、前記凹凸構造層の法線方向に沿った当該ベース面の高さ位置は、前記配列方向に沿って一側から他側へ向けてしだいに高くなっていてもよい。

本発明による構造体において、
前記複数の線状凸部は、前記配列方向に連続する二以上の線状凸部毎に、線状凸部群を形成し、
前記配列方向に隣り合う二つ凸部の間に位置する谷底部の前記凹凸構造層への法線方向に沿った高さ位置は、一つの線状凸部群内において、前記配列方向に沿って一側から他側へ向けてしだいに高くなっていてもよい。

本発明による構造体において、一つのベース面の前記配列方向における他側端での高さ位置は、当該一つのベース面に前記配列方向における他側から隣り合う他のベース面の前記配列方向における一側端での高さ位置よりも低くなっていてもよい。

本発明による構造体において、一つの線状凸部群内において前記配列方向における最も他側に位置する谷底部は、前記一つの線状凸部群に前記配列方向における他側から隣り合う他の線状凸部群内において前記配列方向における最も一側に位置する谷底部よりも高くなっていてもよい。

本発明による構造体において、
前記凹凸構造層は、シート状の本体部をさらに有し、
前記本体部は、前記線状凸部の配列方向に沿って複数のベース面を有し、各ベース面上に二以上の線状凸部が支持され、
前記配列方向に隣り合う二つのベース面の間で、前記凹凸構造層の法線方向に沿った当該ベース面の高さ位置は、互いに異なっていてもよい。

本発明による構造体において、
前記複数の線状凸部は、前記配列方向に連続する二以上の線状凸部毎に、線状凸部群を形成し、
前記配列方向に隣り合う二つ線状凸部の間に位置する谷底部の前記凹凸構造層への法線方向に沿った位置は、隣り合う二つの線状凸部群間で異なっていてもよい。

本発明による構造体において、
前記凹凸構造層は、シート状の本体部をさらに有し、
前記本体部は、前記凹凸構造層の法線方向に沿った高さ位置が互いに異なる三つのベース面が前記線状凸部の配列方向に繰り返し配列されるようにして、複数のベース面を有し、
各ベース面上に二以上の線状凸部が支持されていてもよい。

本発明による構造体において、
前記複数の線状凸部は、谷底部の高さが前記配列方向における一側から他側へ向けて高くなっていく三つの線状凸部群の繰り返しからなり、
前記三つの線状凸部群のうちの前記配列方向における最も他側に位置する線状凸部群の前記谷底部の高さは、当該線状凸部群に前記配列方向における他側から隣り合う他の線状凸部群の前記谷底部の高さよりも高くなっていてもよい。

本発明による構造体において、前記線状凸部の前記配列方向と非平行な方向に長手方向を有するようにしてもよい。

本発明による構造体において、前記長手方向に非平行な軸線を中心として巻き取られていてもよい。

本発明による構造体において、
前記凹凸構造層の前記凹凸面上での５°正反射による反射率が２．０％以下であり、
前記凹凸構造層の前記凹凸面上での水に対する接触角が２０°以下であってもよい。

本発明による表示装置は、
上述した本発明による構造体と、
前記構造体と積層された表示デバイスと、を備え、
前記表示デバイスは、前記線状凸部の前記配列方向に沿って繰り返し配列された複数種類の画素を含み、
一つの線状凸部群に対面する位置に、複数種類の画素が一つずつ配置されている。

本発明による表示装置は、
上述した本発明による構造体と、
前記構造体と積層された表示デバイスと、を備え、
前記表示デバイスは、前記線状凸部の前記配列方向に沿って繰り返し配列された複数種類の画素を含み、
隣り合う二つの線状凸部に対面する位置に、異なる種類の画素がそれぞれ配置されている。

本発明による表示装置は、
上述した本発明による構造体と、
前記構造体と積層された表示デバイスと、を備え、
前記表示デバイスは、前記線状凸部の前記配列方向に沿って繰り返し配列された赤色画素、緑色画素および青色画素を含み、
前記三つの線状凸部のうちの前記配列方向における最も他側に位置する線状凸部群に対面する位置に、青色画素が配置され、
前記三つの線状凸部のうちの前記配列方向における最も一側に位置する線状凸部群に対面する位置に、赤色画素が配置され、
前記三つの線状凸部のうちの前記配列方向における中央に位置する線状凸部群に対面する位置に、緑色画素が配置されている。

本発明によれば、凹凸構造層を有する構造体に、優れた耐久性および生産性を付与することができる。

図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、構造体の一例を示す斜視図である。 図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。 図３は、凹凸構造層の凹凸面を示す平面図であって、凹凸構造層の線状凸部の配列に関する変形例を説明するための図である。 図４は、凹凸構造層の凹凸面を示す平面図であって、凹凸構造層の線状凸部の配列に関する変形例を説明するための図である。 図５は、凹凸構造層の凹凸面を示す平面図であって、凹凸構造層の線状凸部の配列に関する変形例を説明するための図である。 図６は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図７は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図８は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図９は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図１０は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図１１は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図１２は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図１３は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図１４は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図１５は、凹凸構造層の主切断面を示す図であって、線状凸部の断面形状の変形例を説明するための図である。 図１６は、凹凸構造層の主切断面にて構造体を示す図であって、凹凸構造層の変形例を説明するための図である。 図１７は、凹凸構造層の主切断面にて構造体を示す図であって、凹凸構造層の変形例を説明するための図である。 図１８は、図１６に示された構造体を含む表示装置を示す縦断面図である。 図１９は、図１８の表示装置を示す平面図である。 図２０は、図１７に示された構造体を含む表示装置を示す縦断面図である。 図２１は、図２０の表示装置を示す平面図である。 図２２は、図１及び図２の凹凸構造層の作製に用いられるロール型を、その中心軸線を通る断面において、示す図である。 図２３は、図２２のロール型の製造方法を説明するための図である。 図２４は、図２３のロール型の製造方法に用いられるバイトの刃先を示す正面図である。 図２５は、ロール型を用いて構造体を製造する方法を示す図である。 図２６は、ロール型の型面を平面に展開して示す平面図であって、線状凹部の配列に関する変形例を説明するための図である。 図２７は、ロール型の型面を平面に展開して示す平面図であって、線状凹部の配列に関する変形例を説明するための図である。 図２８は、ロール型の型面を平面に展開して示す平面図であって、線状凹部の配列に関する変形例を説明するための図である。 図２９は、ロール型の製造方法の変形例を説明するための図である。 図３０は、母材（ロール型）の中心軸線を通過する断面を示す図であって、ロール型の製造方法を説明するための図である。 図３１は、母材（ロール型）の中心軸線を通過する断面を示す図であって、ロール型の製造方法を説明するための図である。 図３２は、母材（ロール型）の中心軸線を通過する断面を示す図であって、ロール型の製造方法を説明するための図である。 図３３は、バイトの刃先を示す正面図である。

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する写真以外の図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「シート」は板やフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、呼称の違いのみにおいて区別され得ない。

また、「シート面（板面、フィルム面）」とは、対象となるシート状（板状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材（板状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。また、シート状（板状、フィルム状）の部材に対する法線方向とは、当該シート状（板状、フィルム状）の部材のシート面（板面、フィルム面）への法線方向のことを指す。

さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

［構造体］
図１に示すように、構造体１０は、可視光透過性を有した凹凸構造層２０を有している。凹凸構造層２０は、５００ｎｍ以下の平均配列間隔Ｐ_ａｖｅで配列され且つ各々が配列方向と非平行な方向に延びている複数の線状凸部２２によって形成された凹凸面２１を有している。図１に示された例において、構造体１０は、凹凸構造層２０を支持する基材１５を、さらに有している。ただし、以下に詳述するように、構造体１０は、凹凸構造層２０により優れた機能を発揮することができ、その一方で、基材１５は、構造体１０における必須の構成要素ではなく、省略され得る。また、図示された例において、一対の主面を有するシート状の構造体１０は、その一方の主面のみを、凹凸構造層２０によって形成された凹凸面２１としている。しかしながら、図示された例に限られず、構造体１０の一対の主面の両面が、凹凸面２１として形成されていてもよい。

凹凸構造層２０は、例えば樹脂組成物の硬化物からなり、また透明であるようにしてもよい。例えば、ＪＩＳＫ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）に準拠して測定される可視光領域における凹凸構造層２０の透過率が、凹凸構造層２０の用途に応じて、８０％以上に設定されていてもよいし、或いは、９０％以上に設定されていてもよい。

図２は、図１におけるＩＩ−ＩＩ線に沿った断面、言い換えると線状凸部２２の配列方向である第１方向ｄ_１に沿った、構造体１０の断面を示している。線状凸部２２の配列間隔ｐの平均値Ｐ_ａｖｅ、すなわち、配列方向である第１方向ｄ_１に隣り合う二つの線状凸部２２の第１方向ｄ_１に沿った間隔ｐの平均値Ｐ_ａｖｅが５００ｎｍ以下となっている。第１方向ｄ_１に隣り合う二つの線状凸部２２の第１方向ｄ_１に沿った間隔ｐは、例えば、図２に示すように当該二つの線状凸部２２の先端部２２ａ間の第１方向ｄ_１に沿った距離として、或いは、後述するように当該二つの線状凸部２２の同一側の基端部２２ｂ間の距離として、特定され得る。

ここで説明する構造体１０は、複数の互いに平行な凹凸構造層２０が配列方向と非平行な方向に延びる線状凸部２２を表面に有しており、且つ、隣り合う二つの線状凸部２２の配列間隔の平均値Ｐ_ａｖｅが特定の範囲内の値となっている。この構造体１０は、凹凸構造層２０の線状凸部２２によって形成される凹凸面２１に起因して、微小突起が密接して二次元配列されてなる所謂モスアイ構造と同様に機能を発揮することができ、加えて、構造体１０の凹凸構造層２０は、所謂モスアイ構造といわれる微小突起が密接して二次元配列されてなる凹凸構造層と比較して、凸部自体の構造上の耐久性において優れる。したがって、樹脂組成物の硬化物からなる線状凸部２２であっても、当該線状凸部２２が潰れてしまうことや、隣り合う線状凸部２２が先端部において付着し合うことを効果的に防止することができる。

また、ここで説明する構造体１０の凹凸構造層２０は、所謂モスアイ構造といわれる微小突起が密接して二次元配列されてなる凹凸構造層と比較して、皮脂等の付着物（汚れ）に対して、十分に対応することができる。すなわち、ここで説明する構造体１０の凹凸構造層２０では、線状凸部２２の長手方向に沿って付着物を拭き取ることにより、当該付着物を容易且つ安定して除去することが可能となる。また、付着物の拭き取りが線状凸部２２の長手方向に沿って実施されると、凹凸面２１が損傷してしまうことも効果的に防止することができる。

さらに、ここで説明する凹凸構造層２０の凹凸面２１は、線状に延びる線状凸部２２によって形成されているため、詳しくは後述するように、凹凸構造層２０を樹脂組成物の硬化物として高い生産性で製造することが可能となる。当該製造方法によれば、大面積の構造体１０を長尺状で製造することが可能なため、例えば特開２００９−１９３００２号公報で提案されているように小面積の凹凸構造層を継ぎ合わせる必要がない。

以下、構造体１０の各構成要素について、順に詳述する。

＜凹凸構造層＞
凹凸構造層２０は、第１方向ｄ１に配列された多数の線状凸部２２を有している。線状凸部２２によって、凹凸構造層２０の表面、さらには構造体１０の表面である凹凸面２１が形成されている。各線状凸部２２は、その配列方向と非平行な方向に長手方向を有している。すなわち、各線状凸部２２は、配列方向よりも、非平行な方向に長くなっている。図１に示された例において、多数の線状凸部２２は、互いに平行に延びている。多数の線状凸部２２は、典型的には、図１に示すように、直線状に延びている。図１の例において、各線状凸部２２の長手方向は、その配列方向である第１方向ｄ_１に直交する第２方向ｄ_２となっている。

図１に示された典型例に限られず、図３に示すように、構造体１０の法線方向からの平面視において、線状凸部２２が折れ線状に第２方向ｄ２に延びるようにしてもよい。また、図４に示すように、構造体１０の法線方向からの平面視において、線状凸部２２が波線状パターン（蛇行曲線状パターン）で第２方向ｄ２に延びるようにしてもよい。図３及び図４に示された例では、図１に示された例と同様に、凹凸構造層２０に含まれた多数の線状凸部２２は、互いに平行となっている。すなわち、図３及び図４に示された例において、第１方向ｄ１に隣り合う二つの線状凸部２２の間隔ｐは、第２方向ｄ２に沿った各位置において一定となっている。このような例によれば、凹凸構造層２０は、第２方向ｄ２に沿った各位置において、一定の光学機能を発揮し且つ耐久性が面内で安定するようになる。

