JP2016044338A - 造形方法および造形物 - Google Patents

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Abstract

【課題】立体物を三次元造形により造形する際にサポート部をより簡便に除去できる造形方法および造形物を提供する。【解決手段】立体物1を造形する造形方法は、本体部10用の第1の金属とサポート部20用の第2の金属とを用いて、本体部10とサポート部20とで構成される直方体1aを造形する工程と、直方体1aを電解質溶液9に浸漬しサポート部20に電流を流して、直方体1aからサポート部20を除去する工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】図2

Description

本発明は、造形方法および造形物に関する。
中空形状や庇形状などを有する立体物を金属で造形する際には、従来は、鋳型を用いた鋳造による方法や、直方体状のブロックから切削などの機械加工により不要部分を除去する方法が用いられていた。鋳造による方法では、鋳型の製造が必要であるが、鋳造後の仕上げ加工も必要となり、立体物が中空状態の場合は複数の鋳型が必要となるという課題があった。機械加工による方法では、切削加工に多大な工数を要する。したがって、これらの方法では、造形のための工数やコストが多大なものとなるという課題があった。
特許文献1には、金属粉末の層を配置してその金属粉末層のうち本体部(タイヤ製造用コア)となる部分にレーザー光を照射して焼結させ、その上に金属粉末層を積層配置し焼結する工程を繰り返すことで、三次元造形により立体物を造形する方法が開示されている。特許文献1に記載の技術では、本体部全体の焼結が完了した後、本体部以外の部分(サポート部)の焼結されていない金属粉末を除去することにより、従来の方法よりも少ない工数で本体部からなる立体物(タイヤ製造用コア)が得られる。
特開2003−320595号公報
しかしながら、特許文献1に記載の技術では、立体物を造形する過程において、焼結される本体部以外の部分(サポート部)は金属粉末のままの状態で積層される。そのため、サポート部が本体部と同様の強度を有していないので、サポート部と本体部とを同様に取り扱うことができず、例えば振動や衝撃などによりサポート部の一部が崩れて(移動して)しまうと、その上に形成される本体部の形状が所望の形状とならないおそれがある。また、本体部全体の焼結が完了した後にサポート部の金属粉末を除去する際に、例えば静電気などにより、サポート部の金属粉末の一部が本体部の表面に付着(残留)してしまうおそれがある。したがって、鋳造による方法や機械加工による方法よりも簡便な造形方法であって、より容易かつ精度よく立体物を造形でき、より確実にサポート部を除去できる方法が求められている。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例に係る造形方法は、第1の部分用の第1の金属と第2の部分用の第2の金属とを用いて、前記第1の部分と前記第2の部分とで構成される造形物を造形する工程と、前記造形物を電解質溶液に浸漬し前記第2の部分に電流を流して、前記造形物から前記第2の部分を除去する工程と、を含むことを特徴とする。
本適用例の造形方法によれば、第1の金属と第2の金属とを用いて第1の部分と第2の部分とで構成される造形物を造形するので、例えば、中空形状や庇形状などを有する造形物を、第1の部分を本体部とし第2の部分をサポート部として容易に造形することができる。そして、造形物を電解質溶液に浸漬し第2の部分に電流を流すことで、第2の金属を酸化させイオン化させて第2の部分を除去できるので、従来のように鋳型や機械加工を必要とせず容易に立体物を造形することができる。
[適用例2]上記適用例に係る造形方法であって、前記造形物を造形する工程では、前記第1の金属と前記第2の金属とを焼結することが好ましい。
本適用例の造形方法によれば、造形物を造形する工程で第1の金属と第2の金属とを焼結するため、第2の部分(サポート部)が第1の部分(本体部)と同様の強度を有し第2の部分を第1の部分と同様に取り扱えるので、より容易かつ精度よく立体物を造形することができる。また、第2の部分を除去する工程では、焼結された状態の第2の金属がイオン化されて除去されるため、第2の部分を容易に除去でき、第1の部分の表面に第2の金属の一部が残留することを抑止できる。
