JP2016055506A - フィルムのラミネート装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】積層フィルム9の保護フィルム16を剥離して、基板4a、4b、4cに貼り付けるフィルムのラミネート装置において、ラミネート前に基板4a、4b、4cの長さを測長し、投入する基板4a、4b、4cの長さに応じて、フィルム貼り付け長さを変化させるため、ナイフエッジ部14とハーフカット位置の間に、基板4a、4b、4cの長さに応じてフィルム貼り付け長さを変化させるフィルム長さ調整機構13を備え、れにより積層フィルム9を基板貼り付け長さ1枚分の位置でラミネート前にハーフカットし、連続した保護フィルム16を、ラミネーションロール20近傍に設けたナイフエッジ部14まで、積層フィルム9から保護フィルム16を剥離しないで搬送するようにするフィルムラミネート装置。
【選択図】図1
Description
基板の小型化に対しては、基板に形成するパターンの微細化と基板の多層化とが進められ、軽量化は基板の薄型化が進められている。
ここでパターンの形成は、主にフォトリソグラフィ工程と呼ばれるもので、銅張積層板に感光性ドライフィルム等の積層フィルムをラミネートし、その後に、露光、現像、エッチング又はメッキ処理を行い、パターンを形成するものである。
以下、感光性ドライフィルム等を積層フィルムと称する。
このベースフィルムの微細傷は、露光時に紫外線の散乱等で照度を低下させ、レジスト硬化不足により基板とレジストの密着不良が発生する。このレジスト密着不良は、後のエッチング工程で、銅を溶かしてパターンを形成するエッチング液が密着不良部分に侵入し、パターンを削る不良又はパターンを断線する不良が発生する。
また、レジストを隔壁とし、銅メッキを立ち上げることでパターンを形成する方法では、パターン間のレジスト密着不良により隔壁下部が欠損し、銅メッキ液が隔壁間に侵入し、パターン間が短絡状態となる不良が発生する。
この原因は、保護フィルムを剥離したレジスト面がウェットな状態であることと、保護フィルムを剥離時に剥離帯電の静電気により、周囲環境及び装置の駆動源等から発生する浮遊異物が、静電気によりレジスト面に付着するためである。
また、フィルム切断時に発生するレジストチップ及びベースフィルムの切断チップ等の異物が貼り付け基板上に落下すると、レジストと基板間に異物が混入し、レジスト密着不良が発生する。この場合、上記記載のレジスト密着不良と同様な不良が発生する。
レジスト面への異物付着防止対策として、ラミネート前に離型紙を、フィルムが被覆される直前に剥離する方法が提案されている(特許文献2参照。)。
一般的なフィルム切断方法は、特許文献2に開示されているように、ラミネート途中に基板長さに応じて積層フィルムの後方を吸着保持しながら切断し、積層フィルム後方を吸着しながら滑らせる。
この方式での課題は、フィルム吸着による積層フィルムに発生する微細傷である。
また、この切断方法の課題は、切断によって発生する積層フィルムからの切断チップが貼り付け基板上に落下し、密着不良を起こすことである。
このフィルム保持張力が小さくなると、積層フィルムの弛みによりしわが発生し、転写される可能性がある。また、フィルム保持張力が大きくなると、フィルム流れ方向に縦しわが発生し、転写される可能性がある。
このことから、フィルム保持張力は、積層フィルムの幅及び厚さ等により最適値を保持し、変動させないことが課題である。
また、ラミネート中はフィルム切断等のフィルム保持張力を変動させないことが、品質向上に繋がる。
フィルムの保持張力変動を無くする対策として、フィルムカット時にフィルム流れを停止することが考えられるが、ラミネーションロールはレジスト特性により、ロールの表面温度を約110℃にする必要がある。ラミネート中にフィルム流れを停止することで、ラミネーションロールと接触したレジスト部分に熱ムラの発生による品質不良及びレジストの染み出しによる膜厚の変化が発生する。
また、ナイフエッジ部で保護フィルムを剥離するが、ナイフエッジ部で保護フィルムを滑らせることで、摩擦帯電により静電気が発生し、ナイフエッジ部先端から露出した貼り付け面に異物を付着させる課題がある。
このため、露出したレジスト面は、異物の付着及び吸湿等により、レジスト表面が変質する。このため製造現場では、基板待機時間が長くなると装置を手動運転に切り替えて、露出したレジスト部分を切断除去する作業が行われている。
この作業は、自動運転ラインで自動運転を停止し、人手作業にて実施するため、生産効率を低下させる課題がある。
また、フィルム保持張力は、積層フィルムの幅及び厚さ等により最適値を保持し、変動させない課題に対して、ラミネート前にハーフカットを行い、ラミネート中はフィルム保持張力を一定とし、フィルム切断をラミネート中に行わない手段で、解決するものである。