その一方で、隣り合う二つの線状凸部２２の間隔（ピッチ）ｐが、変動するようにしてもよい。図５に示された例において、凹凸構造層２０に含まれる多数の線状凸部２２は、その配列方向である第１方向ｄ_１に沿った位置に応じて、複数の線状凸部群Ｇに区分けされている。各線状凸部群Ｇは、複数の線状凸部２２を含んでいる。線状凸部群Ｇは、互いに同一の数の線状凸部２２、図示された例では六つの線状凸部２２を含んでいる。とりわけ図示された例では、各線状凸部群Ｇに含まれる複数の線状凸部２２については、隣り合う二つの線状凸部２２の間隔ｐ_ｘが一定となっている。この間隔ｐ_ｘは、他の任意の一つの線状凸部群Ｇに含まれる複数の線状凸部２２についての間隔と同一となっている。一方、異なる線状凸部群Ｇに属して隣り合う二つの線状凸部２２の間隔ｐ_ｙは、任意の一つの線状凸部群Ｇに属して隣り合う二つの線状凸部２２の間隔ｐ_ｘとは異なっている。そして、間隔ｐ_ｙは、間隔ｐ_ｘよりも広くなっている。

すなわち、図５に示された例では、複数の線状凸部２２は、第１方向ｄ_１に連続する二以上の線状凸部２２毎に線状凸部群Ｇを形成し、一つの線状凸部群に含まれる二以上の線状凸部２２の配列間隔ｐ_ｘは、当該一つの線状凸部群Ｇおよび当該一つの線状凸部群Ｇに隣り合う他の線状凸部群Ｇにそれぞれ属し且つ第１方向ｄ１に隣り合う二つの線状凸部２２の配列間隔ｐ_ｙよりも、狭くなっている。このような線状凸部２２の配列は、後述する製造方法によって極めて容易に実現することができるとともに、構造体１０は、この線状凸部２２の配列に起因して、後述する優れた作用効果を奏することが可能となる。

隣り合う異なる二つの線状凸部群Ｇに属する二つの線状凸部２２の間隔ｐ_ｙは、図示された例において、凹凸構造層２０内で、一定となっている。しかしながら、この例に限れず、二つの線状凸部群Ｇに属する二つの線状凸部２２の間隔は、一定でなくてもよいし、後述する製造方法によれば、容易に変動させることが可能である。

なお、図３〜図５では、線状凸部２２の先端部２２ａによって画成される稜線を示している。

次に、線状凸部２２の断面形状、とりわけ第２方向ｄ_２の配列方向及び凹凸構造層２０の法線方向の両方に平行な断面（以下においては、単に、凹凸構造層に関する「主切断面」とも呼ぶ）での断面形状について説明する。

ここで説明する凹凸構造層２０は、モスアイ構造体と同様に、当該凹凸構造層２０への法線方向に直交する仮想面における線状凸部２２と線状凸部２２に隣接する媒質との面積比が法線方向に沿って漸次変化することにより、凹凸面２１での反射防止機能を発現しているものと推測される。このため、図２に示すように、線状凸部２２は、凹凸構造層２０への法線方向に直交する断面での断面積が、基端部２２ｂから先端部２２ａに向けて漸次減少していくように、形成されている。言い換えると、凹凸構造層２０の主切断面において、線状凸部２２の幅ｗは、基端部２２ｂから先端部２２ａに向けて漸次狭くなっていく。

なお、本明細書で用いる「漸次減少」や「漸次狭く」といった表現は、常に連続的に減少し続けることや、常に連続的に狭くなり続けることだけを意味するものではなく、一部の領域や区間に亘って変化が生じなくてもよい。すなわち、「漸次減少」といった表現は、増加することがないことを意味し、「漸次狭く」といった表現は、太くなることがないことを意味している。

図２に加えて、図６〜図１５には、主切断面における線状凸部２２の断面形状が例示されている。図２に示された線状凸部２２は、主切断面において、概ね釣鐘状の形状となっている。一方、図６に示された線状凸部２２は、主切断面において、矩形形状となっている。図７に示された線状凸部２２は、主切断面において、矩形形状の角部に丸味を付与した形状となっている。図８及び図９に示された線状凸部２２は、主切断面において、三角形形状となっている。図１０に示された線状凸部２２は、主切断面において、三角形形状の角部に丸味を付与した形状となっている。図１１に示された線状凸部２２は、主切断面において、幅が断続的に減少する形状となっている。また図示は省略するが、線状凸部２２は、主切断面において、半円状の形状や半楕円状の形状となっていてもよい。図示は省略するが、図１１に示された線状凸部２２の一段目の幅方向中心と、一段目よりも幅狭の二段目の幅方向中心が、配列方向である第１方向ｄ_１にずれていてもよい。

図２及び図６〜図１０に示された例において、線状凸部２２は、主切断面において、凹凸構造層２０への法線方向を中心として対称的な形状となっている。しかしながら、この例に限られず、線状凸部２２は、非対称な断面形状を有するようにしてもよい。図１２に示された線状凸部２２は、主切断面において、三角形形状となっている。ただし、図１２に示された線状凸部２２において、基端部２２ｂから先端部２２ａまで延びる一方の面が、凹凸構造層２０の法線方向に対してなす傾斜角度は、基端部２２ｂから先端部２２ａまで延びる他方の面が、凹凸構造層２０の法線方向に対してなす傾斜角度と異なっている。図１２に示された例において、基端部２２ｂから先端部２２ａまで延びる一方の面は、凹凸構造層２０の法線方向に対して傾斜して延び、基端部２２ｂから先端部２２ａまで延びる他方の面は、法線方向と平行に延びている。図１３に示された線状凸部２２は、主切断面において、図１２に示された線状凸部２２の先端を面取した形状となっている。さらに、図１４に示された線状凸部２２は、主切断面において、図１２に示された線状凸部２２の他方の面を曲線状に変更した形状となっている。

さらに、図２及び図６〜図１４に示された例において、凹凸構造層２０に含まれた多数の線状凸部２２が、主切断面において、互いに同一の断面形状を有する例を示したが、この例に限られない。図１５に示すように、異なる断面形状を有する線状凸部２２が、凹凸構造層２０に含まれるようにしてもよい。例えば、図１５に示す例のように、線状凸部２２のｎ個に１個など、周期的に高さが相対的に高い線状凸部を含んでいても良い。さらに、線状凸部２２の主切断面における断面形状は、その長手方向に沿って変化するようにしてもよい。例えば、線状凸部２２の高さが、線状凸部２２の長手方向である第２方向ｄ_２に沿って変化するようにしてもよい。線状凸部２２の高さが一定でない場合、耐汚染性及び耐擦傷性を改善することもできる。

また、線状凸部２２の比表面積が大きい場合、凹凸構造層２０の凹凸面２１の親水性や撥水性がより顕著となる。例えば線状凸部２２が同じ高さの場合には、比表面積を大きくする観点から、垂直断面形状は三角形よりも四角形の方が好ましい。例えば、基端部２２ｂから先端部２２ａに向けて線幅が細くなっていく階段状断面を有する場合には、比表面積の点から親水性や撥水性が向上すると共に、反射防止性等の光学機能も向上する点において好ましい。

上述したように、凹凸構造層２０は、線状凸部２２によって形成された凹凸面２１を有している。この凹凸構造層２０は、言い換えると、シート状の本体部２８と、本体部２８のベース面２８ａに設けられた線状凸部２２と、を有する、と表現され得る。図２に示された例において、本体部２８は、互いに平行な一対の主面を有し、一方の主面がベース面２８ａを形成している。ベース面２８ａは、凹凸構造層２０のシート面に平行であり、したがって凹凸構造層２０の法線方向に直交している。しかしながら、この例に限られず、ベース面２８ａは、凹凸構造層２０のシート面に対して傾斜していてもよいし、曲線状であってもよい。

また、図１６及び図１７に示された例のように、複数のベース面２８ａが、離間して配置されていてもよい。凹凸構造層２０に含まれる多数の線状凸部２２は、その配列方向である第１方向ｄ_１に沿った位置に応じて、複数の線状凸部群Ｇに区分けされている。上述した図５の例とは異なり、各線状凸部群Ｇへの線状凸部２２の区分けが、当該線状凸部２２が設けられたベース面２８ａに応じていてもよい。

図１６及び図１７に示された例において、本体部２８の一方の主面は、線状凸部２２の配列方向である第１方向ｄ_１に配列された複数のベース面２８ａと、二つのベース面２８ａ間を接続する接続面２８ｂと、を含んで形成されている。各ベース面２８ａには、二以上の線状凸部２２が設けられている。図１６及び図１７に示すように、接続面２８ｂは、凹凸構造層２０のシート面に対して傾斜または直交している。したがって、図１６及び図１７にそれぞれ示された各凹凸構造層２０において、多数の線状凸部２２が設けられている高さ位置（凹凸構造層２０の法線方向における位置）は、一定ではない。言い換えると、図１６及び図１７にそれぞれ示された各凹凸構造層２０において、配列方向である第１方向ｄ_１に隣り合う二つの線状凸部２２の間となる谷底部２１ｂの、凹凸構造層２０の法線方向に沿った、高さ位置は、凹凸構造層２０に含まれる多数の線状凸部２２の間で、一定ではない。

図１６に示された凹凸構造層２０では、ベース面２８ａも、接続面２８ｂと同様に、凹凸構造層２０のシート面に対して傾斜している。ただし、ベース面２８ａは、凹凸構造層２０のシート面に対して接続面２８ｂとは逆側に傾斜している。各ベース面２８ａ内において、凹凸構造層２０の法線方向に沿った当該ベース面２８ａの高さ位置は、第１方向ｄ_１に沿って一側から他側へ向けて（図示された例では、図１６の左側から右側へ向けて）、しだいに高くなっている。したがって、一つのベース面２８ａの第１方向ｄ_１における他側端での高さ位置は、当該一つのベース面２８ａに第１方向ｄ_１における他側から隣接する他のベース面２８ａの第１方向ｄ_１における一側端での高さ位置よりも低くなっている。言い換えると、凹凸面２１の谷底部２１ｂの凹凸構造層２０への法線方向に沿った位置は、一つの線状凸部群Ｇ内において、第１方向ｄ_１に沿って一側から他側へ向けてしだいに高くなっている。したがって、一つの線状凸部群Ｇ内において第１方向ｄ_１における最も他側に位置する谷底部２１ｂは、前記一つの線状凸部群Ｇに第１方向ｄ_１における他側から隣り合う他の線状凸部群Ｇ内において第１方向ｄ_１における最も一側に位置する谷底部２１ｂよりも高くなっている。言い換えると、一つのベース面２８ａ内における第１方向ｄ_１における他側端での高さ位置は、当該一つのベース面２８ａに第１方向ｄ_１における他側から隣接する他のベース面２８ａ内における第１方向ｄ_１における一側端での高さ位置よりも低くなっている。

このような図１６の凹凸構造層２０では、一つのベース面２８ａ上に設けられた複数の線状凸部２２の間で、線状凸部２２が設けられている高さ位置（凹凸面２１の谷底部２１ｂの高さ位置）が変動する。言い換えると、一つの線状凸部群Ｇに含まれた複数の線状凸部２２の間で、線状凸部２２が設けられている高さ位置（凹凸面２１の谷底部２１ｂの高さ位置）が変動する。

なお、図１６に示された例において、本体部２８に含まれる多数のベース面２８ａは、互いに同一に構成されている。また、凹凸構造層２０に含まれる多数のベース面２８ａの間で、線状凸部２２の数が同一となっている。このような凹凸構造層２０は、後述する製造方法によって極めて容易に製造することができるとともに、凹凸構造層２０は、この線状凸部２２の配列に起因して、後述する優れた作用効果を奏することが可能となる。