[適用例3]上記適用例に係る造形方法であって、前記第2の金属の酸化電位は前記第1の金属の酸化電位よりも低いことが好ましい。
本適用例の造形方法によれば、第2の金属の酸化電位は第1の金属の酸化電位よりも低いので、第2の部分を除去する工程において印加する電位の設定により、第1の金属を酸化させることなく第2の金属を酸化させることが可能となる。これにより、第2の金属をイオン化させて第2の部分を選択的に除去することが可能となる。
[適用例4]上記適用例に係る造形方法であって、前記第2の部分を除去する工程では、前記造形物に、前記第2の金属の酸化電位以上、かつ、前記第1の金属の酸化電位未満の電位を印加することが好ましい。
本適用例の造形方法によれば、第2の部分を除去する工程で造形物に第2の金属の酸化電位以上、かつ、第1の金属の酸化電位未満の電位を印加するので、第1の金属を酸化させることなく第2の金属を酸化させイオン化させることができる。これにより、第1の部分を残しつつ、第2の部分を容易かつ確実に除去することができる。
[適用例5]適用例に係る造形物は、第1の部分用の第1の金属と第2の部分用の第2の金属とを用いて造形され、前記第1の部分と前記第2の部分とで構成される造形物であって、前記第2の金属の酸化電位は前記第1の金属の酸化電位よりも低いことを特徴とする。
本適用例の構成によれば、造形物は第1の部分用の第1の金属と第2の部分用の第2の金属とを用いて造形されているので、例えば、中空形状や庇形状などを有する造形物を、第1の部分を本体部とし第2の部分をサポート部として容易に造形することができる。そして、造形物を電解質溶液に浸漬し第2の部分に電流を流すことで、第2の金属を酸化させイオン化させて第2の部分を容易に除去できるので、従来のように鋳型や機械加工を必要とせず容易に立体物を造形することができる。
[適用例6]本適用例に係る造形物は、第1の部分用の第1の金属と第2の部分用の第2の金属とを用いて造形された後、前記第2の部分が除去された造形物であって、前記第2の金属の酸化電位は前記第1の金属の酸化電位よりも低いことを特徴とする。
本適用例の構成によれば、造形物は第1の部分用の第1の金属と第2の部分用の第2の金属とを用いて造形された後、第2の部分が除去されたものであるので、例えば、中空形状や庇形状などを有する造形物を、第1の部分を本体部とし第2の部分をサポート部として容易に造形することができる。そして、造形物を電解質溶液に浸漬し第2の部分に電流を流すことで、第2の金属を酸化させイオン化させて第2の部分を容易に除去できるので、従来のように鋳型や機械加工を必要とせず容易に立体物を造形することができる。
本実施形態に係る造形物としての立体物を示す斜視図。 本実施形態に係る立体物の造形方法を説明する断面図。 本実施形態に係るサポート部を除去する方法を説明する図。 変形例にかかる造形方法を説明する断面図。
以下、本発明を具体化した実施形態について図面を参照して説明する。
<造形物>
まず、本実施形態に係る造形物としての立体物について、図1を参照して説明する。図1は、本実施形態に係る造形物としての立体物を示す斜視図である。図1に示すように、本実施形態に係る立体物1は、第1の部分としての本体部10からなる。本体部10は、基部11と庇部12とを有している。本体部10の上面(図1に示す上方側の面)は、略長方形であり、基部11と庇部12とに亘る領域を有している。本体部10は、金属(第1の金属)からなる。
本体部10の上面の長辺に沿った方向をX方向とし、上面の短辺に沿った方向でありX方向と交差する方向をY方向する。本体部10の厚さ方向であり、X方向およびY方向と交差する方向をZ方向とする。本体部10は、基部11の上方(+Z方向)側から庇部12が+X方向側に延出した形状を有している。本体部10は、上面と同じ大きさの底面を有する直方体から、庇部12の下方(−Z方向)側の部分を取り去った形状を有している、ともいうことができる。
<造形方法>
