JP2016009857A - 侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料 - Google Patents

侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料 Download PDF

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Abstract

【課題】本発明は、侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料を提供する。【解決手段】本発明は、A−B−A−C−A元素が5層に積層される単位セルからなり、前記単位セルの末端のA元素と他の単位セル末端のA元素が互いにファンデルワールス結合によって繰返し積層される構造を有するTe系熱電材料において、前記繰返し積層されるA元素と隣接するA元素との間にドーピング材としての侵入型元素が侵入して位置し、繰返し積層される単位セルの積層欠陥が発生して前記単位セルとは異なる複合結晶構造が形成されると同時に双晶が形成される侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料(ここで、AはTeまたはSeであり、BはBiまたはSbであり、CはBiまたはSbである。)を技術的要旨とする。【選択図】図4

Description

本発明は、侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料に係り、さらに詳しくは、Te系熱電材料に銀(Ag)などの侵入型ドーピング材を添加することにより、ドーピング材が侵入型サイトに位置し熱電材料の格子積層を破壊して積層欠陥による新しい複合結晶構造を形成させることで熱電性能を向上させる、侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料に関する。
一般に、熱電発電および熱電冷却のために材料として使用される熱電材料は、熱電特性が増加するほど熱電素子の性能が向上する。その熱電性能を決定することは、熱起電力(V)、ゼーベック係数(α)、ペルティエ係数(π)、トムソン係数(τ)、ネルンスト係数(Q)、エッティングスハウゼン係数(P)、電気伝導率(σ)、出力因子(PF)、性能指数(Z)、無次元性能指数(ZT=ασT/κ(ここで、Tは絶対温度である。))、熱伝導率(κ)、ローレンツ数(L)、電気抵抗率(ρ)などの物性である。
特に、無次元性能指数(ZT)は、熱電変換エネルギーの効率を決定する重要な要素であって、性能指数(Z= ασ/κ)の値が大きい熱電材料を用いて熱電素子を製造することにより、冷却および発電の効率を高めることができる。
現在商用化された熱電材料は、ZTが約1程度であり、その中でも、AgPbSbTem+2合金はZT=1.7(700Kで)と知られており、熱電特性に非常に優れる方である。
AgPbSbTem+2合金は、立方体結晶構造であって、鉛(Pb)とテレニウム(Te)とが交差して配置され、銀(Ag)とアンチモン(Sb)が鉛(Pb)と置換されて位置している。ところが、このような従来の熱電材料は、熱電性能があまり優れないため、高精密を要する分野への適用には限界があるという問題点がある。
前述した従来の技術の問題点を解決するために、特許文献1(2011年7月7日公開)に「ドーピング材の添加による双晶が形成されたTe系熱電材料の製造方法およびその熱電材料」が開示されている。前記従来の技術は、Te系熱電材料およびこれに添加されるドーピング材の原料を組成比に合わせてそれぞれ秤量し、真空状態のアンプルに装入し炉(furnace)に入れて溶融させる第1段階と、前記溶融した原料を温度のみ低めて熱処理した後、急冷させてインゴットを製造する第2段階と、前記インゴットを破砕して熱間プレス工程を経た後にワイヤーカットする第3段階とを含んでなり、前記ドーピング材のイオン半径が56〜143pmであるドーピング材の添加による双晶が形成されたTe系熱電材料の製造方法に関するものである。
他の従来の技術としては、特許文献2(2013年7月10日公開)に「ドーピング材の添加およびナノ粒子の焼結による双晶が形成されたTe系熱電材料の製造方法」が開示されている。
この従来の技術は、Te系熱電材料およびこれに添加されるドーピング材の原料を組成比に合わせてそれぞれ秤量し、真空状態のアンプルに装入し炉に入れて溶融させる第1段階と、前記溶融した原料を急冷させてインゴットを製造する第2段階と、前記インゴットを破砕してナノサイズの原料粒子を得る第3段階と、前記ナノサイズの原料粒子をスパークプラズマ焼結(spark plasma sintering)工程を用いて1分〜20分焼結させる第4段階と、前記第4段階で得た焼結物をワイヤーカットする第5段階とを含んでなる、ドーピング材の添加およびナノ粒子の焼結による双晶が形成されたTe系熱電材料の製造方法に関するものである。
ところが、これらの従来の技術は、ドーピング材として添加された物質がTe系熱電材料の特定の原子と置換されることにより、結晶構造の変形を起こして双晶を形成する方法であって、無次元性能指数などの熱電性能は向上させるが、その結晶の変形程度が大きくないため、熱電性能の増加程度が大きくない方であるという問題点がある。
韓国公開特許第10−2011−0079490号 韓国公開特許第10−2013−0078478号
そこで、本発明は、前述したような従来の問題点を解決するためになされるもので、その目的は、Te系熱電材料に銀(Ag)などの侵入型ドーピング材を添加することにより、ドーピング材が侵入型サイトに位置し熱電材料の格子積層を破壊して積層欠陥による新しい複合結晶構造を形成させることで熱電性能を向上させる、侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明によれば、A−B−A−C−A元素が5層に積層される単位セルからなり、前記単位セルの末端のA元素と他の単位セル末端のA元素が互いにファンデルワールス結合によって繰返し積層される構造を有するTe系熱電材料において、前記繰返し積層されるA元素と隣接するA元素との間にドーピング材としての侵入型元素が侵入して位置し、繰返し積層される単位セルの積層欠陥が発生して前記単位セルとは異なる複合結晶構造が形成されるとともに双晶が形成される、侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料(ここで、AはTeまたはSeであり、BはBiまたはSbであり、CはBiまたはSbである。)を技術的特徴とする。
前記Te系熱電材料は、Bi0.5Sb1.5Te、BiTe、SbTeおよびBiSeのいずれか一つを基本組成とする物質、またはこれらを2つ以上混合した混合物を使用することが好ましい。
前記複合結晶構造は、Bi13Te20構造を有する物質であることが好ましい。