一方、図１７に示された凹凸構造層２０では、ベース面２８ａは、凹凸構造層２０のシート面と平行に延びている。したがって、各ベース面２８ａ内において、凹凸構造層２０の法線方向に沿った当該ベース面２８ａの高さ位置は一定となっている。ただし、第１方向ｄ_１に隣り合う二つのベース面２８ａの間で、凹凸構造層２０の法線方向に沿った当該ベース面２８ａの高さ位置は互いに異なっている。つまり、第１方向ｄ_１に隣り合う二つ線状凸部２２の間に位置する谷底部２１ｂの凹凸構造層２０への法線方向に沿った位置は、隣り合う二つの線状凸部群Ｇ間で異なっている。とりわけ図１７に示された例では、本体部２８は、凹凸構造層２０の法線方向に沿った高さ位置が互いに異なる三つのベース面２８ａが線状凸部２２の第１方向ｄ_１に繰り返し配列されるようにして、複数のベース面２８ａを有している。より具体的には、複数の線状凸部２２は、谷底部２１ｂの高さが第１方向ｄ_１における一側から他側へ向けて高くなっていく三つの線状凸部群Ｇの繰り返しからなっている。したがって、三つの線状凸部群Ｇのうちの第１方向ｄ_１における最も他側に位置する線状凸部群Ｇの谷底部２１ｂの高さ（ベース面２８ａの高さ）は、当該線状凸部群Ｇに第１方向ｄ_１における他側から隣り合う他の線状凸部群Ｇの谷底部２１ｂの高さ（ベース面２８ａの高さ）よりも高い。

このような図１７の凹凸構造層２０では、一つのベース面２８ａ上に設けられた複数の線状凸部２２の間で、線状凸部２２が設けられている高さ位置（凹凸面２１の谷底部２１ｂの高さ位置）は一定である。言い換えると、一つの線状凸部群Ｇに含まれた複数の線状凸部２２の間で、線状凸部２２が設けられている高さ位置（凹凸面２１の谷底部２１ｂの高さ位置）は一定である。その一方で、図１７の凹凸構造層２０では、異なるベース面２８ａ上に設けられた線状凸部２２の間で、線状凸部２２が設けられている高さ位置（凹凸面２１の谷底部２１ｂの高さ位置）は、異なっている。言い換えると、異なる線状凸部群Ｇの間で、線状凸部２２が設けられている高さ位置（凹凸面２１の谷底部２１ｂの高さ位置）は異なっている。

なお、図１７に示された例において、本体部２８に含まれる多数のベース面２８ａは、高さ位置を除けば、互いに同一に構成されている。また、凹凸構造層２０に含まれる多数のベース面２８ａの間で、線状凸部２２の数が同一となっている。このような凹凸構造層２０は、後述する製造方法によって極めて容易に製造することができるとともに、凹凸構造層２０は、この線状凸部２２の配列に起因して、後述する優れた作用効果を奏することが可能となる。

ところで、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐ及び線状凸部２２の高さｈは以下の方法により測定される。まず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope:AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて線状凸部２２の長手方向ｄ_２に対する垂直断面形状、すなわち主切断面における線状凸部２２の断面形状を検出する。

続いて線状凸部２２の長手方向ｄ_２に対する垂直断面形状において、各線状凸部２２の付け根位置に相当する基端部２２ｂを検出する。各線状凸部２２の基端部２２ｂのうち同じ側の一側基端部２２ｂを選択する。線状凸部２２の基端部２２ｂのうち一側基端部２２ｂと、隣接する線状凸部２２の一側先基端部２２ｂの距離を、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐとする。線状凸部２２の長手方向ｄ_２に対する垂直断面形状の拡大写真から、例えば１０〜１００個程度の配列間隔ｐの値を求め、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐの度数分布を検出する。隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐがほぼ一定である場合には、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐの計測数は少なくても良いが、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐが周期的に変化する場合には、少なくとも５周期分計測することが好ましく、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐが非周期的に変化する場合には、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐをより多く計測することが好ましい。このようにして特定した隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐの度数分布から平均値Ｐ_ａｖｅ及び標準偏差σを求める。また、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐの最大値を、Ｐ_ｍａｘ＝Ｐ_ａｖｅ＋２σとして特定することができる。

また、同様の手法を適用して線状凸部２２の高さｈを求める。線状凸部２２の長手方向ｄ_２に対する垂直断面形状の拡大写真から、各線状凸部２２における極大点（先端部２２ａ）を検出する。各線状凸部２２の付け根位置（基端部２２ｂの位置）を基準（高さ０）として、当該基準位置から各極大点位置の相対的な高さの差ｈを取得してヒストグラム化する。なお、線状凸部２２の垂直断面形状において頂点を複数有する場合には、麓部が同一の線状凸部２２に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を極大点として、当該線状凸部２２の高さｈを取得して、度数分布を求める。

なお、図５に示すように、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐにおいて、各線状凸部２２の最大幅ｗ、すなわち各線状凸部の基端部２２ｂ間の距離は、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐと同じであっても良いし、異なっていても良い。また、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐにおいて各線状凸部２２の幅ｗの占める割合は特に限定されないが、耐久性の点から、ｗ／ｐは０．３〜１であることが好ましい。

凹凸構造層２０において、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐの平均値Ｐ_ａｖｅは５００ｎｍ以下であるが、製造上の点から、当該Ｐ_ａｖｅは１０ｎｍ以上であり、中でも５０ｎｍ以上が好ましい。中でも、隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐの平均値Ｐ_ａｖｅは、後述する各種性能の発現が向上する点から、好ましくは１００ｎｍ以上であり、２５０ｎｍ以下である。Ｐ_ａｖｅが５００ｎｍを超えると可視光の散乱により白っぽくなるという不具合が発現してくる。また、凹凸面２１に起因した、接触角（親水性又は撥水性）の強調効果が低下するという不具合が生じてくる。

また、線状凸部２２の高さｈの平均である、線状凸部平均高さＨ_ａｖｅは、好ましくは５００ｎｍ以下であり、製造上の点から１０ｎｍ以上であり、中でも５０ｎｍ以上が好ましい。中でも、後述する各種性能の発現が向上する点から、より好ましくは７０ｎｍ以上であり、２５０ｎｍ以下である。

線状凸部２２のアスペクト比（線状凸部平均高さＨ_ａｖｅ／隣り合う二つの線状凸部の平均配列間隔Ｐ_ａｖｅ）が０．４〜５．０であることが好ましく、更に、０．５〜２．５であることが好ましく、更に、０．５〜２．１であることがより好ましい。アスペクト比が小さすぎると各種性能が発現せず、大きすぎると機械強度や生産性が低下する。

凹凸構造層２０の厚みは、適宜調整すればよい。例えば基材１５の一面側に凹凸構造層２０を設けた態様の場合には、凹凸構造層２０の厚みは、基材表面に線状凸部２２を形成可能な最低限の厚みにて各種性能を発現可能である。しかしながら後述の賦型プロセスでの生産性を考慮すると、厚みが薄い場合は異物による外観欠陥が発生しやすく、厚みが厚いと賦型速度が低下し、またカールの懸念も高くなるため、厚みは３μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。この場合の凹凸構造層２０の厚みｔは、図２に示すように、凹凸構造層２０の基材との界面から、最も高い線状凸部の頂部までの厚みをいう。

以上の構成からなる凹凸構造層２０は、樹脂組成物の硬化物からなる。なお、本明細書で用いる硬化物とは、化学反応を経て又は経ないで固化したもののことをいう。樹脂組成物は、特に限定されず、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等その他の成分を含有する。樹脂組成物には、１種類の樹脂のみが含まれるものも包含される。前記樹脂としては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、（メタ）アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、（メタ）アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂等が挙げられる。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。

前記樹脂としては、中でも線状微細凹凸形状の成形性及び機械的強度に優れる点から電離放射線硬化性樹脂が好ましく用いられる。なお、電離放射線硬化性樹脂とは、分子中にラジカル重合性及び／又はカチオン重合性結合を有する単量体、低重合度の重合体、反応性重合体を適宜混合したものであり、重合開始剤によって硬化されるものである。なお、非反応性重合体を含有してもよい。

中でも、当該樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下であり、且つ、当該樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．２以下である場合には、線状微細凹凸形状が拭取る程度の圧力で変形し、且つ、優れた弾性復元性を備え、防汚性、耐久性の点から好ましい。Ｅ’を３００ＭＰａ以下とすることにより、拭取り時の圧力によって線状微細凹凸形状が変形し、凹凸間の隙間に入り込んだ汚れを、乾拭きで除去することが可能となる。中でも貯蔵弾性率（Ｅ’）が、１以上２５０ＭＰａ以下であることが好ましく、１以上１００ＭＰａ以下であることがより好ましい。

また、損失正接を０．２以下とすることにより、拭取り時に変形した線状凸部２２が、弾性復元され、元の形状に戻りやすい。これにより、線状凸部２２の塑性変形や、隣り合う二つの線状凸部２２の先端部２２ａ近傍での付着が抑制され、線状凸部２２によって形成された凹凸面２１が有する機能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭取ることが可能になる。中でも、ｔａｎδが０．１８以下であることが好ましい。

なお、貯蔵弾性率（Ｅ’）及び損失弾性率（Ｅ”）は、ＪＩＳＫ７２４４に準拠して、以下の方法により測定される。まず、凹凸構造層形成用の樹脂組成物を、２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの単膜とする。次いで、２５℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、Ｅ’、Ｅ”が求められる。測定装置としては、例えば、ＵＢＭ製ＲｈｅｏｇｅｌＥ４００を用いることができる。

前記樹脂組成物の硬化物は、防汚性の点からは、平坦な硬化膜表面におけるｎ−ヘキサデカンの接触角が３０度以下、又はオレイン酸の接触角が２５度以下であることが好ましい。樹脂組成物の平坦な硬化膜表面が上記のような親油性を有することにより、凹凸構造層２０の凹凸面２１に付着した油性の汚れが完全に拭取れなかった場合であっても、凹凸構造層２０の凹凸面２１に薄く広がるため、当該汚れが目立たなくなり、拭取り後の視認性が良好になる。また、前記樹脂組成物の硬化物は、表面の拭取り性の点からは、平坦な硬化膜表面における水の接触角が、７０度以上であることが好ましい。

また、用途により、硬化物の表面物性は適宜調整されれば良い。例えば構造体１０を親水性部材として用いる場合には、前記樹脂組成物の硬化物は、平坦な硬化膜表面における水の接触角が、６０度以下であることが好ましく、更に４５度以下であることが好ましい。このような材料を用いて凹凸構造層２０を形成すると、接触角はより親水性が強調され、形状にもよるが通常は、線状凸部２２の長手方向ｄ_２及びその配列方向ｄ_１の両方において、３０度以下の接触角を示すようになる。防曇機能としては、接触角は３０度以下であれば発現するが、より好ましくは２０度以下、更により好ましくは１０度以下である。構造体１０を用いた親水性部材は、一般の、親水性材料を用いた防曇フィルム等に比べると、材料自体の接触角が劣化等により増加した場合でも、凹凸構造層２０での接触角増加は低く抑えられるという特徴がある。

一方、構造体１０を撥水性部材として用いる場合には、前記樹脂組成物の硬化物は、平坦な硬化膜表面における水の接触角が、９０度超過であることが好ましく、更に１００度以上であることが好ましい。このような材料を用いて凹凸構造層２０を形成すると、接触角はより撥水性が強調され、形状にもよるが通常は、線状凸部２２の長手方向ｄ_２及びその配列方向ｄ_１の両方において、１１０度以上の撥水性を示すようになる。

なお、樹脂組成物の硬化物の接触角は、以下のように測定され得る。まず、透明基材上に凹凸構造層用の樹脂組成物を塗布して硬化させて、線状凸部２２を有しない平坦な硬化膜を形成する。当該塗膜側を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に水平に貼り付ける。次いで、前記凹凸構造層２０に接触角を測定しようとする溶剤（水）１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法に従って計測する。測定装置は、例えば、協和界面科学社製接触角計ＤＭ５００を用いて、測定することができる。また、凹凸構造層２０の凹凸面２１における接触角は、同様に測定することができ、溶剤（水）１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法に従って計測する。この際、凹凸面２１における接触角は異方性を有することから、例えば、液滴を滴下した地点における線状凸部２２の長手方向ｄ_２と、線状凸部２２の長手方向ｄ_２に直交する方向の静的接触角を計測する。

凹凸構造層用の樹脂組成物としては、その用途に合わせて、適宜、上記物性が得られるように、選択される。中でも、線状凸部２２の成形性及び機械的強度に優れる点から好適に用いられる、電離放射線硬化性樹脂として好ましく用いられる（メタ）アクリレートを含む樹脂組成物を例にとって、具体的に説明する。

