JP2016043299A - アルミニウム酸化物膜塗布形成用組成物、アルミニウム酸化物膜を有する物品の製造方法、及びアルミニウム酸化物膜を有する物品 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]
(A)下記一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物またはその部分加水分解物の有機溶媒溶液を、基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布して塗布膜を形成する工程、
但し、前記部分加水分解物は、前記有機アルミニウム化合物に対してモル比で0.7以下の水を用いて前記有機アルミニウム化合物を有機溶媒中で部分的に加水分解して得た物であり、かつ
前記噴霧塗布は、0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行う、
(B)前記塗布膜を形成した基材を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下、400℃以下の温度で加熱して、前記塗布膜からアルミニウム酸化物膜を形成する工程、
を含むアルミニウム酸化物膜を有する物品の製造方法。
[2]
前記工程(A)において、有機アルミニウム化合物の有機溶媒溶液を用い、
一般式(1)中、R1は炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐したアルキル基、R2、R3は独立に、炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐したアルキル基、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルコキシル基、アシルオキシ基、またはアセチルアセトナート基を表す、[1]に記載の製造方法。
[3]
前記有機溶媒が電子供与性を有する有機溶媒を含有し、かつ
前記溶液中の有機アルミニウム化合物の濃度が、0.1〜35重量%である、
[2]に記載の製造方法。
[4]
前記電子供与性を有する有機溶媒を構成する分子のモル数が、有機アルミニウム化合物のモル数に対して等倍以上存在することを特徴とする[3]に記載の製造方法。
[5]
前記工程(A)の噴霧塗布において、基材表面の温度が20〜300℃である[2]〜[4]のいずれか一項に記載の製造方法。
[6]
前記工程(A)において、有機アルミニウム化合物の部分加水分解物の有機溶媒溶液を用い、
前記工程(A)で用いる前記有機溶媒が、炭化水素化合物および/または電子供与性を有する有機溶媒を含有する有機溶媒である[1]に記載の製造方法。
[7]
前記有機溶媒溶液における部分加水分解物濃度が0.1〜35質量%の範囲である[6]に記載の製造方法。
[8]
前記工程(A)を400℃以下の温度での加熱下で行い、前記工程(A)と同時に又は引き続き工程(B)での加熱を行う[6]または[7]に記載の製造方法。
[9]
前記噴霧塗布は、スプレー塗布法、スプレー熱分解法、静電塗布法、又はインクジェット法により行う、[1]〜[8]のいずれか一項に記載の製造方法。
[10]
前記一般式(1)中のR1がメチル基またはエチル基である[1]〜[9]のいずれか一項に記載の製造方法。
[11]
下記一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物の有機溶媒溶液からなる膜形成用組成物であって、
前記組成物は、膜の塗布形成が0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行われるアルミニウム酸化物膜の形成に用いるための物である、前記組成物。
[12]
下記一般式(1)で表される有機アルミニウム化合物を有機溶媒中で部分的に加水分解して得られた、前記有機アルミニウム化合物の部分加水分解物を含有する膜形成用組成物であって、
(a)前記部分加水分解は、前記有機アルミニウム化合物に対するモル比が0.7以下の水を用いて行われ、かつ
(b)前記組成物は、膜塗布形成が0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行われるアルミニウム酸化物膜の形成に用いるための物である、前記組成物。
[13]
前記0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行われる膜塗布形成は、
(c1)前記組成物を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布して塗布膜を形成する工程、および
(c2)前記塗布膜を形成した基材を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下、400℃以下の温度で加熱して、アルミニウム酸化物膜を形成する工程、を含む、[11]または[12]に記載の組成物。
[14]
基材に密着した透明なアルミニウム酸化物膜を形成するための[11]〜[13]のいずれか一項に記載の組成物。
[15]
[1]〜10のいずれか一項に記載の方法、または[11]〜[14]のいずれか一項に記載の組成物を用いて0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で製造した、アルミニウム酸化物膜を有する物品。
[16]
前記物品がアルミニウム酸化物膜を基材に付着した複合体またはアルミニウム酸化物膜とアルミニウム酸化物膜以外の層とを有する複合膜を基材に付着した複合体である[15]に記載のアルミニウム酸化物膜を有する物品。
さらにこれらのアルミニウム酸化物膜やアルミニウム酸化物機能膜を有する基材は、耐熱フィルム等の耐熱材料、絶縁材料、水分や酸素等へのバリアフィルム等の材料、反射防止フィルム・ガラス等の反射防止材料、高硬度フィルムや材料として利用が可能である。
本発明のアルミニウム酸化物膜を有する物品の製造方法は下記工程(A)及び(B)を含む。
工程(A)下記一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物またはその部分加水分解物の有機溶媒溶液を、基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布して塗布膜を形成する工程、
(B)前記塗布膜を形成した基材を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下、400℃以下の温度で加熱して、前記塗布膜からアルミニウム酸化物膜を形成する工程。