前記ドーピング材は、Na、K、Zn、Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Pd、Ag、Pt、AuおよびHgのいずれか一つ、またはこれらを2つ以上混合した混合物であることが好ましい。
前記ドーピング材は、Te系熱電材料に対して0.01〜1重量%添加されることが好ましい。
これにより、Te系熱電材料に銀(Ag)などの侵入型ドーピング材を添加することにより、ドーピング材が侵入型サイトに位置し熱電材料の格子積層を破壊して積層欠陥による新しい複合結晶構造を形成させることで熱電性能を向上させるという利点がある。
上述した構成による本発明は、Te系熱電材料に銀(Ag)などの侵入型ドーピング材を添加することにより、ドーピング材が侵入型サイトに位置し熱電材料の格子積層を破壊して積層欠陥による新しい複合結晶構造を形成させることで熱電性能を向上させるという効果がある。
本発明の一実施形態に係るTe系熱電素子であるBiTeの結晶構造を示す構造図である。 本発明の一実施形態に係るTe系熱電素子であるBiTeの結晶構造を簡単に模式化した模式図である。 本発明の一実施形態に係る侵入型サイトに銀元素が位置するBi13Te20結晶構造を模式化した模式図である。 本発明の一実施形態に係る銀が0.01重量%添加されて形成された熱電材料の(a)走査顕微鏡写真と、(b)その拡大写真、(c)HRTEMイメージ、(d)双晶境界の模式図、およびこれに対応する格子積層構造を示す図である。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。
図1は本発明の一実施形態に係るTe系熱電素子であるBiTeの結晶構造を示す構造図であり、図2は本発明の一実施形態に係るTe系熱電素子であるBiTeの結晶構造を簡単に模式化した模式図、図3は本発明の一実施形態に係る侵入型サイトに銀元素が位置するBi13Te20結晶構造を模式化した模式図、図4は本発明の一実施形態に係る銀が0.01重量%添加されて形成された熱電材料の(a)走査顕微鏡写真と、(b)その拡大写真、(c)HRTEMイメージ、(d)双晶境界の模式図、およびこれに対応する格子積層構造を示す図である。
図示の如く、Te系熱電素子の一つであるBiTeは、図1および図2に示すように、Te(1)−Bi−Te(2)−Bi−Te(1)の5層の繰返し構造を有する。
その構造は、両端に存在するTe(1)を境界として新たに繰り返される5層がファンデルワールス(Van der Waals)結合をしている。
すなわち、Te(1)−Bi−Te(2)−Bi−Te(1)/Te(1)−Bi−Te(2)−Bi−Te(1)の5層が繰り返された構造において、Te(1)/Te(1)はファンデルワールス結合をしている。
本発明では、前記Te(1)−Bi−Te(2)−Bi−Te(1)/Te(1)−Bi−Te(2)−Bi−Te(1)の5層が繰り返された構造を有するBiTe熱電材料にドーピング材を添加し、前記ドーピング材に添加された元素が前記Te(1)/Te(1)層の間の侵入型サイトに位置することにより、BiTe構造の一般な格子積層が崩れて積層欠陥が発生し、新しい複合結晶構造が形成される。
本発明の実施形態では、ドーピング材として銀(Ag)を添加し、ドーピング材の添加によって、図3に示すように、Te(1)/Te(1)層の間の侵入型サイトに銀元素が位置して/Te−Bi−Te−Bi−Te/Te−Bi−Te−Bi−Te/のように繰り返された構造層が崩れてしまい、これとは異なりTe−Bi−Te−Bi−Te/Ag/Te−Bi−Te/のようにAgを中心として5層と3層が混合されたBi13Te20構造を有する、新しい形態の格子構造を有する物質が形成される。これは積層欠陥によって単位格子内で双晶が形成されるとともに、BiTe層が混合された構造を示すと確認される。
本発明では、侵入型ドーピング材の添加によって積層欠陥を確認するために試片を製作し、その構造を考察したところ、99.999%以上の高純度Te系熱電材料からBiTe熱電材料を形成することが分かった。
そして、この熱電材料とドーピング材としてのAgを塩酸、硝酸、アセトン、エタノールなどを用いて洗浄した後、各原料を組成に合わせて精密秤で秤量して準備する。この際、ドーピング材としてのAgは、Te系熱電材料BiTeに対して0.01重量%〜1重量%で添加することが好ましく、添加量が0.01重量%より少なければ、添加による効果が殆ど現れず、添加量が1重量%超過であれば、ドーピング水準を越えて熱電効率がむしろ悪くなる。
本発明の実施形態では、BiTeに対して銀が0.1重量%で添加された試み片を製作し、秤量されて準備された原料を石英管アンプルに装入し、アンプルの内部圧力が10−5Torr水準となるようにし、アルゴン(Ar)ガスを充填して石英管アンプルを密封する。
密封されたアンプルを炉(furnace)に入れて960℃程度で10時間溶融させた後、急冷させる。その次に、前記急冷によって形成されたインゴットをナノサイズの粒子に破砕して420℃の温度で10分間50MPaの圧力でスパークプラズマ工程を行った後、ワイヤーカットして所定のサイズの熱電材料試片を製造する。
前記製造された試片の走査電子顕微鏡写真およびこれに対応する構造を考察したところ、図4に示すように、Te−Bi−Te−Bi−Te/Ag/Te−Bi−Te/のようにAgを中心に5層と3層が混合された構造であって、6つのBiTeと共に一つのBiTeが混合された新しい結晶構造であるBTNS(Bi13Te20)構造を有する、新しい形態の複合結晶構造を有する物質が形成されることが分かった。これは銀元素が侵入型として存在することを示唆する。
前述したようにドーピング材が侵入型として存在し、ドーピング材元素の侵入によって元来の結晶構造とは異なる新しい形態の複合結晶構造は、Te系熱電素子では容易に形成されるだろうと理解される。
上記の実験的結果に基づいて、理論的証明のための電子構造計算過程を行い、その結果を下記表1に示した。
表1に明らかなように、一般なBiTe構造にAgを添加したとき、AgはTe(1)−Te(1)層の間に侵入型として存在することにより最も低い双晶形成エネルギーを有する。
図2に示す基本的なBiTe結晶構造に基づく計算結果より、侵入型Agがn型伝導を示し、c軸方向に格子定数が増加したことが分かる。
図3において新しく提案された6つのBiTe層と1つのBiTe層を含む結晶構造モデル(=Bi13Te20=BTNS)において、双晶を形成する侵入型Agの場合、エネルギー的に安定した構造を有することを確認した。
表1において、銀が侵入型として存在する場合をAgintと示し、Agsubは銀が特定元素サイトに置換される場合を意味する。Agintは、そのエネルギー値がマイナスの値を有するとともに大きいマイナスの値を有する。これは、低いエネルギー状態を意味し、このような侵入型構造が安定的な状態であることを意味するもので、実験的結果と一致する。
すなわち、本発明において、Te系熱電材料にドーピング材を添加する場合、前記ドーピング材は侵入型として存在して格子の積層欠陥を誘発するとともに双晶を形成させ、これにより熱電素子の熱電性能が増加することを意味する。