（１）（メタ）アクリレート
（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能（メタ）アクリレートであっても、（メタ）アクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能アクリレートであってもよく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用するものであってもよい。中でも、硬化物が上記貯蔵弾性率（Ｅ’）とｔａｎδを満たしやすく、線状凸部が柔軟性と弾性復元性を両立する点からは、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用することが好ましい。

単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ビフェニロキシエチルアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジル（メタ）アクリレート、ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、硬化物表面の防汚性が向上し、線状凸部２２が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートが好ましく、中でも、炭素数１２以上であることがより好ましく、トリデシル（メタ）アクリレート、及びドデシル（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが更により好ましい。これらの単官能（メタ）アクリル酸エステルは、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートを用いる場合、後述する炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の特性を兼ね備える。

単官能（メタ）アクリレートを用いる場合の単官能（メタ）アクリレートの含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。

また、多官能アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタントリ（メタ）アクリレート、エステルトリ（メタ）アクリレート、ウレタンヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、線状凸部２２が柔軟性及び復元性に優れる点から、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが更により好ましい。

上記多官能（メタ）アクリレートの含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、１０〜９９．２質量％であることが好ましく、１５〜９９．１質量％であることがより好ましい。

（２）炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物
また、電離放射線硬化性樹脂を含む樹脂組成物は、硬化物表面の防汚性が向上し、線状凸部２２が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましい。更に、炭素数１２以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することがより好ましい。炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、例えば、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを有する化合物等が挙げられる。また、後述する凹凸構造層２０の機能を損なわない限り、更に置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、スルホ基の他、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する基等が挙げられる。中でも、電離放射線硬化性を備える点から、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基を有することがより好ましい。なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物が（メタ）アクリロイル基を有する場合、当該化合物は、前記（メタ）アクリレートにも該当し得る。

炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を用いる場合、当該化合物の含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、５〜３０質量％であることが好ましく、１０〜２０質量％であることがより好ましい。

凹凸構造層２０の作製に好ましく用いられる電離放射線硬化性樹脂組成物は、硬化物の貯蔵弾性率、損失正接を上記所定の範囲に調整しやすく、且つ親油性に調整しやすく、優れた乾拭き取り性を得ることができる点から、少なくとも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートと、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートとを含有することが特に好ましい。中でも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートの含有割合が、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレート１００質量部に対して、５〜３０質量部であることが好ましく、１０〜１５質量部であることがより好ましい。また、親水性を高くするために、凹凸構造層２０の作製に好ましく用いられる電離放射線硬化性樹脂組成物は、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートが含まれる組成物である。中でも、当該アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートの含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、７０〜９９質量％であることが好ましく、８０〜９９質量％であることがより好ましい。また、当該アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートの含有量は、使用される全（メタ）アクリレート化合物中に対して８０〜１００質量％であることが好ましく、９０〜１００質量％であることがより好ましい。

（３）光重合開始剤
上記（メタ）アクリレートの硬化反応を開始又は促進させるために、必要に応じて光重合開始剤を適宜選択して用いても良い。光重合開始剤の具体例としては、例えば、ビスアシルフォスフィノキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フォスフィンオキサイド、フェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィン酸エチル等が挙げられる。これらは、単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

光重合開始剤を用いる場合、当該光重合開始剤の含有量は、通常、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０．８〜２０質量％であり、０．９〜１０質量％であることが好ましい。

（４）帯電防止剤
凹凸構造層用の樹脂組成物中に帯電防止剤を含有させてもよい。帯電防止剤を含有することにより、凹凸構造層２０の凹凸面２１に汚れが付着することを抑制することができ、また、拭取り時に汚れが落ちやすい。帯電防止剤は、従来公知のもの中から適宜選択して用いることができる。帯電防止剤の具体例としては、例えば、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、１級〜３級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。中でも、カチオン性化合物が好ましく、３級アミノ基を有するカチオン性化合物がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジオクチル−１−オクタンアミン等のトリアルキルアミンであることが更により好ましい。

帯電防止剤を用いる場合、当該帯電防止剤の含有量は、通常、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して１〜２０質量％であり、２〜１０質量％であることが好ましい。

（５）溶剤
凹凸構造層用の樹脂組成物は、塗工性などを付与する点から溶剤を用いてもよい。溶剤を用いる場合、当該溶剤は、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体的としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、樹脂組成物に用いられる溶剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。

樹脂組成物全量に対する、固形分の割合は２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。なお、本明細における固形分とは、樹脂組成物中の溶剤以外のすべての成分を表す。

（６）その他の成分
凹凸構造層用の樹脂組成物は、後述する凹凸構造層２０の機能を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、フッ素系化合物、シリコーン系化合物、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調整剤、離型剤等が挙げられる。

＜基材＞
次に、凹凸構造層２０と積層された基材１５について説明する。なお、既に説明したように、基材１５は、省略可能である。基材１５は、構造体１０の用途に合わせて適宜選択して用いられれば良い。基材１５は、透明基材に限定されるものではなく、用途に合わせて不透明基材であっても良い。

基材１５が、透明基材である場合、公知の透明基材の中から用途に応じて適宜選択して基材１５として用いることができる。透明基材に用いられる材料の具体例としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の透明樹脂や、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、蛍石等の透明無機材料等が挙げられる。

前記透明基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳＫ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

また、不透明基材に用いられる材料の具体例としては、例えば、各種の金属、不透明のガラス、樹脂材料に無機顔料、発泡剤を混合した不透明樹脂等が挙げられ、その他、樹脂基材に無機スパッタ膜、特に金属スパッタ膜を形成した基材等が挙げられる。

基材１５の形状は、通常フィルム状、シート状、板状、ロッド状、所定形状に成形された成形体などが挙げられるが、かかる例示のみに限定されない。また、大面積の構造体１０とする場合には、製造上、長尺状乃至ロール状の基材を用いることが好ましい。

基材１５の厚みは、構造体１０の用途や形状に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０μｍ以上５０００μｍ以下である。基材１５は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。

基材１５の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。また、基材１５と後述する凹凸構造層２０との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性（耐傷性）を向上させるためのプライマー層を基材上に形成してもよい。このプライマー層は、基材１５および凹凸構造層２０との双方に密着性を有し、可視光を透過するものが好ましい。また基材と凹凸構造層２０の屈折率差により干渉ムラが出る場合にはプライマー層の屈折率を基材と凹凸構造層２０の中間の値に調整することでムラ軽減が可能である。

＜その他の構成＞
構造体１０は、後述する凹凸構造層２０の機能を損なわない範囲において、更にその他の層を有していてもよい。例えば、親水性や撥水性を付与する目的から、凹凸構造層２０の凹凸面２１を損なわない範囲で、フッ素系化合物、およびケイ素系化合物のうちから選ばれる少なくとも１種類の化合物を含む表面処理層を備えていても良い。表面処理層を形成する方法としては、フッ素系化合物、およびケイ素系化合物のうちから選ばれる少なくとも１種類の化合物を溶剤に溶解させた溶液を各種塗布法により塗布した後乾燥する方法などが挙げられる。また、フッ素系化合物又はケイ素系化合物を紫外線硬化樹脂と混合して塗布した後、ＵＶ照射して硬化する方法などが挙げられる。或いは、ＬＢ法、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法、自己組織化法、スパッタ法などにより、表面処理層を形成しても良い。

具体的には、例えば、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン等のケイ素系化合物を蒸着源とした蒸着膜を備えると撥水性が向上した表面となる点から好ましい。また、反応イオンエッチング装置を用いて、テトラフルオロメタンガス等のガス状のフッ素原子及びケイ素原子より選択される１種以上の原子を含む化合物を、プラズマにより、前記凹凸構造層２０の凹凸面２１上に堆積しても良い。

中でも、前記凹凸構造層２０の凹凸面２１に、少なくとも１つの末端に炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基を含有し、酸素原子を含有しない、炭素数１０以下のフッ素化合物を蒸着源とした蒸着膜を備えると、撥水撥油性が向上した表面となる点から好ましい。少なくとも１つの末端に炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基を含有し、酸素原子を含有しない、炭素数１０以下のフッ素化合物としては、例えば、（パーフルオロヘキシル）エチレン、（パーフルオロブチル）エチレン、パーフルオロヘキシルヨージド等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。この場合の蒸着法としては、特にプラズマＣＶＤ法が好適に用いられる。また、凹凸構造層２０の凹凸面２１に、少なくとも１つの末端に炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基を含有し、酸素原子を含有しない、炭素数１０以下のフッ素化合物を蒸着源とした蒸着膜をパターニングしてパターン化された撥水撥油層を設けても良い。

更に、凹凸構造層２０の凹凸面２１に、導電性膜を備えていても良い。例えば、凹凸構造層２０の凹凸面２１に、導電性金属酸化物、導電性有機高分子、導電性金属ナノ粒子及び導電性金属ナノワイヤよりなる群から選択される少なくとも一種を含有する透明導電層を備えていても良い。この場合、構造体１０に反射防止性と導電性を期待できる。

或いは、前記凹凸構造層２０の表面に、金属薄膜を備えていても良い。この場合、構造体１０に透過性又は非透過性金属薄膜による光学効果（例えば、視野角制御性、波長依存性）を期待することができる。凹凸に追従した形状を有する可視光透過性の金属薄膜を備える場合には、構造体１０に、視野角制御性を期待できる。可視光透過性の金属薄膜としては、例えば、スパッタリング法により形成されたアルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも一種からなる金属薄膜が挙げられる。凹凸構造層２０の凹凸面２１を平坦面にして、当該平坦面にスパッタリング法により金属薄膜を形成したと仮定した場合に、厚さ５〜３０ｎｍの金属薄膜が形成される量のアルミニウム及びアルミニウム合金の少なくとも一種からなる金属薄膜であることが好ましい。

また、構造体１０は、凹凸構造層２０の凹凸面２１に、剥離可能な保護フィルムを仮接着した状態で保管、搬送、売買、後加工又は施工を行い、適時、該保護フィルムを剥離除去する形態とすることもできる。これにより、保管、搬送等の間における線状微細凹凸構造体の表面の損傷、汚染を防止することができる。また、後述するように、大面積の凹凸構造層２０を連続的に作製することができることから、長尺の構造体１０を連続的に作製して、図２５に示すように、その長手方向に非平行な軸線を中心として巻取コア１１ａに巻き取り、巻体１１として、保管、搬送、売買等の取り扱いを行うようにしてもよい。

また、構造体１０は、凹凸面２１とは反対側となる面に接着剤層を形成されていてもよい。また、接着剤層に加えて、当該接着剤層の表面に離型フィルムを剥離可能に積層してなる接着加工品として、構造体１０を構成してもよい。接着剤としては、粘着剤（感圧接着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱溶融型接着剤等の公知の接着形態のものが各種使用できる。基材、接着剤層、及び前記任意の層はそれぞれ１層に限定されることなく、使用用途、条件により、適宜２層以上を選定可能である。

＜構造体の作用効果＞
次に構造体１０の作用効果について説明する。

（反射防止性）
まず、構造体１０の凹凸構造層２０は、５００ｎｍ以下の平均配列間隔Ｐ_ａｖｅで配列され且つ各々が配列方向と非平行な方向に延びている複数の線状凸部２２によって形成された凹凸面２１を有している。このような凹凸面２１は、優れた反射防止性能を得ることができる。可視光帯域の全域の光に対して優れた反射防止性能が要求される場合には、線状凸部２２の平均配列間隔Ｐ_ａｖｅを、可視光帯域の最短波長以下、典型的には３８０ｎｍ以下とすることが好ましく、可視光に対するより安定した反射防止性能を期待する観点からは、線状凸部２２の平均配列間隔Ｐ_ａｖｅを、３００ｎｍ以下とすることが好ましく、２００ｎｍ以下とすることがより好ましい。具体的には、構造体１０の凹凸面２１上での５°正反射による反射率を２．０％以下とすることができ、更に好ましくは１．０％以下とする事ができる。正反射による反射率は、(株)島津製作所製のUV-3100を用いてＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定された値とすることができる。なお、本件発明者らが確認したところ、凹凸面２１は、線状凸部２２によって形成され異方性を有した構成となっているが、反射防止性については顕著な異方性は生じなかった。