より具体的には、基板の搬送手段を備え、積層フィルムの保護フィルムを剥離して、基板に貼り付けるフィルムのラミネート装置において、ラミネート前に基板の長さを測長し、投入する基板の長さに応じて、フィルム貼り付け長さを変化させるため、ナイフエッジ部とハーフカット位置の間に、基板の長さに応じてフィルム貼り付け長さを変化させるフィルム長さ調整機構を備え、該フィルム長さ調整機構により積層フィルムを基板貼り付け長さ1枚分の位置でラミネート前にハーフカットし、連続した保護フィルムを、フィルム搬送手段により、ラミネーションロール近傍に設けたナイフエッジ部まで、積層フィルムから保護フィルムを剥離しないで搬送するようにしたことを特徴とする。
1.不良低減内容
(1)露光障害となる積層フィルムの微細傷を防止
(2)レジスト密着不良を起こす積層フィルム切断チップの混入防止
(3)事前ハーフカット切断によるフィルム保持張力均一化としわ発生の防止
(4)レジスト密着不良を起こす微小異物付着を静電気除去により防止
(5)基板待機中は、レジストを露出させないため、異物付着及び変質防止
2.その他の効果
フィルム搬送及びフィルム保持に吸着機構を用いないため、この装置を真空室に入れることで、真空中のラミネート装置が容易に構成可能である。この真空ラミネータは、大気中でラミネートするときに混入するマイクロボイド(微小気泡)を防止し、微細パターン形成時の不良低減に貢献する。
図1は当該形態に係るラミネート装置の側面図を示し、基板の両面に積層フィルムをラミネートする形態を示すもので、フィルムラミネート部2では、ラミネート直前の状態を示す。
装置の構成は、基板投入コンベア部1とフィルムラミネート部2と基板搬出コンベア部3及びこれらを制御する図示していない制御装置から構成される。なお、フィルムラミネート部2は上下対称のため、下側の符号を省略する。
この目的は、ラミネート前に、基板4aの長さを検出し、その情報により積層フィルム貼り付け長さを決定し、積層フィルム9をラミネート前にハーフカットユニット10及びカッタ受け11でハーフカット切断するためである。
また、基板4a先端のラミネート位置停止は、指定された貼り付け位置に積層フィルムを貼り付けるために図示していない制御装置で設定する。
ハーフカットユニット10及びカッタ受け11では、投入された基板4aの貼り付け長さに応じた長さに、積層フィルム9の保護フィルム16を残してベースフィルム及びレジストを切断する。このように積層フィルムのすべての厚みを切断するのでなく、ハーフカットユニット10の反対側である保護フィルムを残して切断することをハーフカットと称する。
ここで、積層フィルム9をハーフカットするときに発生する切断チップは、下部に設けた切断チップ落下防止カバー12にて回収し、ラミネーションロール20の貼り付け部に落下させない構造としている。また、回収した切断チップは、吸引にて自動廃棄も可能である。
このナイフエッジ部14の材質は、積層フィルム9を搬送処理又は保護フィルム剥離時に発生した静電気を除電するため、導電性の部材を用いるものとし、筐体アースに配線接続して、静電気を逃がす構造としている。また、市販の除電バーを併用設置することで、更に除電効果が向上する。
また、フィルム巻出ユニット8は、トルクモータ等でフィルム巻出軸にブレーキトルクを発生させて、ラミネート時の積層フィルムの保持張力を最適化する。
また、保護フィルム16の巻取りは、保護フィルム送りロール17にて保護フィルム16を引き出し、保護フィルム巻取ユニット19にて巻取り回収する。この保護フィルム送り速度は、ラミネーションロール20のラミネート速度と同期するようにローラ駆動用サーボモータ18で制御する。
次に保護フィルム送りロール17で、積層フィルム9をクランプ固定する。このとき、フィルム引き出し調整ユニット13のローラ位置は、基板貼り付け長さが最も短い位置となる原点位置とし、ローラ移動の左端位置とする。
次にフィルム巻出ユニット8及び保護フィルム巻取ユニット19に図示していないトルクモータ等で、積層フィルム9に保持張力をかける方向に、回転トルクを与える。
次にハーフカットユニット10及びカッタ受け11にて、積層フィルム9の保護フィルムを残してハーフカットユニット10側のベースフィルム及びレジスト層をハーフカットする。
次に保護フィルム送りロール17をローラ駆動用サーボモータ18にて回転駆動させて積層フィルム9を引き出し、ナイフエッジ部14の先端で、積層フィルム先端15が一致するように、ローラ駆動用サーボモータ18で積層フィルム9を引き出す。
以上の動作にて、積層フィルム9をラミネートする準備が完了する。
