JP5822449B2 - 酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物 - Google Patents
酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物 Download PDFInfo
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Description
(請求項1)
下記一般式(1)で表される有機亜鉛化合物を電子供与性有機溶媒と電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒との混合溶媒に溶解した溶液である酸化亜鉛薄膜製造用組成物。
R1−Zn−R1 (1)
(式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐したアルキル基である。)
(請求項2)
前記混合有機溶媒は、電子供与性有機溶媒を3〜90重量%含有し、一般式(1)で表される有機亜鉛化合物は混合有機溶媒に4〜12質量%の範囲の濃度で含有される請求項1記載の組成物。
(請求項3)
下記一般式(1)で表される有機亜鉛化合物を水で少なくとも部分加水分解して得られる部分加水分解物および電子供与性有機溶媒と電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒との混合有機溶媒を含む酸化亜鉛薄膜製造用組成物。
R1−Zn−R1 (1)
(式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐したアルキル基である。)
(請求項4)
前記混合有機溶媒は電子供与性有機溶媒を3〜90重量%含有する請求項3記載の組成物。
(請求項5)
一般式(1)で表される有機亜鉛化合物の部分加水分解は、電子供与性有機溶媒、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒またはそれらを混合した有機溶媒に、一般式(1)で表される有機亜鉛化合物を溶解した溶液に水を添加することで行う請求項3または4記載の組成物。
(請求項6)
一般式(1)で表される有機亜鉛化合物を、電子供与性有機溶媒、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒またはそれらを混合した有機溶媒に、4〜12質量%の範囲の濃度に溶解した溶液を部分加水分解する請求項5記載の組成物。
(請求項7)
前記部分加水分解物は、前記有機亜鉛化合物に対するモル比が0.05〜0.8の範囲になるよう水を添加して行う、請求項5または6記載の組成物。
(請求項8)
請求項1〜7のいずれかに記載の組成物に、下記一般式(2)または(3)で表される3B族元素化合物を前記有機亜鉛化合物に対するモル比が0.005〜0.1の割合になるよう添加して得られる酸化亜鉛薄膜製造用組成物。
(式中、Mは3B族元素であり、R2、R3、R4は独立に、水素、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルキル基、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルコキシル、カルボン酸、または、アセチルアセトナート基であり、Lは窒素、酸素、またはリンを含有した配位性有機化合物であり、nは0〜9の整数である。)
McXd・aH2O (3)
(式中、Mは3B族元素であり、Xは、ハロゲン原子、硝酸または硫酸であり、Xがハロゲン原子または硝酸の場合、cは1、dは3、Xが硫酸の場合、cは2、dは3、aは0〜9の整数である。)
(請求項9)
下記一般式(1)で表される有機亜鉛化合物および、
R1−Zn−R1 (1)
(式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐したアルキル基である。)
前記有機亜鉛化合物に対するモル比が0.005〜0.09の割合の下記一般式(2)または(3)で表される3B族元素化合物を含む組成物において、少なくとも前記有機亜鉛化合物を水で部分加水分解して得られる部分加水分解物および電子供与性有機溶媒と電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒との混合有機溶媒を含む組成物。
(式中、Mは3B族元素であり、R2、R3、R4は独立に、水素、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルキル基、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルコキシル、カルボン酸、または、アセチルアセトナート基であり、Lは窒素、酸素、またはリンを含有した配位性有機化合物であり、nは0〜9の整数である。)
McXd・aH2O (3)
(式中、Mは3B族元素であり、Xは、ハロゲン原子、硝酸または硫酸であり、Xがハロゲン原子または硝酸の場合、cは1、dは3、Xが硫酸の場合、cは2、dは3、aは0〜9の整数である。)
(請求項10)
前記混合有機溶媒は電子供与性有機溶媒を3〜90重量%含有する請求項9記載の組成物。
(請求項11)
前記部分加水分解は、電子供与性有機溶媒、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒またはそれらを混合した有機溶媒に、一般式(1)で表される有機亜鉛化合物および一般式(2)または(3)で表される3B族元素化合物を溶解した溶液に水を添加することで行う請求項9記載の組成物。