工程(A)は、一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物の有機溶媒溶液を、基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布して塗布膜を形成する工程(以下、工程(A1)と呼ぶ)、または一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物の部分加水分解物の有機溶媒溶液を、基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布して塗布膜を形成する工程(以下、工程(A2)と呼ぶ)である。
工程(A1)で用いる噴霧塗布用溶液は、一般式(1)で表される有機アルミニウム化合物を有機溶媒に溶解した溶液である。一般式(1)で表される有機アルミニウム化合物は、工程(A1)においては加水分解することなく用いることから、R1は炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐したアルキル基であることが適当である。
工程(A2)で用いる噴霧塗布用溶液は、一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物の部分加水分解物の有機溶媒溶液である。一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物は、前述のとおりである。有機溶媒としては、炭化水素化合物、電子供与性有機溶媒及びその混合物の何れの有機溶媒も使用できる。炭化水素化合物及び電子供与性有機溶媒は、工程(A1)において説明したものと同様である。
噴霧塗布は工程(A1)及び工程(A2)で共通する。
噴霧塗布は噴霧塗布用溶液を用い、基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布を行う。噴霧塗布することで、噴霧塗布用溶液の塗膜が形成される。噴霧塗布は、常温(室温)で実施することも出来るが、後述のように、加熱下で行うこともできる。さらに、噴霧塗布は、0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行う。
工程(B)においては、塗布膜を形成した基材を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下、400℃以下の温度で加熱して、前記塗布膜からアルミニウム酸化物膜を形成する。0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気は工程(A)で説明したものと同様である。
さらに、これら機材は透明、半透明、不透明のいずれでもよい。例えば、透明基材としてフィルム状のものは、薄板ガラス等の無機物や高分子基材としてプラスチックフィルム等の有機物を例示することができる。
さらに、これらの基材以外にも、金属、酸化物、窒化物、炭素化合物等の無機物や低分子、ポリマーなどの有機物および前述の無機物および有機物の複合物から形成される、電極、半導体、絶縁物等の電子デバイス膜等の機能性材料に対しても塗布成膜が可能である。
本発明のアルミニウム酸化物膜製造用溶液用い、噴霧塗布による成膜を行なえば、塗布および加熱を行うだけで成膜温度が低温でも、基材への密着性に優れ、酸化物の形成状態が良好なアルミニウム酸化物膜を形成することができる。
製造されたアルミニウム酸化物膜は基材への密着性に優れ、酸化物の形成状態が良好である。そのため、アルミニウム酸化物膜を基材に付着した複合体(物品)や、アルミニウム酸化物膜とアルミニウム酸化物膜以外の層とを有する複合膜を基材に付着した複合体(物品)とすることができる。複合膜は、アルミニウム酸化物を含む機能膜として用いることが出来る。例えば、電子材料用アルミナシート、アルミニウム酸化物膜の作製、触媒担体の作製、耐熱性付与、空気、水分に対するバリア性付与、反射防止効果付与、帯電防止効果付与、防曇効果付与、耐摩耗性等の付与、セラミック製造用バインダー等の用途に供することが出来る。具体的には、機械部品や切削工具の保護膜、半導体、磁性体、太陽電池等の絶縁膜、誘電体膜、反射防止膜、表面デバイス、磁気ヘッド、赤外線等のセンサー素子、食品、薬品、医療器材等の包装材料における空気・水分等へのバリア膜、各種粉体、フィルム、ガラスやプラスチックを素材としたフィルムや成形体等の基材へのコーティング膜およびこれらを用いた耐熱材料や高硬度フィルム、光学部材、セラミック製造用バインダー等の用途に使用されるアルミニウム酸化物膜などの、基材に対して種々の機能性を付与することができる機能膜の一部又は全部として適用することができる。
さらにこれらのアルミニウム酸化物膜やアルミニウム酸化物を含む機能膜を有する基材は、耐熱フィルム等の耐熱材料、絶縁材料、水分や酸素等へのバリアフィルム等の材料、反射防止フィルム、ガラス等の反射防止材料、高硬度フィルムや材料として利用が可能である。
本発明は、アルミニウム酸化物膜形成用組成物を包含する。
この組成物の第一の態様は、前記一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物の有機溶媒溶液からなる膜形成用組成物であって、前記組成物は、膜の塗布形成が0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行われるアルミニウム酸化物膜の形成に用いるための物である、前記組成物。
(a)前記部分加水分解は、前記有機アルミニウム化合物に対するモル比が0.7以下の水を用いて行われ、かつ
(b)前記組成物は、膜塗布形成が0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行われるアルミニウム酸化物膜の形成に用いるための物である、前記組成物である。
(c1)前記組成物を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布して塗布膜を形成する工程、および
(c2)前記塗布膜を形成した基材を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下、400℃以下の温度で加熱して、アルミニウム酸化物膜を形成する工程、を含む。これらの工程は、工程(A)および工程(B)として前述したとおりである。
トリエチルアルミニウムのモル数は以下の式より算出した。
トリエチルアルミニウムのモル数=〔使用したトリエチルアルミニウム(市販品)の重量(g)〕/〔トリエチルアルミニウムの分子量(114.16)〕
アルミニウム酸化物膜に成膜時における水は、必要に応じて65℃に加熱した水に窒素をバブリングさせることによって窒素中に水を飽和させた状態(不活性ガス中の水分として25モル%)のものとして成膜雰囲気に供給した。成膜雰囲気における不活性ガス中の水分含有率は露点測定(湿度)により得た。また、溶液の調製や成膜等の操作において室温で行う場合は、室温が18〜27℃でとなるような環境下において実施した。
可視光等の透過率は、分光光度計を用いて測定した。
アルミニウム酸化物膜の膜厚は、触針式表面形状測定器による測定または薄膜断面のSEM測定により行った。