本実施形態に係る立体物1(本体部10)は、三次元造形により造形される。より具体的には、三次元CADなどにより設計した図1に示すような立体物1の完成形状の三次元データに基づいて、立体物1をX方向とY方向とで構成される平面を有する薄板状に分割したデータを作成する。そして、3Dプリンターやディスペンサーなどを用いて、その薄板状の層を一層ずつ形成し+Z方向に積層することにより、立体物1が造形される。
図1に示す立体物1(本体部10)の下方(−Z方向)側は基部11のみであるが、上方(+Z方向)側は基部11と庇部12とが存在する。換言すれば、基部11は接地される部分であり、庇部12は空間に浮いた部分である。そのため、X方向とY方向とで構成される平面を有する薄板状の層を積層して立体物1を造形する際には、庇部12を下方側で支える部材が必要となる。
本実施形態では、立体物1を造形する際に、本体部10の庇部12を支える部材として、第2の部分としてのサポート部20(図2(e)参照)を本体部10とともに形成し、本体部10が形成された後にサポート部20を除去する。したがって、上述の立体物1を薄板状に分割したデータは、本体部10とサポート部20とを含む。サポート部20は、金属(第2の金属)からなる。
本体部10用の金属(第1の金属)およびサポート部20用の金属(第2の金属)は、サポート部20用の金属の酸化電位が本体部10用の金属の酸化電位よりも低い組み合わせとなるように選択される。例えば、本体部10用の金属が銀(Ag)でサポート部20用の金属が銅(Cu)、本体部10用の金属が銅(Cu)でサポート部20用の金属が錫(Sn)、本体部10用の金属が錫(Sn)でサポート部20用の金属が亜鉛(Zn)などの、異なる組み合わせを用いることができる。
以下に、本実施形態に係る造形方法について、図2および図3を参照して説明する。図2は、本実施形態に係る立体物の造形方法を説明する断面図である。図2は、図1のA−A’線に沿った断面図に相当する。図3は、本実施形態に係るサポート部を除去する方法を説明する図である。
図2(a)に示すように、本体部10用の金属の材料を、本体部10を薄板状に分割したデータに対応する本体部金属材料層10aとして、基材30上の基部11が設けられる領域に配置する。また、サポート部20用の金属の材料を、サポート部20を薄板状に分割したデータに対応するサポート部金属材料層20aとして、基材30上の庇部12が設けられる領域と平面視で重なる領域に配置する。
本体部10用の金属の材料とサポート部20用の金属の材料としては、例えば、粉末状の金属や、金属粉末がバインダーなどを介してペースト状にされたものなどが用いられる。本体部10用の金属の材料およびサポート部20用の金属の材料として、ワイヤー状またはテープ状のものを用いてもよい。なお、基材30は、立体物1を造形する工程において、本体部10(本体部金属材料層10a)とサポート部20(サポート部金属材料層20a)とを支持するためのものである。
次に図2(b)に示すように、本体部金属材料層10aとサポート部金属材料層20aとを、例えばレーザー光を照射することにより焼結して、薄板状の本体部金属層10bとサポート部金属層20bとする。続いて、図示を省略するが、薄板状の本体部金属層10bとサポート部金属層20bとの上に、図2(a)に示す本体部金属材料層10aとサポート部金属材料層20aとを配置し、焼結して、薄板状の本体部金属層10bとサポート部金属層20bとする。
図2(c)に示すように、上述の本体部金属材料層10aとサポート部金属材料層20aとを配置して焼結する工程を繰り返すことで、薄板状の本体部金属層10bとサポート部金属層20bとがそれぞれ順次積層され一体化される。そして、その上にさらに本体部金属材料層10aとサポート部金属材料層20aとを配置して焼結する。造形される本体部10において基部11のみで庇部12を含まない層までは、基部11が設けられる領域に本体部金属層10bが積層され、庇部12が設けられる領域と平面視で重なる領域にサポート部金属層20bとが積層される。
このように、直方体1aを形成する工程で、本体部金属材料層10aとサポート部金属材料層20aとの双方を焼結するため、サポート部金属層20bが本体部金属層10bと同様の強度を有するので、より容易かつ精度よく直方体1aを形成することができる。