(請求項12)
前記有機亜鉛化合物および前記3B族元素化合物の、電子供与性有機溶媒、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒またはそれらを混合した有機溶媒における濃度は、4〜12質量%の範囲である請求項11記載の組成物。
(請求項13)
前記部分加水分解は、前記有機亜鉛化合物に対するモル比が0.05〜0.8の範囲になるよう水を添加して行う請求項11または12記載の組成物。
(請求項14)
前記電子供与性有機溶媒の沸点が230℃以下である請求項1〜13のいずれかに記載の組成物。
(請求項15)
前記の電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒が、直鎖、分岐炭化水素化合物、または環状炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物およびそれらの混合物のうち少なくとも一つを含む請求項1〜14のいずれかに記載の組成物。
(請求項16)
前記の電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒がヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサンのうち少なくとも一つを含む請求項1〜15のいずれかに記載の組成物。
(請求項17)
前記有機亜鉛化合物がジエチル亜鉛である請求項1〜16のいずれかに記載の組成物。
(請求項18)
前記一般式(2)の3B族元素化合物がトリメチルインジウム、トリエチルインジウム、トリメチルガリウム、トリエチルガリウム、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリスアセチルアセトナトアルミニウム、トリスアセチルアセトナトガリウム、トリスアセチルアセトナトインジウム、塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、トリメトキシボラン、トリエトキシボラン、トリイソプロポキシインジウム、トリイソプロポキシガリウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリtert−ブトキシインジウム、トリtert−ブトキシガリウムのうち少なくとも一つを含む請求項8〜17のいずれかに記載の組成物。
(請求項19)
前記電子供与性有機溶媒が1,2−ジエトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンのいずれか1つを含む請求項1〜18のいずれかに記載の組成物。
本発明の酸化亜鉛薄膜製造用組成物は、以下の(i)〜(v)に示す5つの態様を含む。
(式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐したアルキル基である)
McXd・aH2O (2)
(式中、Mは3B族元素であり、Xは、ハロゲン原子、硝酸または硫酸であり、Xがハロゲン原子または硝酸の場合、cは1、dは3、Xが硫酸の場合、cは2、dは3、aは0〜9の整数である。)
(式中、Mは3B族元素であり、R2、R3、R4は独立に、水素、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルキル基、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルコキシル基、カルボン酸基、もしくはアセチルアセトナート基であり、さらに、Lは窒素、酸素、リンいずれかを含有した配位性有機化合物であり、bは0〜9の整数である。)
R1−Zn−[O−Zn]p−R1 (4)
(式中、R1は一般式(1)におけるR1と同じであり、pは2〜20の整数である。)
(R1−Zn)− (5)
−[O−Zn]m− (6)
(式中、R1は一般式(1)におけるR1と同じであり、mは2〜20の整数である。)
(式中、Mは一般式(2)または(3)におけるMと同じであり、Qは一般式(2)または(3)におけるX、R2、R3、R4のいずれかと同じであり、mは2〜20の整数である。)
本発明の酸化亜鉛薄膜形成用組成物を用いる酸化亜鉛薄膜の製造方法について説明する。基板表面に本発明の酸化亜鉛薄膜形成用組成物を塗布し、次いで、得られた塗布膜を加熱して酸化亜鉛薄膜を得る。塗布を例えば、スピンコート法、ディップコート法およびスプレー熱分解法で行う場合には、可視光線に対して80%以上の平均透過率を有しかつ導電性を有する酸化亜鉛薄膜を形成することができる。
上記方法により作製した酸化亜鉛薄膜は、優れた透明性と導電性を有することから、帯電防止膜、紫外線カット膜、透明導電膜等として使用できる。帯電防止膜は、例えば、固体電界コンデンザ、化学増幅系レジスト、窓ガラス等の建材等の分野に利用できる。紫外線カット膜は、例えば、画像表示装置の前面フィルター、ドライブレコーダー等の撮像装置、高圧放電ランプ等の照明器具、時計用カバーガラス、窓ガラス等の建材等の分野に利用できる。さらに、透明導電膜は、例えば、FPD、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル、薄膜シリコン太陽電池および化合物(CdTe、CIS)系薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機系薄膜太陽電池等の分野に利用できる。但し、これらの分野に限定される意図ではない。