成膜したアルミニウム酸化物膜の基材への密着性は、粘着テープを用いた基材に塗布製膜したアルミニウム酸化物膜へのテープ貼り・剥がしによる剥離試験により確認した。
薬液の反応性は、温度(20℃)および湿度(50%)が一定な無風大気中において濾紙に薬液を滴下し、濾紙上での反応性を目視で確認した。
テトラヒドロフラン(THF)74.8gに、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)8.3g を室温で加えた。十分攪拌した後に、ろ過することで、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液A)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液A)を用いて、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。アルミニウム酸化物膜を成膜する基材として、18mm角(厚さ0.7mm)のガラス基板(コーニング社製、EagleXG(R))を用い、このガラス基板を200℃に加熱し、大気圧、不活性ガス中の水分が2.3モル%(相対湿度90%@21℃)で水が存在する窒素雰囲気下において、ヒーターで加熱した基板に対して、スプレーノズルより溶液Aを2ml/分で8分間噴霧した。スプレーノズルより吐出する液滴の大きさは、3〜20μmの範囲であり、かつスプレーノズルと基板との距離を20cmとして行った。噴霧終了後、製膜した基材を5分間加熱を継続した。
この実施例1−1のトリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液A)と同様の組成の溶液を用いて、実施例1−1記載の上記の成膜をもう一度行い、アルミニウム酸化物膜の膜厚が332nmを得た。この膜についてSEMで分析を行い、膜の表面構造として図2、膜の断面構造として図3の形状であることをそれぞれ確認した。
実施例1−1において、テトラヒドロフラン(THF)を76.5g、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)4.0gとして、実施例1−1と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液B)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液B)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。ガラス基板上に形成されたアルミニウム酸化物膜の膜厚は、279nmであった。得られた膜の可視光(550nm)での透過率は94.8%であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
実施例1−1において、テトラヒドロフラン(THF)の代わりに1,2−ジエトキシエタン79.2gを用い、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)を8.8gとして、実施例1−1と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液C)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液C)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。ガラス基板上に形成されたアルミニウム酸化物膜の膜厚は、358nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は95.3% であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
実施例1−1において、テトラヒドロフラン(THF)の代わりにジイソプロピルエーテル82.7gを用い、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)を9.2gとして、実施例1−1と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液D)を得た。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液D)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。ガラス基板上に形成されたアルミニウム酸化物膜の膜厚は、307nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は97.6% であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
実施例1−1において、テトラヒドロフラン(THF)の代わりにテトラヒドロフラン(THF)41.3gとヘキサン41.3gとの混合溶媒を用い、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)を9.2gとして、実施例1−1と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液E)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液E)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。ガラス基板上に形成されたアルミニウム酸化物膜の膜厚は、211nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は97.6% であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
実施例1−1において、テトラヒドロフラン(THF)の代わりにテトラヒドロフラン(THF)21.9gとトルエン51.0gとの混合溶媒を用い、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)を8.1gとして、実施例1−1と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液F)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液F)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。ガラス基板上に形成されたアルミニウム酸化物膜の膜厚は、271nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は95.5% であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