なお、低屈折率層として形成された従来の反射防止膜での反射率は、スペクトル分布を持つ。具体的には、低屈折率層からなる従来の反射防止膜は、低屈折率層の厚み及び観察方向に応じた特定波長域の光に対して、他の波長域の光に対してよりも、優れた反射防止機能を及ぼす。結果として、観察方向に応じて低屈折率層に色味がついてしまい、当該低屈折率層を介した透視において不都合が生じることがある。一方、低屈折率層からなる従来の反射防止層とは異なり、凹凸構造層２０の凹凸面２１により反射防止機能を発現する構造体１０においては、区画部材１０を観察した際に、観察方向に応じて変化する色味が生じることを効果的に防止することができる。

反射防止特性を有した構造体１０は、例えば、店舗のショーウィンドウや、美術館の展示物の展示窓；時計等、各種計測機器の表示窓表面；道路標識や、ポスター等の各種印刷物；自動車、航空機等の乗り物や、各種建築物の窓等の前面又は両面に配置して、視認性を向上することができる。また、眼鏡、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の各種光学機器や、各種照明機器の窓材として用いることもできる。すなわち、優れた透視性を確保しながら領域を区画する区画部材として、構造体１０をそのまま、或いは、構造体１０を窓等の透光性部材と組み合わせて用いることができる。

（親水性）
線状凸部２２が親水性を有した材料によって形成されている場合、凹凸構造層２０の凹凸面２１は、超親水性を示すようになる。具体的には、平坦な硬化膜表面における水の接触角が９０度未満、好ましくは６０度以下、より好ましくは４５度以下である材料を凹凸面２１に用いると、高い親水性が得られるようになり、例えば、凹凸面２１において、線状凸部２２の長手方向ｄ_２及びその垂直方向である第１方向ｄ_１における水の接触角を３０度以下、より好ましくは２０度以下、更により好ましくは１０度以下とすることができる。更に、構造体１０は、特定の凹凸面２１を有することにより、異方性を有する親水性が得られる。具体的には、線状凸部２２の長手方向ｄ_２は、線状凸部２２が延在する方向と垂直な方向、典型的には線状凸部２２の配列方向である第１方向ｄ_１に比べて濡れ広がりやすくなる。

構造体１０の凹凸面２１が親水性を有する場合、凹凸面２１が水滴で曇ってしまうことを効果的に防止することができる。具体的には、凹凸面２１上に結露等によって水滴が付着したとしても、水滴は凹凸面２１上を薄く延び広がる。この結果、凹凸面２１上での水滴粒子による光の散乱が抑制され、防曇機能が発現される。また、薄く延び広がった水分は、凹凸面２１上から迅速に蒸発する。さらに、表面に薄い水の膜ができることから、汚れが付着しにくく、自己クリーニング性も発現する。この防曇性能は界面活性剤等の添加による親水性付与によるものではなく、親水性樹脂材料と表面微細構造の相乗効果で発現するものであるため、経年で防曇性能が劣化しにくいという特徴もある。また、凹凸面２１をなす線状凸部２２は、親水性に異方性を生じさせ、線状凸部２２の長手方向ｄ_２に沿った水滴等の流路を形成することができる。

親水性を有した構造体１０は、例えば、結露によって視界を悪化させやすい鏡、窓、窓のサッシ、車のサイドミラー、野菜の包装フィルム等に適用することができる。また、構造体１０は、冷蔵冷凍ショーケース等に好適に用いられる。さらに、構造体１０を医療用などの試験シート等に使用することも有効であり、この場合、試薬や検体の流れをスムーズにする効果を期待することができる。

（撥水性）
一方、線状凸部２２が撥水性または撥油性を有した材料によって形成されている場合、凹凸構造層２０の凹凸面２１は、超撥水性または超撥油性を示すようになる。具体的には、平坦な硬化膜表面における水の接触角が９０度超過、好ましくは１００度以上である材料を線状凸部２２に用いると、凹凸面２１に高い撥水性が付与されるようになる。例えば、凹凸面２１において、線状凸部２２の長手方向ｄ_２及びその垂直方向である第１方向ｄ_１における水の接触角が１１０度以上、より好ましくは１４０度以上であるものを得ることができる。且つ、構造体１０は、特定の凹凸面２１を有することにより、異方性を有する撥水性が得られる。

凹凸面２１を撥水及び撥油性が向上した表面とする場合には、撥水撥油性部材として好適に用いられる。当該撥水撥油部材は、撥水性及び／又は撥油性が必要なあらゆる用途に用いることができ、特に限定されないが、例えば、自動車、電車、航空機等の乗り物や建造物等の窓ガラス又は強化ガラス、ミラー、デパート等店舗のショーウィンドウ、商品や美術品のショーケース、ＰＤＡ乃至は携帯情報端末、カーナビゲーションシステム、券売機、ＡＴＭ（現金自動預金支払兼用機）等のタッチパネルディスプレイ及びその他の液晶画面に用いられる液晶保護フィルム、外壁用建材、台所、風呂場、洗面所、トイレ等の水回り空間に使用される透明、不透明を含む一般建材、軟包装品あるいはレトルト食品包装の内面、あるいは粘度の高い液体を内部に有する袋、例えば食品容器やシャンプー容器等の内面等において、撥水撥油効果を発揮して、内容物の内面付着を防止し、かつ最後まで使い切る事が可能となり好ましく用いることができる。

また、凹凸面２１に、撥水撥油層をパターニングした場合、撥水撥油層が設けられていない部分を当該凹凸面２１に付着した液滴を排出するための流路とすることができる。特に線状凸部２２の長手方向ｄ_２と平行に撥水撥油層を設けることによって、凹凸面２１と撥水撥油層の相乗効果により、液滴を排出するための流路として好適に用いられる。例えば、凹凸面２１を傾斜面とすることにより、部材表面に付着した水滴及び油滴は重力に従って移動し、このとき、撥水撥油性能を有する撥水撥油層を避けて、撥水撥油層が設けられていない部分へと集まる。このように、撥水撥油層が設けられていない部分を、水滴及び油滴の流路とすることができ、撥水撥油層がパターン状に配置されてなる構造体１０は、排水排油部材として用いることも可能である。

パターン状の撥水撥油層を有する構造体１０は、特定の濡れ性を利用して、印刷版、カラーフィルター等の印刷用部材、表示用部材、レンズ、輸送用部材、建築装飾用部材等の用途にも幅広く用いることができる。また、パターン状の撥水撥油層を有する構造体１０は、ＤＮＡアレイによる抗原抗体反応の高感度化や、流体セル等の低圧損化を実現し得る。

（その他の作用効果）
構造体１０には、紛体付着抑制効果も期待することができる。構造体１０が親水性の凹凸面２１を有する場合、或いは、撥水性の凹凸面２１を有する場合のいずれも、適宜、無機系粉体、各種ポリマー等の有機系粉体の付着を抑制することができる。中でも、酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛等の金属酸化物を含む粉体の付着を好適に抑制することができる。金属酸化物を含む粉体の具体例としては、パウダーファンデーション、フェイスパウダー、頬紅、アイシャドウ等の化粧品や、パウダーブラスト剤、チョークなどが挙げられる。

更に、凹凸構造層２０の凹凸面２１上に透明導電層が設けられている場合、或いは、凹凸構造層２０自体が透明導電層である場合、構造体１０は、透明導電フィルムとして、タッチパネルや、効果的に結露を検知し且つ汚れが付着しにくいセンサー等に用いることができる。センサーに用いる場合は必ずしも透明でなくてもよい。或いは、前記凹凸構造層２０の凹凸面２１上に、可視光透過性の金属薄膜が設けられている場合には、透過率異方性部材として用いることができ、例えば視野角制御フィルムとして用いることができる。また触媒機能を持った金属薄膜の場合はその触媒活性を増加させることができる。

また、凹凸構造層２０の凹凸面２１が、樹脂組成物の硬化物からなる場合、凹凸面２１は、安定性の面で優れ、長期間安定して上述した物性に関連した機能を発揮し続けることができる。例えば親水性に関して化学的な手法によりロータス効果（はす効果）を発現するような構造と比較して、凹凸構造層２０の寿命は長く、しかも、安価で簡易に形成することができる。

（線状凸部の配列に関する作用効果）
図１及び図２に示された例において、線状凸部２２は、その配列方向である第１方向ｄ_１と非平行な第２方向ｄ_２に直線状に延びている。一方、図３及び図４に示された構造体１０では、線状凸部２２は、折れ線状または波線状のパターンで、その配列方向である第１方向ｄ_１と非平行な第２方向ｄ_２に延びている。このような構造体１０によれば、凹凸面２１上の各位置において、表面張力が最も大きく働く方向が変化する。このため、凹凸面２１上における液滴の挙動が不安定となり、当該液滴が凹凸面２１上を流れやすくすることができる。また、線状凸部２２の長手方向の向きが変化することから、他の部材と組み合わせた際に生じる不具合、例えば、干渉縞や、周期的な配列を有した他の部材、例えば画素配列を有した表示デバイスと組み合わせた際に生じるモアレを、効果的に目立たなくさせることができる。

また、図５に示された例においては、複数の線状凸部２２は、配列方向である第１方向ｄ_１に連続して一定の間隔ｐ_ｘで配列された二以上の線状凸部２２毎に、線状凸部群Ｇを形成している。そして、一つの線状凸部群Ｇに含まれる二以上の線状凸部２２の配列間隔ｐ_ｘは、当該一つの線状凸部群Ｇおよび当該一つの線状凸部群Ｇに隣り合う他の線状凸部群Ｇにそれぞれ属し且つ第１方向ｄ_１に隣り合う二つの線状凸部２２の配列間隔ｐ_ｙよりも、狭くなっている。図５に示された構造体１０によれば、隣り合う二つ線状凸部群Ｇの間となる領域において、凹凸面２１上に位置する液滴または液膜の表面張力が一定ではなくなる。このため、凹凸面２１上における液滴の挙動が不安定となり、当該液滴が凹凸面２１上で流れやすくすることができる。すなわち、液滴が凹凸面２１で停滞することを効果的に防止することができる。また、第１方向ｄ_１に沿った線状凸部２２の配列間隔が一定ではないことから、他の部材と組み合わせた際に生じる不具合、例えば、干渉縞や、周期的な配列を有した他の部材、例えば画素配列を有した表示デバイスと組み合わせた際に生じるモアレを、効果的に目立たなくさせることができる。さらに、第１方向ｄ_１に沿った線状凸部２２の配列間隔が一定ではないことから、波長依存性による反射光の色味を目立たなくさせることができ、さらには、反射光の色味を積極的に制御することもできる。

（線状凸部を支持するベース面の構成に関する作用効果）
さらに、図１６及び図１７に示された例のように、線状凸部２２を支持する本体部２８のベース面２８ａの高さが変動する構造体１０によれば、構造体１０と積層される他の部材や部品との離間間隔を調整することが可能となる。一般に、反射光を低減する観点からは、光の進行方向に沿って隣り合う二つの部材の表面間の距離は、当該光の波長の１／４となっていることが好ましい。そして、構造体１０の領域毎に異なる波長域の光が入射する場合には、構造体１０の入射面をなす凹凸面２１と、構造体１０と積層された部材又は部品の投射面（出射面、発光面）との距離が、入射光の波長に応じて、変動することが好ましい。このような調整が可能であれば、構造体１０は、凹凸面２１に起因した反射防止機能よりも強い反射防止機能を発現することが可能となる。すなわち、図１６及び図１７に示されたベース面２８ａの高さが変動する構造体１０は、極めて優れた反射防止機能を有する反射防止物品として機能する。

ここで図１８及び図１９には、図１６に示された構造体１０を、画素配列を有した表示デバイス３０と組み合わせた例を示している。同様に、図２０及び図２１には、図１７に示された構造体１０を、画素配列を有した表示デバイス３０と組み合わせた例を示している。これらの例において、構造体１０は、表示デバイス３０と組み合わされて表示装置５を構成している。構造体１０は表示デバイス３０と積層され、凹凸面２１が表示デバイス３０に対面している。この構造体１０は、例えば、タッチパネルセンサの電極等を保持する基材等として用いられ得る。図１９及び図２１に示すように、表示デバイス３０は、構造体１０によって規定される第１方向ｄ_１及び第２方向ｄ_２に配列された多数の画素を有している。画素は、赤色画素ＰＲ、緑色画素ＰＧ及び青色画素ＰＢを、サブ画素として含んでいる。赤色画素ＰＲ、緑色画素ＰＧ及び青色画素ＰＢは、この順番で、第１方向ｄ１における一側から他側へ向けて（図１９及び図２１における左側から右側へ向けて）、繰り返し配列されている。一方、第２方向ｄ_２には、同じ種類のサブ画素が、連続して配列されている。