テトラヒドロフラン30重量%およびn−ヘキサン70重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、トリメチルインジウム(TMI)を、仕込んだジエチル亜鉛に対してモル比で0.04になるよう添加し、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、インジウムを含有する溶液を56.4g得た。真空乾燥により溶媒等を除去した後のNMR(THF−d8,ppm)測定により図2のスペクトルを得た。
実施例1のようにして得た塗布液を、図1のスプレー製膜装置中スプレーボトルに充填した。18mm角のコーニング1737ガラス基板を基板ホルダに設置した。窒素ガス雰囲気下で、ガラス基板を300℃に加熱した後、35℃の水を毎分10Lでバブリングした窒素ガスを水蒸気導入用チューブ6で基板付近に導入することにより水を導入した。その後、スプレーノズルより塗布液を4ml/minで8分間噴霧した。スプレーノズルより吐出する液滴の大きさは、3〜20μmの範囲であり、かつスプレーノズルと基板との距離を30cmとして行った。形成された薄膜は、表1のようになった。
テトラヒドロフラン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、トリメチルインジウム(TMI)を、仕込んだジエチル亜鉛に対してモル比で0.04になるよう添加し、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、インジウムを含有する溶液を56.4g得た。
実施例3のようにして得た塗布液を、ガラス基板の加熱温度を300℃として、実施例2と同様の装置および成膜条件でスプレー成膜を行った。表1のようになった。
テトラヒドロフラン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、トリメチルガリウム(TMG)を、仕込んだジエチル亜鉛に対してモル比で0.04になるよう添加し、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、ガリウムを含有する溶液を56.4g得た。
実施例5のようにして得た塗布液を用い、ガラス基板の加熱温度を300℃として、実施例2と同様の装置および成膜条件でスプレー成膜を行った。形成された薄膜は、表1のようになった。
テトラヒドロフラン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、三塩化ガリウム(GaCl3)を、仕込んだジエチル亜鉛に対してモル比で0.04になるよう添加し、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、ガリウムを含有する溶液を56.4g得た。
1,2−ジエトキシエタン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、溶液を56.2g得た。
テトラヒドロフラン10重量%およびトルエン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、溶液を56.2g得た。
テトラヒドロフラン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、12℃まで冷却した。5.0%水を含有したテトラヒドロフラン溶液を、水のジエチル亜鉛に対するモル比が0.3になるように滴下した。その後、室温(22℃)まで昇温し室温で18時間反応させた後、トリメチルインジウム(TMI)を、仕込んだジエチル亜鉛に対してモル比で0.04になるよう添加し、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、インジウムを含有する溶液を56.7g得た。
実施例10のようにして得た塗布液を、ガラス基板の加熱温度を300℃として、実施例2と同様の装置および成膜条件でスプレー成膜を行った。形成された薄膜は、表1のようになった。
テトラヒドロフラン24重量%およびn−ヘキサン76重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、12℃まで冷却した。5.0%水を含有したテトラヒドロフラン溶液を、水のジエチル亜鉛に対するモル比が0.6になるように滴下した。その後、室温(22℃)まで昇温し室温で18時間反応させた後、トリメチルインジウム(TMI)を、仕込んだジエチル亜鉛に対してモル比で0.04になるよう添加し、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、インジウムを含有する溶液を56.8g得た。
テトラヒドロフラン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、12℃まで冷却した。5.0%水を含有したテトラヒドロフラン溶液を、水のジエチル亜鉛に対するモル比が0.3になるように滴下した。その後、室温(22℃)まで昇温し室温で18時間反応させた後、以上のようにして得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、溶液を56.5g得た。