実施例1−4において、ジイソプロピルエーテルの代わりにジイソプロピルエーテル41.2gと混合キシレン41.2gとの混合溶媒を用い、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)を9.1gとして、実施例1−4と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液G)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液G)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。ガラス基板上に形成されたアルミニウム酸化物膜の膜厚は、330nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は93.9% であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
[実施例1−8]
実施例1−3において、1,2−ジエトキシエタンの代わりに1,2−ジエトキシエタン62.3gと混合キシレン15.6gとの混合溶媒を用い、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)を8.7gとして、実施例1−3と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液H)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液H)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。ガラス基板上に形成されたアルミニウム酸化物膜の膜厚は、281nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は94.4% であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
実施例1−8において、1,2−ジエトキシエタンと混合キシレンとの混合溶媒の代わりに1,2−ジエトキシエタン39.5gとトルエン39.5gとの混合溶媒を用い、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)を8.9gとして、実施例1−8と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液I)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
得られたアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液I)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。ガラス基板上に形成されたアルミニウム酸化物膜の膜厚は、310nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は94.3% であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
実施例1−1において、アルミニウム酸化物膜を成膜する基材として、18mm角(厚さ0.7mm)のガラス基板(コーニング社製、EagleXG(R))の代わりにポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(60mm角(厚さ75μm))を用い、基材の加熱温度を200℃から130℃に変更した条件で、実施例1−1と同様の操作を行い、アルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液A)と同様の組成の溶液を用いて、スプレー成膜により130℃に加熱したポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にアルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、130℃の低温におけるポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムへのアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。得られた膜の表面構造に関するSEM測定結果を図4に示す。このアルミニウム酸化物膜の可視光(550nm)での透過率は86%であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
実施例1−10において、アルミニウム酸化物膜を成膜する基材として、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(60mm角(厚さ25μm))の代わりに多孔質ポリプロピレン(PP)フィルム(2次電池セパレータ用:60mm角(厚さ20μm))を用い、このフィルムを130℃に加熱し、アルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液A)と同様の組成の溶液を用いて、実施例1−10と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、130℃の低温におけるポリプロピレン(PP)多孔質フィルムへのアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。
実施例1−10において、アルミニウム酸化物膜を成膜する基材として、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(60mm角(厚さ75μm))の代わりにアラミド不織布(2次電池セパレータ仕様:60mm角(厚さ57μm))を用い、このフィルムを130℃に加熱し、アルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液A)と同様の組成の溶液を用いて、実施例1−10と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、130℃の低温におけるアラミド多孔質フィルムへのアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。
テトラヒドロフラン(THF)150.0gに、トリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)15.0g を室温で加えた。十分攪拌した後に、溶液をフィルター(細孔:3μm以下)でろ過することで、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液J)を得た。
薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
アルミニウム酸化物膜を成膜する基材として、ポリプロピレン(PP)フィルム(30mm角(厚さ0.2mm))を用い、このフィルムを130℃に加熱し、アルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液J)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。基板上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、130℃の低温におけるポリプロピレン(PP)フィルムへのアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。
トリエチルアルミニウムの含有量を少なくした、テトラヒドロフラン(THF)69.7gとトリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)2.16gとからなるアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液K)およびトリエチルアルミニウムの含有量を少なくした、テトラヒドロフラン(THF)69.7gとトリエチルアルミニウム(東ソー・ファインケム株式会社製)0.70g とからなるアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液L)を実施例1−1と同様の手法で調製し、ガラス基板の加熱温度を200℃において実施例1−1記載の条件で成膜を行ったところ、200℃におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。
また、本実施例で得られたアルミニウム酸化物膜は、XRDによりピークが確認されず、アモルファス状態であることが確認された。溶液Kおよび溶液Lのおのおのの溶液を用いてスプレー成膜によって得られたアルミニウム酸化物膜の可視光(550nm)での透過率および膜厚は、ぞれぞれ、99%、75nm(溶液K)、99%、30nm(溶液L)であった。
実施例1−1および実施例1−2において、それぞれの実施例で得たアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液A:実施例1−1、溶液B:実施例1−2)を用い、ガラス基板の加熱温度を300℃に変えて、同様の操作を行い、同様の解析により、本溶液を用いた成膜方法により、300℃におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。本実施例で得られたアルミニウム酸化物膜は、XRDによりピークが確認されず、アモルファス状態であることが確認された。
実施例1−1〜10で得られた膜の密着性について、スコッチテープ(R)2364(3M社製)を用いて、剥がし試験により確認を行った。アルミニウム酸化物膜を成膜した前記ポリプロピレン(PP)フィルムの成膜面にテープを押し付けて貼り、斜め45°に引き剥がした。引き剥がした後を目視、ATR−IRおよびSEM測定で確認したところ、強い膜の剥がれは確認されず、本組成物によって成膜した膜の密着性が高いことを確認した。
アルミニウム酸化物膜を成膜する基材として、紙(薬包紙(20mm角(厚さ31μm))を用い、この紙を142℃に加熱し、実施例1−4で調製したアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液D)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。紙上に形成された膜の同様の分析により、本溶液を用いた成膜方法により、142℃の低温における紙へのアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。
得らえた膜をSEM分析を行ったところ、図5が得られ、紙の繊維の表面を粒子状のアルミニウム酸化物がコートされていることが確認された。
実施例1−1〜10および14において得られたアルミニウム酸化物膜のついたいずれの基材も、550nmでの垂直透過率が80%以上と高く、光学材料として利用が可能である。また、ガラス基板に成膜したアルミニウム酸化物膜は、500℃の加熱でも変質が見られず、耐熱材料としての利用が可能である。実施例1−1〜15および17で得られた膜の表面抵抗値を測定したところ、抵抗値が得られず導電性がないことから、絶縁材料としての利用が可能である。実施例1−1、10および17のアルミニウム酸化物膜のついた基材は成膜で得らえた膜表面に微小な凹凸を有することが確認され、反射防止効果、触媒担体としての利用が可能である。実施例1−1〜10および17において、本発明の組成物で成膜したアルミニウム酸化物膜はガラスや樹脂等の基材への密着性が高いことから、各種基材の保護膜や塗装や積層膜の下地等、アンダーコート膜、基材に積層可能な電子デバイス用膜等の利用が可能である。このように、本発明のアルミニウム酸化物膜のついた基材は、アルミニウム酸化物機能膜としての利用が可能である。
実施例1−1〜9、14および15に記載のアルミニウム酸化物膜を有するガラス基板や、実施10〜13において得られたアルミニウム酸化物膜を有するポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、アクリルといった樹脂の板およびフィルム、および実施例1−17で得られたアルミニウム酸化物膜を有する紙は、いずれも実施例1−18記載の機能を有するアルミニウム酸化物機能膜を有する基材として利用が可能である。
実施例1−2において、テトラヒドロフラン(THF)の代わりにヘキサンを用いて、実施例1−2と同様の操作を行い、噴霧塗布に用いるための、トリエチルアルミニウムを含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液X)を得た。
この電子供与性溶媒を含まない溶液(溶液K)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行ったが、粉状の物質が基材に付着したのみであった。また、付着した粉状の物質はほとんどなく、基材から剥がれ落ちてしまい、アルミニウム酸化物膜は形成されなかった。
実施例1−1おいて、大気圧、不活性ガス中の水分が0.003モル%(相対湿度0.1%@21℃)と実質的にほとんど水分を含まない窒素雰囲気下において、ヒーターで加熱した基板に対して、スプレーノズルより溶液Aを2ml/分で8分間噴霧した。実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行ったが、基材に付着物はほとんどなく、成膜終了後に、得られた膜を相対湿度90%の水分を含む窒素雰囲気下で200℃の加熱を行ったが、基材に付着した物質がほとんどないことから、同様にアルミニウム酸化物膜の形成は確認できなかった。