とりわけ図示された例において、表示デバイス３０は、液晶表示パネルとして形成されている。図１８及び図２０には、表示デバイス３０の主たる構成が示されている。図１８及び図２０に示すように、表示デバイス３０は、カラーフィルター基板３１及び駆動基板３６と、これら二つの基板３１，３６間に設けられた液晶層３５と、を有している。構造体１０に対面して配置されたカラーフィルター基板３１は、基材シート３２と、基材シート３２上に設けられ且つサブ画素を画成する赤色着色部３３Ｒ、緑色着色部３３Ｇ及び青色着色部３３Ｂと、サブ画素間に位置するブラックマトリクスＢＭと、を有している。一方、駆動基板３６は、基材シート３７と、基材シート３７上に支持された電極３８及び駆動素子３９と、を有している、電極３８及び駆動素子３９は、各着色部３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂに対応して設けられている。

図１８及び図１９に示された例では、既に説明したように、凹凸構造層２０の各ベース面２８ａは、第１方向ｄ_１に沿って一側から他側へ向けて（図１８における左側から右側へ向けて）、表示デバイス３０に接近していく。そして各ベース面２８ａに対面する位置に、赤色画素ＰＲ、緑色画素ＰＧ及び青色画素ＰＢからなる一つの画素が、配置されている。このような構成においては、第１方向ｄ_１に沿って最も一側に位置する赤色画素ＰＲの領域において、表示デバイス３０から構造体１０の凹凸面２１までの距離が、最も長くなる。そして、第１方向ｄ_１に沿って最も他側に位置する青色画素ＰＢ３の領域において、表示デバイス３０から構造体１０の凹凸面２１までの距離が最も短くなる。したがって、各サブ画素ＰＲ，ＰＧ，ＰＢに対面する領域において、表示デバイス３０から構造体１０の凹凸面２１までの距離を、当該サブ画素ＰＲ，ＰＧ，ＰＢから射出する光の波長の１／４に設定することができる。この場合、表示デバイス３０から構造体１０へ入射する光の凹凸面２１での反射を極めて効果的に防止することができ、当該反射光による不具合、例えば反射光が迷光化してコントラストを低下させてしまうことを効果的に防止することができる。なお、このような機能を実現する観点からして、凹凸構造層２０のシート面に対するベース面２８ａの傾斜角度は、０度よりも大きく０．２５度以下であるように設定することができる。

一方、図２０及び図２１に示された例では、既に説明したように、凹凸構造層２０の本体部２８は、互いに高さが異なる三種類のベース面２８ａを、第１方向ｄ１における一側から他側へ向けて繰り返し含んでいる。そして、一つのベース面２８ａに対して一つのサブ画素が対面するようにして、表示デバイス３０と構造体１０が積層されている。そして、最も高さの低いベース面２８ａに対面する位置に赤色画素ＰＲが形成され、最も高さの高いベース面２８ａに対面する位置に青色画素ＰＢが形成されている。このような構成の表示装置５において、表示デバイス３０から構造体１０の凹凸面２１までの距離は、赤色画素ＰＲの領域において最も長くなり、青色画素ＰＢの領域において最も短くなる。このとき、各サブ画素ＰＲ，ＰＧ，ＰＢに対面する領域において、表示デバイス３０から構造体１０の凹凸面２１までの距離を、当該サブ画素ＰＲ，ＰＧ，ＰＢから射出する光の波長の１／４に設定することができる。この場合、凹凸面２１での反射を極めて効果的に防止することができ、当該反射光による不具合、例えば反射光が迷光化してコントラストを低下させてしまうことを効果的に防止することができる。

上述したように、凹凸面２１は優れた反射防止性能を有しているが、反射光はいくらか生じてしまう。そして、図１８〜図２１に示された構造体１０によれば、わずかに生じ得る反射光についても対処することができ、これにより、極めて優れた反射防止機能を発現することが可能となる。

［構造体１０の製造方法］
次に、上述してきた構造体１０の製造方法について説明する。構造体１０の製造方法は、賦型用のロール型５０を製造する工程と、前記ロール型５０を使用した賦型処理により、前記凹凸面２１を形成する工程と、を有する。以下、各工程について説明する。

＜賦型用ロール金型を製造する工程＞
主として図２２〜図２４を参照し、まず複数の線状凸部２２を含む構造体１０を製造するために用いられるロール型５０について説明し、その後に、ロール型５０の製造方法について説明する。なお、図２２は、ロール型５０の中心軸線に沿った断面を示す断面図である。図２３は、ロール型５０の製造方法を示す図である。図２４は、ロール型５０の製造に用いられるバイトを示す図である。

図２２及び図２３に示すように、ロール型５０は、円筒状の型面５１を有している。この型面５１は、凹凸構造層２０の凹凸面２１を賦型するための型面である。したがって、型面５１は、凹凸面２１と相補的な構成を有している。型面５１には、型面５１の中心軸線ＣＡを中心として螺旋状に延びる少なくとも一条の線状凹部５２が、設けられている。中心軸線ＣＡに沿ったロール型５０の断面における線状凹部５２の断面形状は、凹凸構造層２０の主切断面における線状凸部２２の断面形状と相補的な形状となっている。

まず、型面５１上における中心軸線ＣＡと平行な方向に沿って隣り合う二つの線状凹部５２の配列間隔ｐ_ｍの平均である平均配列間隔Ｐ_ｍａｖｅは、５００ｎｍ以下となっている。隣り合う二つの線状凹部５２の平均配列間隔Ｐ_ｍａｖｅは、作製されるべき凹凸構造層２０の隣り合う二つの線状凸部２２の配列間隔Ｐ_ａｖｅに応じて調節することができる。中心軸線ＣＡに沿って隣り合う二つの線状凹部５２の中心軸線ＣＡに沿った間隔ｐ_ｍは、例えば、図２２に示すように当該二つの線状凹部５２の最深部５２ａ間の中心軸線ＣＡに沿った距離として、或いは、当該二つの線状凹部５２の同一側の基端部５２ｂ間の距離として、特定され得る。図２２及び図２３に示された例において、中心軸線ＣＡと平行な方向に沿って隣り合う二つの線状凹部５２の配列間隔ｐ_ｍは、一定となっている。そして、隣り合う線状凹部５２は、互いに平行に延びている。

図２２に示すように、線状凹部５２は、基準面５８ａに形成されている。すなわち、線状凹部５２の基端部５２ｂは、基準面５８ａ上に位置している。図２２に示された例において、基準面５８ａは、円筒状の面となっている。基準面５８ａを基準とした、線状凹部５２の深さｈ_ｍは、作製されるべき線状凸部２２の基準面５８ａからの高さｈに応じて設定される。また、線状凹部５２の幅ｗ_ｍは、作製されるべき線状凸部２２の幅ｗに応じて設定される。

次に、ロール型５０の製造方法について説明する。ロール型５０は、バイト６０を用いて、円柱状母材５９の外周面に、円周方向に沿って並列した複数の線状凹部５２を形成することにより作製され得る。

図２３は、ロール型５０の製造工程を説明するための図である。この製造工程において、まず、円柱状母材５９を準備する。円柱状母材５９としては、繰り返し使用した際に変形および摩耗するものでなければ、特に限定されるものではなく、金属製であっても良く、樹脂製であっても良いが、通常、金属製が好適に用いられる。耐変形性および耐摩耗性に優れているからである。

金属製の円柱状母材５９の材質としては、ニッケル、クロム、ステンレス、鉄、アルミ、銅もしくはそれらの合金を用いることが出来るが、再使用しやすいように前記金属製の円柱状母材の表面に前記材料による金属めっきを施した円柱状母材を用いても良い。円柱状母材５９としては、中空すなわち円筒状であっても良い。また、初めに、切削工程により円柱状母材５９の外周面を平滑化する工程を有していても良い。この場合、円柱状母材５９をその中心軸線ＣＡを回転中心として回転させながら、平滑化用のバイトの刃先を外周面に押圧して、回転軸方向ＣＡに移動させることにより、円柱状母材５９の外周面を平滑化する。必要に応じてバフ研磨や電解研磨等の研磨工程を追加してもよい。また、転写する際に凹凸構造層２０をなす樹脂が円柱状母材５９から剥離しやすいように円柱状母材５９の表面に剥離シリコーン、フッ素系樹脂もしくはＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）などのコーティング、蒸着、もしくはそれらを組み合わせた離型処理を行っても良い。

続いて、線状凹凸形状作製用のバイト６０を用いて、円柱状母材５９の外周面に、円周方向に沿って並列した複数の線状凹部５２を順次形成する。ここで、線状凸部作製用のバイト６０の刃先の形状は、適宜、製造する線状凸部２２に対応した形状とする。図２４に、バイト６０の刃先６１を一部拡大した正面図を示す。正面図における刃先６１は、作製されるべき型面５１と相補的な形状を有しており、さらに、型面５１を用いて賦型される凹凸面２１と対応した形状、理想的には概ね同一な形状を有している。

より具体的には、刃先６１は、配列方向ｄ_ｂに配列された複数の凸部６２を有している。刃先６１における配列方向ｄ_ｂに沿って隣り合う二つの凸部６２の配列間隔ｐ_ｂの平均である平均配列間隔Ｐ_ｂａｖｅは、５００ｎｍ以下となっている。隣り合う二つの凸部６２の平均配列間隔Ｐ_ｂａｖｅは、作製されるべき型面５１の隣り合う二つの線状凹部５２の配列間隔Ｐ_ｍａｖｅに応じて調節することができる。配列方向ｄ_ｂに沿って隣り合う二つの凸部６２の配列方向ｄ_ｂに沿った間隔ｐ_ｂは、例えば、図２４に示すように当該二つの凸部６２の先端部６２ａ間の配列方向ｄ_ｂに沿った距離として、或いは、当該二つの凸部６２の同一側の基端部６２ｂ間の距離として、特定され得る。図２４に示された例において、配列方向ｄ_ｂに沿って隣り合う二つの凸部６２の配列間隔ｐ_ｂは、一定となっている。

また、図２４に示すように、凸部６２は、刃先基準面６８ａから突出している。すなわち、凸部６２の基端部６２ｂは、刃先基準面６８ａ上に位置している。刃先基準面６８ａを基準とした、凸部６２の突出高さｈ_ｂは、作製されるべき線状凹部５２の基準面５８ａからの深さｈ_ｍに応じて設定される。また、凸部６２幅ｗ_ｂは、作製されるべき線状凹部５２の幅ｗ_ｍに応じて設定される。また、図１５に示された凹凸構造層２０のように線状凸部２２の形状や高さが、互いに平行な線状凸部間で周期的に変化する場合には、バイト３１の刃先幅が、少なくとも繰返し周期の幅を含むことが好ましい。

円柱状母材５９をその中心軸線ＣＡを回転中心として回転させながら、線状凹部用のバイト６０の刃先を外周面に押圧して切削するが、このとき、図２３に太矢印で示すように回転軸線ＣＡと平行な方向にバイト６０を連続的に移動させる。バイト６０は、母材５９が一回転する間にバイト６０の刃先６１の幅分だけ、回転軸線ＣＡと平行な方向へ移動する。この結果、刃先６１に含まれる凸部６２の数と同じ条数の線状凹部５２が、母材５９に形成される。なお、バイト６０の刃先６１の幅は、例えば、２０μｍ以上１００μｍ以下程度とすることができるが、これに限定されるものではない。

また、例えば、線状凸部の延在方向において周期的に高さが異なる場合など、一回の切削工程により、製造する凹凸面２１に相補的な形状を作成できない場合には、更に別のバイトを用いて複数回の切削工程を有していても良い。以上のようにして、ロール型５０を製造することができる。

なお、バイト６０の作製は、従来公知の方法を適宜選択して、製造する凹凸面２１の形状に対応した形状となるように行えばよい。このようなロール型５０を用いることから、任意の線状凸部２２を形成し易く、更に、生産性が向上する。とりわけ、陽極酸化やケミカルエッチング、ブラスト等の手法を用いてアルミニウム材料に微細孔を形成することによってモスアイ構造体用の金型を製造することと比較すると、切削加工で型５０を製造する本実施の形態による型の製造方法は、格段に容易且つ安定して実施し得る。