Claims (6)

  1. A−B−A−C−A元素が5層に積層される単位セルからなり、前記単位セルの末端のA元素と他の単位セル末端のA元素が互いにファンデルワールス結合によって繰返し積層される構造を有するTe系熱電材料において、
    前記繰返し積層されるA元素と隣接するA元素との間にドーピング材としての侵入型元素が侵入して位置し、繰返し積層される単位セルの積層欠陥が発生して前記単位セルとは異なる複合結晶構造が形成されることを特徴とする、侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料(ここで、AはTeまたはSeであり、BはBiまたはSbであり、CはBiまたはSbである。)。
  2. 前記Te系熱電材料は、Bi0.5Sb1.5Te、BiTe、SbTeおよびBiSeのいずれか一つを基本組成とする物質、またはこれらを2つ以上混合した混合物を使用することを特徴とする、請求項1に記載の侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料。
  3. 前記複合結晶構造は、Bi13Te20構造を有する物質であることを特徴とする、請求項1に記載の侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料。
  4. 前記ドーピング材は、Na、K、Zn、Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Pd、Ag、Pt、AuおよびHgのいずれか一つ、またはこれらを2つ以上混合した混合物であることを特徴とする、請求項1に記載の侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料。
  5. 前記ドーピング材は、Te系熱電材料に対して0.01〜1重量%添加されることを特徴とする、請求項1に記載の侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料。
  6. 前記複合結晶構造には双晶が形成されることを特徴とする、請求項1に記載の侵入型ドーピング材の添加によって複合結晶構造が形成されたTe系熱電材料。
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