トルエン86.41gに、アルミニウムトリスアセチルアセトナト(Al(acac)3)4.32g を室温で加えた。十分攪拌した後に、溶液をフィルター(細孔:3μm以下)でろ過することで、噴霧塗布に用いるための、アルミニウムトリスアセチルアセトナト(Al(acac)3)を含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液L)を得た。
この炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐したアルキル基を有機アルミニウム化合物の構造中に含まない有機アルミニウム化合物を含有する溶液(溶液Y)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、スプレー成膜により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。
この電子供与性溶媒を含まない溶液(溶液L)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、基板の加熱温度が200℃においてスプレー成膜により膜の成膜を行ったが、基材への付着物はほとんどなくアルミニウム酸化物膜は形成されなかった。
トルエン90.19gに、アルミニウムトリイソプロポキシド(Al(OiPr)3)4.51g を室温で加えた。十分攪拌した後に、溶液をフィルター(細孔:3μm以下)でろ過することで、噴霧塗布に用いるための、アルミニウムトリイソプロポキシド(Al(OiPr)3)を含むアルミニウム酸化物膜製造用溶液(溶液Z)を得た。
この炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐したアルキル基を有機アルミニウム化合物の構造中に含まない有機アルミニウム化合物を含有する溶液(溶液M)を用いて、実施例1−1と同様の操作を行い、、基板の加熱温度が200℃においてスプレー成膜により膜の成膜を行ったが、基材への付着物はほとんどなくアルミニウム酸化物膜は形成されなかった。
テトラヒドロフラン(THF)108.45gに、トリエチルアルミニウム(TEAL:東ソー・ファインケム株式会社製)15.13gを室温で加えた。十分攪拌して得られたTEAL/THF溶液に、20℃前後となるように反応による発熱を除熱しながら、水0.48gを含有したTHF溶液48.8gを、水のTEALに対するモル比(水/TEAL)が0.2になるように撹拌しながら滴下した。その後、65℃まで加熱して65℃で2.5時間反応させた。反応終了後、放冷して反応生成物を回収した。反応後の生成物は無色透明溶液であった。薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
このようにして、トリエチルアルミニウムを部分的に加水分解した生成物を含むアルミニウム酸化物膜製造用組成物(組成物A)を得た。
この組成物Aを用いて、スプレー熱分解法により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。アルミニウム酸化物膜を成膜する基材として、18mm角(厚さ0.7mm)のガラス基板(コーニング社製、EagleXG(R))を用い、このガラス基板を200℃に加熱し、大気圧、不活性ガス中の水分が2.3モル%(相対湿度90%@21℃)でと水が存在する窒素雰囲気下において、ヒーターで加熱した基板に対して、スプレーノズルより溶液Aを2ml/分で8分間噴霧した。この成膜時において供給した酸素源である水の組成物A中のAlモル数に対するモル比は90であった。スプレーノズルより吐出する液滴の大きさは、3〜20μmの範囲であり、かつスプレーノズルと基板との距離を20cmとして行った。噴霧終了後、製膜した基材を5分間加熱を継続した。
ガラス基板上に形成された膜を、放冷後に大気中に取り出して、SEMおよびEPMAで分析し、膜の付着および膜を構成する元素が酸素およびアルミニウム元素であることを確認した。図7に本実施例で得られた膜の表面、図8に前記膜の断面のSEM分析の結果をそれぞれ示した。さらにATR−IRにより分析を行ったところ、550〜1000cm-1付近のガラス基板由来のピークと重なるピークの増加および2800〜3100cm-1の間に見られる、有機アルミニウム化合物や溶媒がそれらの構造中に有するC−Hに由来するに帰属されるピークが観測されないことを確認した。以上の分析から、本溶液を用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。また、本実施例で得られたアルミニウム酸化物膜は、XRDによりピークが確認されず、アモルファス状態であることが確認された。アルミニウム酸化物膜の膜厚は、触針式表面形状測定器による測定したところ、146nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は91.0%であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
得られた膜の密着性について、クロスカット試験およびそこで使用したスコッチテープ(R)2364(3M社製)を用いた剥がし試験を行い、目視およびATR−IRおよびSEM測定で確認したところ、膜の剥がれ等のないことを確認した。
[実施例2−2]
実施例2−1において、水0.48gの代わりに水0.95gとし、水のTEALに対するモル比(水/TEAL)が0.4になるように滴下すること以外は、実施例2−1と同様の手法を用いて、無色透明溶液を得た。薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
このようにして、トリエチルアルミニウムを部分的に加水分解した生成物を含むアルミニウム酸化物膜製造用組成物(組成物B)を得た。
この組成物Bを用いて、実施例2−1と同様な手法で、スプレー熱分解法により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。実施例2−1と同様の分析により、組成物Bを用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。また、本実施例で得られたアルミニウム酸化物膜は、XRDによりピークが確認されず、アモルファス状態であることが確認された。アルミニウム酸化物膜の膜厚は、触針式表面形状測定器による測定したところ、119nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は84.3%であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