＜凹凸構造層を形成する工程＞
次に、製凹凸構造層２０を製造する工程について説明する。この工程においては、ロール型５０を使用した賦型処理により、前記凹凸面２１を形成する。

例えば、まず基材１５上に、凹凸構造層形成用の樹脂組成物を塗布し、凹凸構造層形成用層（受容層）を形成し、当該凹凸構造層形成用層の表面と所望の線状凹部５２を有する賦型用ロール型５０とを接触させて配置し、圧力をかけることによって、当該凹凸構造層形成用層の金型側表面に線状凸部２２からなる凹凸面２１を形成した後、適宜該樹脂組成物を硬化させることにより凹凸構造層２０を形成し、前記賦型用ロール型５０から剥離する方法等が挙げられる。前記樹脂組成物を硬化させる方法は、該樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択することができる。

図２５に、凹凸構造層形成用の樹脂組成物として電離放射線硬化性樹脂組成物を用い、ロール型５０を使用して、基材１５上に凹凸構造層２０を形成する方法の一例を示す。図２５に示す方法では、樹脂供給工程において、ダイ７１により帯状フィルム形態の基材１５に、未硬化で液状の電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、凹凸構造層２０の受容層２０’を形成する。なお電離放射線硬化性樹脂組成物の塗布については、ダイ７１による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ７２により、凹凸構造層形成用原版であるロール型５０の型面５１に基材１５を加圧押圧し、これにより基材１５に受容層２０’を密着させると共に、ロール型５０の型面５１に作製された線状凹部５２に、受容層２０’を構成する電離放射線硬化性樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させ、これにより基材１５の表面に凹凸構造層２０を作製する。続いて剥離ローラ７３を介してロール型５０から、硬化した凹凸構造層２０と一体に基材１５を剥離する。その後、必要に応じて、基材１５に粘着層等を作製してもよい。

このようにして、線状凸部２２の配列方向である第１方向ｄ_１と非平行な方向に長手方向を有する長尺の構造体１０が製造されていく。図２５に示すように、製造された構造体１０は、長手方向に非平行な軸線を中心として巻き取られ、コア１１ａに巻き取られた巻体１１の形体を有するようになる。或いは、所望の大きさに切断して構造体１０を作製してもよい。以上のようにして、構造体１０は、ロール材による長尺の基材１５に、凹凸構造層形成用原版であるロール型５０の型面５１に作製された凹凸構造層２０を順次賦型して、効率良く大量生産される。

＜ロール型およびロール型を用いた構造体１０の製造方法の変形例＞
図２３及び図２４に示された例において、ロール型５０の線状凹部５２は、線状凹部５２上において直線状に延びている例を示したが、これに限られない。例えば図２６に示すように、線状凹部５２は、折れ線状のパターンで型面５１上を延びるようにしてもよい。図２６に示されたロール型５０によれば、上述した優れた作用効果を奏する図３の凹凸構造層２０を製造することができる。また、図２７に示すように、線状凹部５２は、波線状のパターンで型面５１上を延びるようにしてもよい。図２７に示されたロール型５０によれば、上述した優れた作用効果を奏する図４の凹凸構造層２０を製造することができる。なお、図２６及び図２７は、型面５１を平坦面に展開して示す平面図である。図２６及び図２７に示されたロール型５０は、母材５９の中心軸線ＣＡに沿ったバイト６０の送りを制御することによって実現され得る。したがって、型の製造難易度が大幅に上昇することはない。とりわけ、陽極酸化やケミカルエッチング、ブラスト等の手法を用いてアルミニウム材料に微細孔を形成することによってモスアイ構造体用の金型を製造することと比較すれば、図２６または図２７に示されたロール型５０は格段に容易に製造され得る。

また、図２３及び図２４に示された例において、ロール型５０の線状凹部５２は、中心軸線ＣＡと平行な方向に一定の配列間隔ｐ_ｍで配置される例を示したが、これに限られない。例えば、図２８に示すように、線状凹部５２が、ｎ（ｎは、二以上の自然数）条だけ型面５１に形成され、型面５１上における中心軸線ＣＡと平行な方向に沿って隣り合う二つの線状凹部５２の配列間隔ｐ_ｍｙは、ｎ個おきに、それまでの（ｎ−１）個の間隔ｐ_ｍｘよりも大きくなるようにしてもよい。

図２８に示された例において、ロール型５０に含まれる多数の線状凹部５２は、その配列方向である中心軸線ＣＡと平行な方向に沿った位置に応じて、複数の線状凹部群Ｇ_ｍに区分けされている。各線状凹部群Ｇ_ｍは、複数の線状凹部５２を含んでいる。線状凹部群Ｇ_ｍは、互いに同一の数の線状凹部５２、具体的には六つの線状凹部５２を含んでいる。とりわけ図示された例では、各線状凹部群Ｇ_ｍに含まれる複数の線状凹部５２については、隣り合う二つの線状凹部５２の間隔ｐ_ｍｘが一定となっている。この間隔ｐ_ｍｘは、他の任意の一つの線状凹部群Ｇ_ｍに含まれる複数の線状凹部５２についての間隔ｐ_ｍｘと同一となっている。一方、異なる線状凹部群Ｇ_ｍに属して隣り合う二つの線状凹部５２の間隔ｐ_ｍｙは、任意の一つの線状凹部群Ｇ_ｍに属して隣り合う二つの線状凹部５２の間隔ｐ_ｍｘとは異なっている。そして、間隔ｐ_ｙは、間隔ｐ_ｘよりも広くなっている。

すなわち、図２８に示された例では、複数の線状凹部５２は、中心軸線ＣＡと平行な方向に連続する二以上の線状凹部５２毎に線状凹部群Ｇ_ｍを形成し、一つの線状凹部群Ｇ_ｍに含まれる二以上の線状凹部５２の配列間隔ｐ_ｍｘは、当該一つの線状凹部群Ｇ_ｍおよび当該一つの線状凹部群Ｇ_ｍに隣り合う他の線状凹部群Ｇ_ｍにそれぞれ属し且つ中心軸線ＣＡに平行な方向に隣り合う二つの線状凹部５２の配列間隔ｐ_ｍｙよりも、狭くなっている。図２８に示されたロール型５０によれば、上述した優れた作用効果を奏する図５の凹凸構造層２０を製造することができる。

また、このような型５０は、図２３を参照しながら説明した方法において、バイト６０の送り速度を調節することによって得られる。すなわち、母材５９が中心軸線ＣＡを中心として一回転する間に、中心軸線ＣＡと平行な方向に刃先６１の幅よりも大きな距離だけバイト６０を送ることにより、得られる。より具体的には、配列間隔ｐ_ｍｘと配列間隔ｐ_ｍｙとの差は、母材５９が中心軸線ＣＡを中心として一回転する間に中心軸線ＣＡと平行な方向にバイト６０が進む距離と、バイト６０の刃先６１の幅との差に一致する。したがって、図２８に示されたロール型５０は、図２２及び図２３のロール型５０と同様に、極めて容易かつ安定して作製することができる。むしろ、中心軸線ＣＡと平行な方向へのバイト６０の送り量を高精度に制御する必要がない観点からすれば、図２２及び図２３のロール型５０よりも容易且つ高速で製造することが可能となる。

加えて、バイト６０の送り量の誤差等を原因として、隣り合う二つの線状凹部５２が重なり合ってしまうことをより確実に防止することができる。仮に二つの線状凹部５２が重なり合ってしまった場合には、この型を用いて作製された凹凸構造層は、局所的に大きな幅の線状凸部を含むことになり、この部分において期待された機能を発揮することができなくなる。したがって、図２８のロール型５０によれば、極めて安定して且つ容易に凹凸構造層２０を作製することができ、且つ、得られた凹凸構造層２０が所定の機能を安定して発揮することができる。

また、中心軸線ＣＡと平行な方向へのバイト６０の送り速度を変化させることにより、異なる線状凹部群Ｇ_ｍに属して隣り合う二つの線状凹部５２の間隔ｐ_ｍｙを変動させることができる。このロール型５０を用いて作製された構造体１０では、異なる線状凸部群Ｇに属して隣り合う二つの線状凸部２２の間隔ｐ_ｙが変動し、上述した図５に示された凹凸構造層２０の作用効果がより顕著に得られ得る。

なお、図２６〜図２８では、線状凹部５２の最深部５２ａの位置を示している。

さらに別の変形例として、図２９及び図３０に示すように、凸部６２が設けられている刃先基準面６８ａが母材５９の中心軸線ＣＡに対して傾斜するようにして、母材５９の表面にバイト６０を切り込ませてもよい。図２９に示された例では、図２４と同様のバイト６０を、全体として傾斜させて、母材５９に切り込ませている。一方、図３０に示す例では、バイト６０の刃先６１における刃先基準面６８ａが、バイト６０の長手方向に直交する方向に対して傾斜している。そして、図３０の例では、バイト６０の長手方向を母材５９の中心軸線ＣＡと平行に保ち、当該バイト６０を母材５９に切り込ませている。

図２９又は図３０に示された例によれば、バイト６０の傾斜角度以外の条件を、図２３を参照して説明した上述の条件と同様にして、図１６に示された凹凸構造層２０を作製することができる。図２９及び図３０に示すように、製造されたロール型５０では、中心軸線ＣＡに沿った一側から他側へ向けて中心軸線ＣＡに接近していく刃先基準面６８ａが、中心軸線ＣＡを中心として螺旋状に延び、ｋ（ｋは、二以上の自然数）条の線状凹部５２が、刃先基準面６８ａの長手方向に沿うようにして当該基準面５８ａに形成されている。ここで線状凹部５２の条数であるｋは、刃先６１の刃先基準面６８ａに設けられた凸部６２の数となる。また、型面５１の基準面５８ａは、バイト６０の刃先６１の刃先基準面６８ａによって画成される。

また、図１６に示された凹凸構造層２０を作製するには、図３１に示されたロール型５０によっても製造され得る。図３１に示されたロール型５０の製造方法では、三つの刃先基準面６８ａを有し且つ各刃先基準面６８ａ上に凸部６２が形成されたバイト６０が、用いられている。図示されたバイト６０において、三つの刃先基準面６８ａは同様に形成されている。また、各刃先基準面６８ａには、互いに同一の数の凸部６２が設けられている。この製造方法で得られるロール型５０は、図３１に示すように、中心軸線ＣＡに沿った一側から他側へ向けて中心軸線ＣＡに接近していく三つの基準面５８ａが、中心軸線ＣＡを中心として螺旋状に延び、且つ、複数条の線状凹部５２が、各基準面５８ａの長手方向に沿うようにして各基準面５８ａに設けられる。なお、一つのバイト６０に含まれる刃先基準面６８ａの数は、三つではなく、二つであってもよいし、四以上であってもよい。

図２９〜図３１にそれぞれ示された製造方法で得られるロール型５０では、中心軸線ＣＡを通過する断面において、型面５１は、中心軸線ＣＡと平行な方向に配列された複数の基準面５８ａであって、各々が中心軸線ＣＡに沿った一側から他側へ向けて中心軸線ＣＡに接近していく、複数の基準面５８ａを含み、且つ、各傾斜基準面５８ａに複数個の線状凹部５２が形成されている。そしていずれの方法によっても、図１６に示された凹凸構造層２０を容易且つ安定して作製することができる。加えて、バイト６０の送り量の誤差等により隣り合う二つの線状凹部５２が重なり合ってしまうことを効果的に防止することができる。仮に二つの線状凹部５２が重なり合ってしまった場合には、この型を用いて作製された凹凸構造層は、局所的に大きな幅の線状凸部を含むことになり、この部分において期待された機能を発揮することができなくなる。したがって、図２９〜図３２に示されたロール型５０によれば、極めて安定して且つ容易に凹凸構造層２０を作製することができ、且つ、得られた凹凸構造層２０が所定の機能を安定して発揮することができる。

なお、図２９〜図３１にそれぞれ示された製造方法で得られるロール型５０では、線状凹部５２が形成される基準面５８ａは、中心軸線ＣＡに対して傾斜している。ただし、基準面５８ａは、螺旋状に形成されており、型面５１を全体的に観察した場合、型面５１は円筒状と判断される。

