JP2015537238A - 反射防止レンズおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、反射防止コーティングを型の光学面に適用する方法に関する。一実施形態では、本方法には、光学面を有するレンズ型を準備する工程；超疎水性材料がダイポーダルシランを含有する、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層を光学面の上に形成する工程；反射防止コーティングの層状構造を超疎水性材料の層の上に形成する工程；および、蒸着を用いるか、または非プロトン性溶媒中の環状アザシランカップリング剤の溶液を用いるディップコーティングによって、前記反射防止コーティングの層状構造に単層の厚さで堆積される環状アザシランカップリング剤の層を形成する工程が含まれる。

Description

関連出願の相互参照

本ＰＣＴ出願は、それ自体がＫａｉ Ｃ．Ｓｕ、Ｌｅｓｌｉｅ Ｆ．Ｓｔｅｂｂｉｎｓ、Ｂｉｌｌ Ｍａｎｔｃｈ、およびＥｕｇｅｎｅ Ｃ．Ｌｅｔｔｅｒによる２０１１年４月１５日出願の米国特許出願第１３／０８８，１９９号、標題「反射防止レンズおよびその製造方法」の一部継続である、２０１２年１０月１０日出願の米国特許出願第１３／６４８，６４２号に対する優先権およびその利益を主張する。上記同時係属出願の開示は、参照によりその全文が本明細書に援用される。

特許、特許出願および様々な刊行物を含みうるいくつかの参照文献は、本発明の記述の中で引用され考察される。そのような参照文献の引用および／または考察は、単に本発明の記述を明解にするために提供されるものであり、いかなるそのような参照文献も本明細書に記載される本発明に対する「先行技術」であると認めるものではない。本明細書において引用され考察されるすべての参照文献は、各々の参照文献が個別に参照により援用されるのと同じ程度まで、参照によりその全文が本明細書に援用される。

本発明は、一般に光学面、より詳細には反射防止レンズおよびその製造方法に関する。

反射防止レンズは、通常、プラスチック製眼用レンズの上の反射防止コーティングで形成される。反射防止（ＡＲ）コーティングは、反射を減らすために眼用レンズおよびその他の光学装置の表面に適用される。特に眼用レンズに関して、レンズが生じるグレアは、夜間運転時またはコンピュータのモニターの前での作業時に特に目立つ多重反射をなくすことによって少なくなるので、反射の減少は、レンズをよりよく見せるだけでなく、より重要なことにはより良く機能させる。グレアの減少は、着用者が、特に一日の終わりに目の疲れが少ないことを見出すことを意味する。ＡＲコーティングは、より多くの光がレンズを通過することも許容し、それはコントラストを増加させ、そのために視力を向上させる。

プラスチック製眼用レンズを注入成形する技術は、レンズ形成材料を２つの型の間に入れ、その後レンズ形成材料を重合して固体にすることを伴う。ＣＲ３９モノマーなどの液体のプラスチック配合物が、レンズの仕上面用に研磨した内部型表面を備えた表型および裏型によって形成される空洞の中に注入される。プラスチックは型の中で硬化し、その後、型が分離されて、選択された処方を満たす完成した眼用レンズが得られる。次に、レンズは、選択されたフレームに嵌るように端部の周囲を研磨される。コーティングは、完成したレンズに、または表型もしくは裏型の内部に適用することができる。適用されるとコーティングは硬化によってレンズに結合する。

検眼士の中には現場で眼鏡のレンズのサービスを提供する者もいる。いくつかの会社はレンズをオフィスにおいて、現場で注入成形することのできる方法を開発した。しかし、ＡＲコーティングは真空蒸着によって適用せねばならないので、ＡＲコーティングを眼鏡のレンズに適用する現在の方法は、レンズを異なる施設に輸送することを必要とする。このことは、当然さらなる時間および出費を意味する。そのため、現場でのＡＲコーティングを伴う、眼鏡のレンズを製造するための方法が必要とされている。

眼用レンズに使用されるＡＲコーティングの１つの種類は、屈折率の高い（ｈｉｇｈ ｉｎｄｅｘ）材料と屈折率の低い（ｌｏｗ ｉｎｄｅｘ）材料を交互に積み重ねたものである。最も一般に使用される屈折率の低い材料は、二酸化ケイ素である；二酸化ジルコニウムおよび／または二酸化チタンが屈折率の高い材料としてしばしば使用される。

特にプラスチック製眼用レンズに適用した時の、ＡＲコーティングによる問題は、粘着である。ＡＲコーティングは、通常、真空蒸着によって適用される。真空蒸着コーティングとそれらの基板との粘着は、一般に問題が多いことは周知である。有機プラスチック製レンズ材料および無機ＡＲ材料は、互いに容易に接着せず、剥離または引掻きをもたらす。したがって、より大きな粘着力でＡＲコーティングをプラスチック製レンズに適用するための新しい方法が必要とされている。

いくつかの特許がシランを用いて無機マトリックスと有機マトリックスを結合させることを開示している。Ｓｏａｎｅ ｅｔ ａｌ．による特許文献１は、酸化ケイ素で作成されるＡＲ多層とアクリレート含有レンズとを結び付けるためにカップリング層を使用することを教示する。カップリング剤は、シロキシ頭部およびアクリレート尾部を有する。該明細書において使用されるシランの例は、メタクリロキシプロピルトリメトキシシランである。