得られた膜の密着性について、実施例2−1と同様、クロスカット試験およびそこで使用したスコッチテープ(R)2364(3M社製)を用いた剥がし試験を行い、目視およびATR−IRおよびSEM測定で確認したところ、膜の剥がれ等のないことを確認した。図9に本実施例で得られた膜の表面、図10に同膜の断面のSEM分析の結果をそれぞれ示した。
[実施例2−3]
実施例2−1において、水0.48gの代わりに水1.44gとし、水のTEALに対するモル比(水/TEAL)が0.6になるように滴下すること以外は、実施例2−1と同様の手法を用いて、無色透明溶液を得た。この生成物中に含まれる微量のゲル状の不溶物をフィルター(細孔:3μm以下)でろ過を行い、無色透明溶液を回収した。薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
このようにして、トリエチルアルミニウムを部分的に加水分解した生成物を含むアルミニウム酸化物膜製造用組成物(組成物C)を得た。
この組成物Cを用いて、実施例2−1と同様な手法で、スプレー熱分解法により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。実施例2−1と同様の分析により、組成物Cを用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。また、本実施例で得られたアルミニウム酸化物膜は、XRDによりピークが確認されず、アモルファス状態であることが確認された。アルミニウム酸化物膜の膜厚は、触針式表面形状測定器による測定したところ、76nmであった。また、可視光(550nm)での透過率は83.3%であり、透過率80%以上の透明なアルミニウム酸化物膜を得た。
得られた膜の密着性について、実施例2−1と同様、クロスカット試験およびそこで使用したスコッチテープ(R)2364(3M社製)を用いた剥がし試験を行い、目視およびATR−IRおよびSEM測定で確認したところ、膜の剥がれ等のないことを確認した。
[比較例2−1]
実施例2−1において、水0.48gの代わりに水1.91gとし、水のTEALに対するモル比(水/TEAL)が0.8になるように滴下すること以外は、実施例2−1と同様の手法を用いて、無色透明溶液を得た。この生成物中に含まれる微量のゲル状の不溶物をフィルター(細孔:3μm以下)でろ過を行い、無色透明溶液を回収した。薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
このようにして、トリエチルアルミニウムを部分的に加水分解した生成物を含むアルミニウム酸化物膜製造用組成物(組成物D)を得た。
この組成物Dを用いて、実施例2−1と同様な手法で、スプレー熱分解法により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行ったが、基板への付着物はほとんど見られず、膜を形成をすることが出来なかった。
[比較例2−2]
実施例1において、加水分解時に添加する水の量を変えて水のTEALに対するモル比(水/TEAL)が1.0になるように水の量を調整したこと以外は実施例2−1の組成物Aの調製方法と同様にして、トリエチルアルミニウムを部分的に加水分解した生成物を含むアルミニウム酸化物膜製造用組成物(組成物E)を調製した。この組成物Eを用いて、実施例2−1と同様な手法で、スプレー熱分解法により、アルミニウム酸化物膜の成膜を200℃で行ったが、白い粉状の粉体が基板表面に付着し、密着性の良い膜を得ることが出来なかった。
得られた膜の密着性について、実施例2−1と同様、クロスカット試験およびそこで使用したスコッチテープ(R)2364(3M社製)を用いた剥がし試験を行い、目視およびATR−IRおよびSEM測定で確認したところ、基板表面に付着した白い粉状の粉体は剥がれてしまうことを確認した。
実施例2−1、2、3、4および比較例2−1でそれぞれ調製した各組成物を用いたスプレー成膜の結果について表1に示す。
[実施例2−4]
テトラヒドロフラン(THF)73.2gに、トリエチルアルミニウム(TEAL:東ソー・ファインケム株式会社製)11.35gを室温で加えた。十分攪拌して得られたTEAL/THF溶液に、20℃前後となるように反応による発熱を除熱しながら、水1.08gを含有したTHF溶液36.6gを、水のTEALに対するモル比(水/TEAL)が0.6になるように撹拌しながら滴下した。その後、65℃まで加熱して65℃で2.5時間反応させた。反応終了後、放冷して反応生成物を回収した。反応後の生成物は無色透明溶液であった。この生成物中に含まれる微量のゲル状の不溶物をフィルター(細孔:3μm以下)でろ過を行い、無色透明溶液を回収した。薬液の反応性について、濾紙上での反応性を目視で確認したところ、濾紙の焦げ等は確認されなかった。
このようにして、トリエチルアルミニウムを部分的に加水分解した生成物を含むアルミニウム酸化物膜製造用組成物(組成物F)を得た。この組成物Fの一部について、真空乾燥により溶媒等を除去した後のトリエチルアルミニウムを部分的に加水分解した生成物を主成分とする残存物について、1H-NMR(THF−d8,ppm) 測定を行い、図6のスペクトルを得た。この組成物Fを用いて、実施例2−1と同様な手法で、スプレー熱分解法により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。実施例2−1と同様の分析により、組成物Fを用いた成膜方法により、200℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。
[実施例2−5]
実施例2−1で調製した組成物Aを用いて、アルミニウム酸化物膜を成膜する基材として、ポリプロピレン(PP)フィルム(30mm角(厚さ0.2mm))およびポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(60mm角(厚さ75μm))を用いて、基材の加熱温度を130℃として実施例2−1と同様な手法で、スプレー熱分解法により、アルミニウム酸化物膜の成膜をそれぞれの基材に行った。実施例2−1と同様の分析により、組成物Fを用いた成膜方法により、130℃の低温におけるアルミニウム酸化物膜の形成を確認した。
実施例2−1において、トリエチルアルミニウムを部分的に加水分解した生成物を含むアルミニウム酸化物膜製造用組成物(組成物A)を用いて、不活性ガス中の水分が0.25モル%(相対湿度1%@21℃)でと水が存在する窒素雰囲気下としたこと以外は実施例2−1と同様の手法により、スプレー熱分解法により、アルミニウム酸化物膜の成膜を行った。この成膜では、ガラス基板への付着物はほとんどなく、アルミニウム酸化物膜を得ることが出来なかった。