さらに、図３１のロール型５０の製造方法で用いたバイト６０を変形することにより、図１７に示された構造体１０を製造し得るロール型５０を作製することができる。図３２に示す例において、用いられているバイト６０は、三つの刃先基準面６８ａを有し、各刃先基準面６８ａ上に凸部６２が形成されている。図示されたバイト６０において、三つの刃先基準面６８ａは同様に形成されている。また、各刃先基準面６８ａには、互いに同一の数の凸部６２が設けられている。図３２に示すように、刃先６１の刃先基準面６８ａが、母材５９の中心軸線ＣＡと平行となるようにして、母材５９の表面にバイト６０が切り込んでいる。製造された型面５１の基準面５８ａは、バイト６０の刃先６１の刃先基準面６８ａによって画成される。結果として、製造されたロール型５０において、中心軸線ＣＡからの距離が異なる複数の基準面５８ａが、中心軸線ＣＡを中心として螺旋状に延び、複数条の線状凹部５２が、各基準面５８ａの長手方向に沿うようにして各基準面５８ａに形成されている。各基準面５８ａは、中心軸線ＣＡと平行となっている。バイト６０の刃先６１の刃先基準面６８ａの数を変更することにより、製造されたロール型５０の基準面５８ａの数を変更することができる。

図３２に示された製造方法で得られる型面５１では、中心軸線ＣＡを通過するロール型５０の断面において、中心軸線ＣＡからの距離が異なる複数の基準面５８ａが繰り返し配列され、且つ、各基準面５８ａに複数個の線状凹部５２が形成されている。このロール型５０を用いることにより、図１７に示された凹凸構造層２０を容易且つ安定して作製することができる。加えて、バイト６０の送り量の誤差等により隣り合う二つの線状凹部５２が重なり合ってしまうことを効果的に防止することができる。仮に二つの線状凹部５２が重なり合ってしまった場合には、この型を用いて作製された凹凸構造層は、局所的に大きな幅の線状凸部を含むことになり、この部分において期待された機能を発揮することができなくなる。したがって、図３２のロール型５０によれば、極めて安定して且つ容易に凹凸構造層２０を作製することができ、且つ、得られた凹凸構造層２０が所定の機能を安定して発揮することができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

（製造例Ａ 賦型用ロール金型Ａの作製）
幅１３００ｍｍ、直径２９８ｍｍで表面に銅めっきを施した鉄製の円柱状母材５９を準備した。一方で、幅３０μｍの刃先６１に、図３３のような矩形状の凸部６２（配列方向ｄ_ｂに隣り合う二つの凸部６２の配列間隔ｐ_ｂの平均値Ｐ_ｂａｖｅが１５０ｎｍ、凸部６２の幅ｗ_ｂの平均値Ｗ_ｂａｖｅ７５ｎｍ、凸部６２の高さｈ_ｂの平均値Ｈ_ｂａｖｅが７０ｎｍ）を有する切削用バイト６０を準備した。円柱状母材５９を回転させながら、前記切削用バイト６０の刃先６１を母材５９の外周面に押圧して切削し、母材５９が一回転する間にバイト６０の刃先６１の幅３０μｍのピッチだけ回転軸方向ＣＡに移動させることにより、螺旋状の線状凹部５２を複数条形成し、ロール型Ａを作製した。

（製造例Ｂ 賦型用ロール金型Ｂの作製）
バイト６０の凸部６２の形状を、
・配列方向ｄ_ｂに隣り合う二つの凸部６２の配列間隔ｐ_ｂの平均値Ｐ_ｂａｖｅ：２００ｎｍ
・凸部６２の幅ｗ_ｂの平均値Ｗ_ｂａｖｅ：１００ｎｍ
・凸部６２の高さｈ_ｂの平均値Ｈ_ｂａｖｅ：１００ｎｍ
としたことを除き、製造例１と同様にしてロール型Ｂを作製した。

（製造例Ｃ 凹凸構造層形成用樹脂組成物Ａの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の凹凸構造層２０形成用樹脂組成物Ａを調製した。
＜樹脂組成物Ａの組成＞
・エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）ビスフェノールＡジアクリレート６５質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート３５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）１質量部

（実施例１）
図２５に示された上述の製造方法により、構造体１０を製造した。ロール型５０として、製造例Ａのロール型５０Ａを用い、基材１５として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）を用いた。また、ダイ７１により帯状フィルム形態の基材１５に、硬化後の凹凸構造層２０の厚さが２０μｍとなるように、製造例Ｃで得られた凹凸構造層形成用樹脂組成物Ａを塗布した。基材側から２０００ｍＪ／ｃｍ_２のエネルギーで紫外線を照射して凹凸構造層形成用樹脂組成物Ａを硬化させた。その後、ロール型５０より剥離し、実施例１の構造体Ａを得た。作製された構造体Ａについて、主切断面における線状凸部２２の構成は次のようになった。
・配列方向ｄ_ｂに隣り合う二つの線状凸部２２の配列間隔ｐの平均値Ｐ_ａｖｅ：１５０ｎｍ
・線状凸部２２の幅ｗの平均値Ｗ_ａｖｅ：７５ｎｍ
・線状凸部２２の高さｈの平均値Ｈ_ａｖｅ：７０ｎｍ

（実施例２）
実施例１において、ロール型５０として、製造例１のロール型Ａの代わりに、製造例２で得られたロール型Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして構造体Ｂを得た。作製された構造体Ｂについて、主切断面における線状凸部２２の構成は次のようになった。
・配列方向ｄ_ｂに隣り合う二つの線状凸部２２の配列間隔ｐの平均値Ｐ_ａｖｅ：２００ｎｍ
・線状凸部２２の幅ｗの平均値Ｗ_ａｖｅ：１００ｎｍ
・線状凸部２２の高さｈの平均値Ｈ_ａｖｅ：１００ｎｍ

［評価］
＜樹脂組成物の平坦な硬化膜表面における接触角の測定＞
トリアセチルセルロースフィルム上に凹凸構造層形成用樹脂組成物Ａを塗布して硬化させて、線状凸部２２を有しない塗膜を形成した。当該塗膜側表面を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けたものの上に、水１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１０秒後の水の接触角を計測した。上記樹脂組成物Ａの平坦な硬化膜表面における水の接触角は５０度であった。

＜構造体Ａ及びＢの硬化膜表面における接触角の測定＞
実施例１、２で得られた構造体Ａ及びＢの凹凸構造層２０の凹凸面２１を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けたものの上に、水１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１０秒後の水の接触角を測定した。その結果、構造体Ａの線状凸部２２の長手方向における水の接触角は１６度、構造体Ｂにおける線状凸部２２の長手方向における水の接触角は１８度でありいずれも、平坦な硬化膜表面における接触角よりも更に親水性が強調されていることが確認できた。

＜指紋拭き取り試験＞
実施例１、２で得られた構造体Ａ及びＢ２の凹凸構造層２０の凹凸面２１を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、指を押し付けて指紋を付着させた。その後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて指紋を乾拭きした。乾拭きは３ｋｇ／ｃｍ^２程度の力で１０往復行い、拭取り後の外観を評価した。構造体Ａ及びＢ共に、線状凸部２２が柔軟性及び復元性に優れており、その長手方向への拭き取り性に優れ、指紋汚れが視認できなかった。また、拭き取りに際し、線状凸部２２が潰れることはなく、また、線状凸部２２の先端同士の付着は生じなかった。

１０ 構造体
１１ 巻体
１１ａ コア
１５ 基材
２０ 凹凸構造層
２１ 凹凸面
２１ｂ 谷底部
２２ 線状凸部
２２ａ 先端部
２２ｂ 基端部
２８ 本体部
２８ａ ベース面
２８ｂ 接続面
３０ 表示デバイス
３１ カラーフィルター基板
３２ 基材シート
３３Ｒ 赤色着色部
３３Ｇ 緑色着色部
３３Ｂ 青色着色部
ＢＭ ブラックマトリクス
３５ 液晶層
ＰＲ 赤色画素
ＰＧ 緑色画素
ＰＢ 青色画素
３６ 駆動基板
３７ 基材シート
３８ 電極
３９ 駆動素子
５０ ロール型
５１ 型面
５２ 線状凹部
５２ａ 最深部
５２ｂ 基端部
５８ａ 基準面
５９ 母材
６０ バイト
６１ 刃先
６２ 凸部
６２ａ 先端部
６２ｂ 基端部
６８ａ 刃先基準面
７１ ダイ
７２ 押圧ローラ
７３ 剥離ローラ

Claims (13)

1. 凹凸構造層を備える構造体であって、
   前記凹凸構造層は、５００ｎｍ以下の平均配列間隔Ｐ_ａｖｅで配列され且つ各々が配列方向と非平行な方向に延びている複数の線状凸部によって形成された凹凸面を有する、構造体。
2. 前記複数の線状凸部は、折れ線状または波線状のパターンで、前記配列方向と非平行な方向に延びている、請求項１に記載の構造体。
3. 前記複数の線状凸部は、前記配列方向に連続する二以上の線状凸部毎に、線状凸部群を形成し、
   一つの線状凸部群に含まれる二以上の線状凸部の配列間隔ｐ_ｘは、当該一つの線状凸部群および当該一つの線状凸部群に隣り合う他の線状凸部群にそれぞれ属し且つ前記配列方向に隣り合う二つの線状凸部の配列間隔ｐ_ｙよりも、狭い、請求項１または２に記載の構造体。
4. 前記凹凸構造層は、シート状の本体部をさらに有し、
   前記本体部は、前記線状凸部の配列方向に沿って複数のベース面を有し、各ベース面上に二以上の線状凸部が支持され、
   一つのベース面内において、前記凹凸構造層の法線方向に沿った当該ベース面の高さ位置は、前記配列方向に沿って一側から他側へ向けてしだいに高くなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の構造体。
5. 一つのベース面の前記配列方向における他側端での高さ位置は、当該一つのベース面に前記配列方向における他側から隣り合う他のベース面の前記配列方向における一側端での高さ位置よりも低い、請求項４に記載の構造体。
6. 前記凹凸構造層は、シート状の本体部をさらに有し、
   前記本体部は、前記線状凸部の配列方向に沿って複数のベース面を有し、各ベース面上に二以上の線状凸部が支持され、
   前記配列方向に隣り合う二つのベース面の間で、前記凹凸構造層の法線方向に沿った当該ベース面の高さ位置は、互いに異なる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の構造体。
7. 前記凹凸構造層は、シート状の本体部をさらに有し、
   前記本体部は、前記凹凸構造層の法線方向に沿った高さ位置が互いに異なる三つのベース面が前記線状凸部の配列方向に繰り返し配列されるようにして、複数のベース面を有し、
   各ベース面上に二以上の線状凸部が支持されている、請求項１または２に記載の構造体。
8. 前記線状凸部の前記配列方向と非平行な方向に長手方向を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の構造体。
9. 前記長手方向に非平行な軸線を中心として巻き取られている、請求項８に記載の構造体。
10. 前記凹凸構造層の前記凹凸面上での５°正反射による反射率が２．０％以下であり、
    前記凹凸構造層の前記凹凸面上での水に対する接触角が２０°以下である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の構造体。
11. 請求項４又は５に記載の構造体と、
    前記構造体と積層された表示デバイスと、を備え、
    前記表示デバイスは、前記線状凸部の前記配列方向に沿って繰り返し配列された複数種類の画素を含み、
    一つの線状凸部群に対面する位置に、複数種類の画素が一つずつ配置されている、表示装置。
12. 請求項６に記載の構造体と、
    前記構造体と積層された表示デバイスと、を備え、
    前記表示デバイスは、前記線状凸部の前記配列方向に沿って繰り返し配列された複数種類の画素を含み、
    隣り合う二つの線状凸部に対面する位置に、異なる種類の画素がそれぞれ配置されている、表示装置。
13. 請求項７に記載の構造体と、
    前記構造体と積層された表示デバイスと、を備え、
    前記表示デバイスは、前記線状凸部の前記配列方向に沿って繰り返し配列された赤色画素、緑色画素および青色画素を含み、
    前記三つの線状凸部のうちの前記配列方向における最も他側に位置する線状凸部群に対面する位置に、青色画素が配置され、
    前記三つの線状凸部のうちの前記配列方向における最も一側に位置する線状凸部群に対面する位置に、赤色画素が配置され、
    前記三つの線状凸部のうちの前記配列方向における中央に位置する線状凸部群に対面する位置に、緑色画素が配置されている、表示装置。

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