図2(d)に示すように、造形される本体部10において基部11と庇部12とを含む層からは、基部11が設けられる領域と庇部12が設けられる領域とに、本体部金属材料層10aのみが配置されて焼結されることにより、本体部金属層10bが積層されていく。
図2(e)に示すように、本体部金属層10bが最上層まで積層されることにより、本体部10とサポート部20とで構成される直方体1aが形成される。直方体1aにおいて、サポート部20は、庇部12を支えるように、庇部12と基材30との間に位置している。
次に、直方体1aを基材30から取り外した後、直方体1aからサポート部20を除去する。直方体1aからサポート部20を除去する工程では、例えば、図3に示すポテンショスタット5が用いられる。図3に示すように、ポテンショスタット5には、直方体1a(作用電極)と、対向電極6と、参照電極7とが接続される。直方体1aと対向電極6と参照電極7とは、溶液層8に収容された電解質溶液9に浸漬される。
ポテンショスタット5により、参照電極7を基準として直方体1aに所定の電位を一定の値で印加する。上述したように、サポート部20用の金属(第2の金属)の酸化電位は、本体部10用の金属(第1の金属)の酸化電位よりも低い。そこで、所定の電位として、サポート部20用の金属の酸化電位以上、かつ、本体部10用の金属の酸化電位未満の電位を印加して、サポート部20用の金属のみを酸化させる。このような所定の電位は、上述したそれぞれの金属の組み合わせによって以下のように設定される。
所定の電位をVaとすると、本体部10用の金属(第1の金属)が銀(Ag)でサポート部20用の金属(第2の金属)が銅(Cu)の場合は、銀の酸化電位が+0.800Vであり銅の酸化電位が+0.342Vであるので、所定の電位Vaは+0.342≦Va<+0.800となる。本体部10用の金属が銅(Cu)でサポート部20用の金属が錫(Sn)の場合は、錫の酸化電位が−0.138Vであるので、所定の電位Vaは−0.138≦Va<+0.342となる。本体部10用の金属が錫(Sn)でサポート部20用の金属が亜鉛(Zn)の場合は、亜鉛の酸化電位が−0.762Vであるので、所定の電位Vaは−0.762≦Va<−0.138となる。
直方体1aに所定の電位を印加することにより、直方体1aと対向電極6との間、すなわち、サポート部20と対向電極6との間に電流が流れる。そうすると、サポート部20には第2の金属の酸化電位以上の電位が印加されているため、第2の金属が酸化されてイオン化する。これにより、第2の金属からなるサポート部20が、電解質溶液9と接する表面側から電解質溶液9に溶解する。本体部10用の金属は酸化しないため、サポート部20全体が溶解することにより、直方体1aからサポート部20が除去されて本体部10のみとなる。この結果、図2(f)に示すように、本体部10からなる立体物1が得られる。
本実施形態に係る造形方法によれば、第1の金属と第2の金属とを用いて本体部10とサポート部20とで構成される直方体1aを形成し、サポート部20を除去する工程において直方体1aからサポート部20を除去する。サポート部20を除去する工程では、サポート部20用の金属(第2の金属)が選択的に酸化されることにより電解質溶液9に溶解して自ら除去されるので、サポート部20を容易に除去できる。そのため、鋳型や機械加工を必要とする従来の方法と比べて、より容易に立体物1を造形することができる。
また、直方体1aを造形する工程では、ともに粉末状の本体部10用の金属(第1の金属)とサポート部20用の金属(第2の金属)とを焼結するため、サポート部20が本体部10と同様の強度を有し、サポート部20を本体部10と同様に取り扱うことができる。したがって、サポート部20が金属粉末の状態のままで本体部10を形成する場合と比べて、より容易かつ精度よく直方体1aを造形することができる。そして、サポート部20を除去する工程では、焼結された状態の第2の金属が酸化されイオン化されて除去されるため、立体物1(本体部10)の表面にサポート部20用の金属(第2の金属)の一部が残留することを抑止できる。
なお、本実施形態に係る造形方法で造形できる立体物は、図1に示す立体物1に限定されるものではない。本実施形態に係る造形方法によれば、例えば、中空状態の形状の立体物や、複雑な内部形状を有する立体物など他の形状の立体物を造形することができる。