テトラヒドロフラン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、12℃まで冷却した。5.0%水を含有したテトラヒドロフラン溶液を、水のジエチル亜鉛に対するモル比が0.6になるように滴下した。その後、室温(22℃)まで昇温し室温で18時間反応させた後、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、溶液を56.6g得た。
テトラヒドロフラン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、12℃まで冷却した。5.0%水を含有したテトラヒドロフラン溶液を、水のジエチル亜鉛に対するモル比が0.8になるように滴下した。その後、室温(22℃)まで昇温し室温で18時間反応させた後、得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、溶液を56.8g得た。
テトラヒドロフラン10重量%およびn−ヘキサン90重量%の混合溶媒51.7gにジエチル亜鉛4.5g(8.0重量%相当)を加えた。十分攪拌した後、12℃まで冷却した。5.0%水を含有したテトラヒドロフラン溶液を、水のジエチル亜鉛に対するモル比が0.3になるように滴下した。その後、室温(22℃)まで昇温し室温で18時間反応させた後、トリメチルインジウム(TMI)を仕込んだジエチル亜鉛に対してモル比で0.02になるよう添加した。以上のようにして得た溶液をメンブレンフィルターでろ過することにより、インジウムを含有する溶液を56.5g得た。
実施例16のように得た生成物含有塗布液をスピンコート法により18mm角のコーニング1737ガラス基板表面上に実施例12と同様の条件で塗布成膜し、酸化亜鉛を形成させた。形成された薄膜は、表1のようになった。
2−メトキシエタノール24.12gに、酢酸亜鉛二水和物1.23gと助剤としてエタノールアミン0.34g、さらに、トリスアセチルアセナトアルミニウムを酢酸亜鉛二水和物に対してモル比0.02の割合で加え、十分攪拌することでアルミニウムを含有する塗布液を得た。
トリスアセチルアセナトアルミニウムを塩化ガリウムに変更した以外は、比較例1と同様にしてガリウムを含有する塗布液を得た。
トリスアセチルアセナトアルミニウムを塩化インジウム四水和物に変更した以外は、比較例1と同様にしてインジウムを含有する塗布液を得た。
2・・・基板ホルダ(ヒーター付)、
3・・・スプレーノズル、
4・・・コンプレッサ−、
5・・・無アルカリガラス基板、
6・・・水蒸気導入用チューブ
Claims (17)
- 下記一般式(1)で表される有機亜鉛化合物を、前記有機亜鉛化合物に対するモル比が0.05〜0.8の範囲の水で部分加水分解して得られる部分加水分解物および電子供与性有機溶媒と直鎖、分岐炭化水素化合物、または環状炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物およびそれらの混合物のうち少なくとも一つを含む、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒との混合有機溶媒を含む酸化亜鉛薄膜製造用組成物。
R1−Zn−R1 (1)
(式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐したアルキル基である。) - 前記混合有機溶媒は電子供与性有機溶媒を3〜90重量%含有する請求項1記載の組成物。
- 一般式(1)で表される有機亜鉛化合物の部分加水分解は、電子供与性有機溶媒、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒またはそれらを混合した有機溶媒に、一般式(1)で表される有機亜鉛化合物を溶解した溶液に水を添加することで行う請求項1または2記載の組成物。
- 一般式(1)で表される有機亜鉛化合物を、電子供与性有機溶媒、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒またはそれらを混合した有機溶媒に、4〜12質量%の範囲の濃度に溶解した溶液を部分加水分解する請求項3記載の組成物。
- 下記一般式(1)で表される有機亜鉛化合物を電子供与性有機溶媒と直鎖、分岐炭化水素化合物、または環状炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物およびそれらの混合物のうち少なくとも一つを含む、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒との混合溶媒に溶解した溶液に、下記一般式(2)または(3)で表される3B族元素化合物を前記有機亜鉛化合物に対するモル比が0.005〜0.1の割合になるよう添加して得られる酸化亜鉛薄膜製造用組成物。
R1−Zn−R1 (1)
(式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐したアルキル基である。)
(式中、Mは3B族元素であり、R2、R3、R4は独立に、水素、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルキル基、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルコキシル、カルボン酸、または、アセチルアセトナート基であり、Lは窒素、酸素、またはリンを含有した配位性有機化合物であり、nは0〜9の整数である。)
McXd・aH2O (3)