実施例2−1、2、3において得られたアルミニウム酸化物膜のついたいずれの基材も、550nmでの垂直透過率が80%以上と高く、光学材料として利用が可能である。また、ガラス基板に成膜したアルミニウム酸化物膜は、成膜後にさらに500℃で加熱を行っても変質が見られず、耐熱材料としての利用が可能である。これらの膜の表面抵抗値を測定したところ、抵抗値が得られず導電性がないことから、絶縁材料としての利用が可能である。さらに、本発明の組成物で成膜したアルミニウム酸化物膜はガラスや樹脂等の基材への密着性が高いことから、各種基材の保護膜や塗装や積層膜の下地等、アンダーコート膜、基材に積層可能な電子デバイス用膜等の利用が可能である。これらのアルミニウム酸化物膜のついた基材は成膜で得らえた膜表面に微小な凹凸を有することが確認され、反射防止効果、触媒担体としての利用が可能である。このように、本発明のアルミニウム酸化物膜のついた基材は、アルミニウム酸化物機能膜としての利用が可能である。
[実施例2−8]
実施例2−1、2、3および4に記載のアルミニウム酸化物膜を有するガラス基板や、実施例2−6において得られたアルミニウム酸化物膜を有するポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)といった樹脂フィルムは、いずれも実施例2−7記載の機能を有するアルミニウム酸化物機能膜を有する基材として利用が可能である。
2・・・基材ホルダ(ヒーター付)、
3・・・スプレーノズル、
4・・・コンプレッサ−、
5・・・基材、
6・・・水蒸気導入用チューブ
Claims (16)
- (A)下記一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物またはその部分加水分解物の有機溶媒溶液を、基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布して塗布膜を形成する工程、
但し、前記部分加水分解物は、前記有機アルミニウム化合物に対してモル比で0.7以下の水を用いて前記有機アルミニウム化合物を有機溶媒中で部分的に加水分解して得た物であり、かつ
前記噴霧塗布は、0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行う、
(B)前記塗布膜を形成した基材を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下、400℃以下の温度で加熱して、前記塗布膜からアルミニウム酸化物膜を形成する工程、
を含むアルミニウム酸化物膜を有する物品の製造方法。
- 前記工程(A)において、有機アルミニウム化合物の有機溶媒溶液を用い、
一般式(1)中、R1は炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐したアルキル基、R2、R3は独立に、炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐したアルキル基、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルコキシル基、アシルオキシ基、またはアセチルアセトナート基を表す、請求項1に記載の製造方法。 - 前記有機溶媒が電子供与性を有する有機溶媒を含有し、かつ
前記溶液中の有機アルミニウム化合物の濃度が、0.1〜35重量%である、
請求項2に記載の製造方法。 - 前記電子供与性を有する有機溶媒を構成する分子のモル数が、有機アルミニウム化合物のモル数に対して等倍以上存在することを特徴とする請求項3に記載の製造方法。
- 前記工程(A)の噴霧塗布において、基材表面の温度が20〜300℃である請求項2〜4のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記工程(A)において、有機アルミニウム化合物の部分加水分解物の有機溶媒溶液を用い、
前記工程(A)で用いる前記有機溶媒が、炭化水素化合物および/または電子供与性を有する有機溶媒を含有する有機溶媒である請求項1に記載の製造方法。 - 前記有機溶媒溶液における部分加水分解物濃度が0.1〜35質量%の範囲である請求項6に記載の製造方法。
- 前記工程(A)を400℃以下の温度での加熱下で行い、前記工程(A)と同時に又は引き続き工程(B)での加熱を行う請求項6または7に記載の製造方法。
- 前記噴霧塗布は、スプレー塗布法、スプレー熱分解法、静電塗布法、又はインクジェット法により行う、請求項1〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記一般式(1)中のR1がメチル基またはエチル基である請求項1〜9のいずれか一項に記載の製造方法。
- 下記一般式(1)で示される有機アルミニウム化合物の有機溶媒溶液からなる膜形成用組成物であって、
前記組成物は、膜の塗布形成が0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行われるアルミニウム酸化物膜の形成に用いるための物である、前記組成物。
- 下記一般式(1)で表される有機アルミニウム化合物を有機溶媒中で部分的に加水分解して得られた、前記有機アルミニウム化合物の部分加水分解物を含有する膜形成用組成物であって、
(a)前記部分加水分解は、前記有機アルミニウム化合物に対するモル比が0.7以下の水を用いて行われ、かつ
(b)前記組成物は、膜塗布形成が0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行われるアルミニウム酸化物膜の形成に用いるための物である、前記組成物。
- 前記0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で行われる膜塗布形成は、
(c1)前記組成物を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で基材の少なくとも一部の表面に噴霧塗布して塗布膜を形成する工程、および
(c2)前記塗布膜を形成した基材を0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下、400℃以下の温度で加熱して、アルミニウム酸化物膜を形成する工程、を含む、請求項11または12に記載の組成物。 - 基材に密着した透明なアルミニウム酸化物膜を形成するための請求項11〜13のいずれか一項に記載の組成物。
- 請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法、または請求項11〜14のいずれか一項に記載の組成物を用いて0.5モル%〜30モル%の水分を含有する不活性ガス雰囲気下で製造した、アルミニウム酸化物膜を有する物品。
- 前記物品がアルミニウム酸化物膜を基材に付着した複合体またはアルミニウム酸化物膜とアルミニウム酸化物膜以外の層とを有する複合膜を基材に付着した複合体である請求項15に記載のアルミニウム酸化物膜を有する物品。
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