上述した実施形態は、あくまでも本発明の一態様を示すものであり、本発明の範囲内で任意に変形および応用が可能である。変形例としては、例えば、以下のようなものが考えられる。
(変形例)
上記の実施形態では、本体部10用の金属(第1の金属)とサポート部20用の金属(第2の金属)とを配置して焼結する工程を繰り返すことで、本体部10とサポート部20とで構成される直方体1aが形成される構成であったが、本発明はこのような形態に限定されない。このような工程を繰り返すことで、本体部10とサポート部20との界面に、合金層が形成される構成であってもよい。また、最終的に得られる立体物にこの合金層が残っていてもよい。
変形例においても、図2(a)から図2(d)に示す上記実施形態の工程と同様に、本体部10用の金属(第1の金属)とサポート部20用の金属(第2の金属)とを配置し焼結する工程を繰り返す。このような工程を繰り返す際に、第1の金属と第2の金属との組み合わせなどによって、本体部10とサポート部20とが接する部分に、第1の金属と第2の金属との合金が形成される場合がある。
図4は、変形例にかかる造形方法を説明する断面図である。図4(a)は、上記の実施形態における図2(e)に対応する図である。図4(a)に示すように、直方体1bは本体部10とサポート部20とで構成されるが、本体部10とサポート部20との界面に第1の金属と第2の金属との合金層40が形成されている。直方体1bの本体部10とサポート部20との界面に合金層40が存在すると、第1の金属の熱膨張率と第2の金属の熱膨張率とが異なることに起因して本体部10とサポート部20との間に生じる応力を、合金層40が緩衝材となって緩和することができる。これにより、直方体1bを形成する工程において第1の金属と第2の金属との熱膨張率の違いによって生じる反りや変形を抑えることができる。
図4(b)は、上記の実施形態における図2(f)に対応する図である。図4(a)に示すように直方体1bに合金層40が形成された場合、図4(b)に示すように最終的に得られる立体物2にこの合金層40が残っていてもよい。また、直方体1bに合金層40が形成された場合でも、図2(f)に示すように最終的に得られる立体物1にこの合金層40が残っていなくてもよい。なお、合金層40を最終的に残すか残さないかは、例えば、サポート部20を除去する工程において直方体1bに印加する電位の設定や電位を印加している時間の長さなどにより制御することが可能である。
1,2…立体物(造形物)、1a,1b…直方体(造形物)、10…本体部(第1の部分)、9…電解質溶液、10a…本体部金属材料層(第1の金属)、11…基部、12…庇部、20…サポート部(第2の部分)、20a…サポート部金属材料層(第2の金属)。

Claims (6)

  1. 第1の部分用の第1の金属と第2の部分用の第2の金属とを用いて、前記第1の部分と前記第2の部分とで構成される造形物を造形する工程と、
    前記造形物を電解質溶液に浸漬し前記第2の部分に電流を流して、前記造形物から前記第2の部分を除去する工程と、
    を含むことを特徴とする造形方法。
  2. 請求項1に記載の造形方法であって、
    前記造形物を造形する工程では、前記第1の金属と前記第2の金属とを焼結することを特徴とする造形方法。
  3. 請求項1または2に記載の造形方法であって、
    前記第2の金属の酸化電位は前記第1の金属の酸化電位よりも低いことを特徴とする造形方法。
  4. 請求項3に記載の造形方法であって、
    前記第2の部分を除去する工程では、前記造形物に、前記第2の金属の酸化電位以上、かつ、前記第1の金属の酸化電位未満の電位を印加することを特徴とする造形方法。
  5. 第1の部分用の第1の金属と第2の部分用の第2の金属とを用いて造形され、前記第1の部分と前記第2の部分とで構成される造形物であって、
    前記第2の金属の酸化電位は前記第1の金属の酸化電位よりも低いことを特徴とする造形物。
  6. 第1の部分用の第1の金属と第2の部分用の第2の金属とを用いて造形された後、前記第2の部分が除去された造形物であって、
    前記第2の金属の酸化電位は前記第1の金属の酸化電位よりも低いことを特徴とする造形物。
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