(式中、Mは3B族元素であり、Xは、ハロゲン原子、硝酸または硫酸であり、Xがハロゲン原子または硝酸の場合、cは1、dは3、Xが硫酸の場合、cは2、dは3、aは0〜9の整数である。) - 前記混合有機溶媒は、電子供与性有機溶媒を3〜90重量%含有し、一般式(1)で表される有機亜鉛化合物は混合有機溶媒に4〜12質量%の範囲の濃度で含有される請求項5記載の組成物。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の組成物に、下記一般式(2)または(3)で表される3B族元素化合物を前記有機亜鉛化合物に対するモル比が0.005〜0.1の割合になるよう添加して得られる酸化亜鉛薄膜製造用組成物。
(式中、Mは3B族元素であり、R2、R3、R4は独立に、水素、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルキル基、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルコキシル、カルボン酸、または、アセチルアセトナート基であり、Lは窒素、酸素、またはリンを含有した配位性有機化合物であり、nは0〜9の整数である。)
McXd・aH2O (3)
(式中、Mは3B族元素であり、Xは、ハロゲン原子、硝酸または硫酸であり、Xがハロゲン原子または硝酸の場合、cは1、dは3、Xが硫酸の場合、cは2、dは3、aは0〜9の整数である。) - 下記一般式(1)で表される有機亜鉛化合物および、
R1−Zn−R1 (1)
(式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐したアルキル基である。)
前記有機亜鉛化合物に対するモル比が0.005〜0.09の割合の下記一般式(2)または(3)で表される3B族元素化合物を水で部分加水分解して得られる部分加水分解物および電子供与性有機溶媒と直鎖、分岐炭化水素化合物、または環状炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物およびそれらの混合物のうち少なくとも一つを含む、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒との混合有機溶媒を含む酸化亜鉛薄膜製造用組成物。
(式中、Mは3B族元素であり、R2、R3、R4は独立に、水素、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルキル基、炭素数1〜7の直鎖もしくは分岐したアルコキシル、カルボン酸、または、アセチルアセトナート基であり、Lは窒素、酸素、またはリンを含有した配位性有機化合物であり、nは0〜9の整数である。)
McXd・aH2O (3)
(式中、Mは3B族元素であり、Xは、ハロゲン原子、硝酸または硫酸であり、Xがハロゲン原子または硝酸の場合、cは1、dは3、Xが硫酸の場合、cは2、dは3、aは0〜9の整数である。) - 前記混合有機溶媒は電子供与性有機溶媒を3〜90重量%含有する請求項8記載の組成物。
- 前記部分加水分解は、電子供与性有機溶媒、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒またはそれらを混合した有機溶媒に、一般式(1)で表される有機亜鉛化合物および一般式(2)または(3)で表される3B族元素化合物を溶解した溶液に水を添加することで行う請求項8記載の組成物。
- 前記有機亜鉛化合物および前記3B族元素化合物の、電子供与性有機溶媒、電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒またはそれらを混合した有機溶媒における濃度は、4〜12質量%の範囲である請求項10記載の組成物。
- 前記部分加水分解は、前記有機亜鉛化合物および前記3B族元素化合物に対するモル比が0.05〜0.8の範囲になるよう水を添加して行う請求項10または11記載の組成物。
- 前記電子供与性有機溶媒の沸点が230℃以下である請求項1〜12のいずれかに記載の組成物。
- 前記の電子供与性有機溶媒とは異なる種類の有機溶媒がヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサンのうち少なくとも一つを含む請求項1〜13のいずれかに記載の組成物。
- 前記有機亜鉛化合物がジエチル亜鉛である請求項1〜14のいずれかに記載の組成物。
- 前記一般式(2)の3B族元素化合物がトリメチルインジウム、トリエチルインジウム、トリメチルガリウム、トリエチルガリウム、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリスアセチルアセトナトアルミニウム、トリスアセチルアセトナトガリウム、トリスアセチルアセトナトインジウム、塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、トリメトキシボラン、トリエトキシボラン、トリイソプロポキシインジウム、トリイソプロポキシガリウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリtert−ブトキシインジウム、トリtert−ブトキシガリウムのうち少なくとも一つを含む請求項8〜15のいずれかに記載の組成物。
- 前記電子供与性有機溶媒が1,2−ジエトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンのいずれか1つを含む請求項1〜16のいずれかに記載の組成物。
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