ラミネーションロール20の上下ロールを図示しないエアーシリンダ等を用いて、積層フィルム先端15の位置で基板4bを挟んで、ラミネーションロール20をクランプし、クランプした状態でラミネーションロール20を回転駆動する。回転駆動源は、図示していないサーボモータ又は速度コントロールモータ等を使用し、ラミネート動作を開始する。
ラミネート条件は、基板厚みと積層フィルムの特性により異なるが、一般的にラミネーションロール20のゴム表面は、積層フィルム9のメーカ推奨条件である約110℃に加熱されて、加圧力約0.3MPa、速度約3m/minで積層フィルムをラミネートする。
ここで、フィルム巻出ユニット8でフィルム保持張力を制御し、積層フィルム9のフィルム保持張力一定化が重要なラミネート条件となる。フィルム保持張力は、積層フィルム9の幅及び厚み等により異なるが、一般的なフィルム保持張力の最適値は、約9.8N/フィルム500mm幅が目安となる。
微細パターン形成のラミネート条件であるフィルム保持張力の実施例として、フィルム巻出ユニット8のフィルム巻径は、積層フィルム9の消費により、巻径が小さくなるため、フィルム巻出ユニット8を制御するトルクモータ等のトルク一定では、巻径が小さくなるに従い、積層フィルム9に作用するフィルム保持張力が増加する。
このため、超音波センサ又は光電センサ等でフィルム巻径を測定し、巻径が小さくなるに従いフィルム巻出ユニット8に作用させるトルクは、積層フィルム9の巻径に比例して減少するように制御を行う。
ラミネーションロール20でラミネート済み積層フィルム21を貼り付けて、基板4aの長さより設定された積層フィルム貼り付け長さにより、ラミネート終端位置でラミネーションロール20のクランプを開くことで、ラミネート動作を完了する。
ここでラミネート動作完了時、積層フィルム先端15は、ナイフエッジ部14の先端でフィルム流れを止めるように保護フィルム送りロール17の回転を制御する。実施方法は、ナイフエッジ部14の先端とラミネーションロール20のクランプ位置までの一定距離に対して、保護フィルム送りロール17の回転量をローラ駆動用サーボモータ18で制御する。
図1で、次に投入される基板4bのラミネート位置への到着で、ローラ駆動用サーボモータ18を回転駆動させて、積層フィルム先端15をラミネート位置まで送り出し、上記と同様にラミネートを開始する。
2 フィルムラミネート部
3 基板搬出コンベア部(搬送手段)
4a、4b、4c 基板
5 基板検出センサ
6 基板先端位置決めセンサ
7 コンベアローラ回転検出器
8 フィルム巻出ユニット
9 積層フィルム
10 ハーフカットユニット
11 カッタ受け
12 切断チップ落下防止カバー
13 フィルム引き出し調整ユニット(フィルム長さ調整機構)
14 ナイフエッジ部
15 積層フィルム先端
16 保護フィルム
17 保護フィルム送りロール
18 ローラ駆動用サーボモータ
19 保護フィルム巻取ユニット
20 ラミネーションロール
21 ラミネート済み積層フィルム
Claims (4)
- 基板の搬送手段を備え、積層フィルムの保護フィルムを剥離して、基板に貼り付けるフィルムのラミネート装置において、ラミネート前に基板の長さを測長し、投入する基板の長さに応じて、フィルム貼り付け長さを変化させるため、ナイフエッジ部とハーフカット位置の間に、基板の長さに応じてフィルム貼り付け長さを変化させるフィルム長さ調整機構を備え、該フィルム長さ調整機構により積層フィルムを基板貼り付け長さ1枚分の位置でラミネート前にハーフカットし、連続した保護フィルムを、フィルム搬送手段により、ラミネーションロール近傍に設けたナイフエッジ部まで、積層フィルムから保護フィルムを剥離しないで搬送するようにしたことを特徴とするフィルムのラミネート装置。
- 積層フィルムをハーフカットするとき、切断チップを貼り付け基板上に落下させないための切断チップの落下防止カバーを設けるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のフィルムのラミネート装置。
- 保護フィルムを剥離するナイフエッジ部は、導電性部材にて構成し、保護フィルム剥離時等に発生する静電気を、筐体アースに落とす機構を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のフィルムのラミネート装置。
- ラミネート動作を行わない待機中の状態では、次の基板に貼り付けする積層フィルムの保護フィルム剥離は、次の基板が投入されるまで実施せず、レジスト面等の貼り付け面を露出させないようにしたことを特徴とする請求項1、2又は3に記載のフィルムのラミネート装置。
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