Ｇｏｏｓｅｎｓによる特許文献２は、オルガノポリシロキサンと混合してオルガノシロキサンハードコートと熱可塑性基板との粘着力を増加させるアクリルを教示する。Ｔａｋａｒａｄａ ｅｔ ａｌ．による特許文献３も、オルガノポリシロキサン層と熱可塑性基板との粘着力を増加させるためのプライマーを教示する。このプライマーは、アルコキシシリル化モノマーを含む有機共重合体と、その他の成分の混合物である。

その他の特許は、有機マトリックスと別の有機マトリックスとを結合させるためにシランを使用することを考察している。Ｗａｌｔｅｒｓ ｅｔ ａｌ．による特許文献４は、有機ポリマー層の有機ポリマー基板との粘着性を改善するために有機官能性シランを使用することを教示する。

Ｔａｋａｍｉｚａｗａ ｅｔ ａｌ．による特許文献５は、ＡＲコーティングおよび／またはハードコートを有するプラスチック製レンズを教示する。この特許は先行技術の方法の不十分な粘着を考察し、一組の型を用いてレンズを形成することによってそれらが優れた粘着を達成すると述べている。この際、ＡＲコーティングが最初に型の１つに適用され、次にレンズモノマーが型の間に注入されて重合される。メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤は、ハードコート／ＡＲコート溶液に含めることができ、それはコロイドシリカ、コロイド酸化アンチモンまたはコロイド二酸化チタンを含有してよい。

Ｋｌｅｍｍ ｅｔ ａｌ．による特許文献６は、トップコート、ＡＲコート、引掻き抵抗性コート、耐衝撃性プライマー、およびレンズ基板でレンズを組み立てる方法を教示する。トップコートとＡＲコートの不十分な粘着性の問題に対するＫｌｅｍｍの解決策は、ＡＲコーティング（４層の積み重ねを含む）の第１の層を２枚のＳｉＯ_２の下層として適用することである。別のＳｉＯ_２の薄層が、ＡＲの積み重ねと、引掻き抵抗性コーティングとの間に適用されて、２者間の粘着性を改善する。

上記の参照文献は、一般にゾルゲル化学を使用し、高熱（＞８０℃）を必要とする。しかし、型の光学面が歪められるので、高温に加熱することは、レンズをプラスチック製の型に注入成形し硬化することには適していない。

米国特許第５７３３４８３号明細書 米国特許第４６１５９４７号明細書 米国特許第５０２５０４９号明細書 米国特許第６１５０４３０号明細書 米国特許第５０９６６２６号明細書 米国特許第６９８６８５７号明細書

そのため、当技術分野において上記の欠点および不適合性に取り組む、これまで取り組まれていない必要性が存在する。

一態様では、本発明は、ＡＲコーティングが基板との良好な粘着を示す、プラスチック製眼用レンズなどのプラスチック基板にＡＲコーティングを適用する方法に関し、該方法は高温または昇温状態を避けて実行される。本発明の新規な態様は、超疎水性コーティング中でのダイポーダル（ｄｉｐｏｄａｌ）シランの使用である。予想外にも、超疎水性コーティング中、有効量のダイポーダルシランをレンズ型で使用すると、ＡＲコーティングを安定にすることが見出された。ダイポーダルシランを全くまたは少ししか使用しない場合、ＡＲコーティングは、型またはレンズでひび割れを生じる。

本明細書においてさらに詳細に記載される本発明の別の態様では、環状アザシランカップリング剤の層が、ハードコーティングの粘着を促進するためにＡＲでコーティングした型に適用される。環状アザシランをカップリング剤として非水性光学レンズ形成プロセスで使用するのは、当業界で最初であり、本発明の独創的な発見によってのみであると思われる。

上述の特徴を用いて、本発明は、ＡＲコーティングを有するプラスチック製眼用レンズ、特に眼鏡レンズを現場で製造する、実際的であり経済的に実現可能な方法に関する。

一態様では、本発明は、反射防止コーティングを型の光学面に適用する方法に関する。一実施形態では、この方法には、光学面を有するレンズ型を準備する工程；フッ化物または酸化物材料の堆積層をレンズ型の光学面に形成する工程；疎水性材料が、疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有する、疎水性材料の層を堆積層の上に形成する工程；約５〜４０ｎｍの厚さをもつＳｉＯ_２の第１の層を疎水性材料の層の上に形成する工程；反射防止コーティングの層状構造をＳｉＯ_２の第１の層の上に形成する工程；ならびに、非プロトン性条件下での蒸着によるか、または非プロトン性溶媒中のシランカップリング剤の溶液を用いるディップコーティングによって、反射防止コーティングの層状構造に単層の厚さで堆積されるシランカップリング剤の層を形成する工程が含まれる。

一実施形態では、堆積層は、それに続く全ての層が互いに付着しているままであるように、型表面と疎水性層との間の一時的粘着を提供するように適合化されている。堆積層は、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＢａＦ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、ＨｆＦ_４、ＮｄＦ_４、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、またはそれらの組合せからなる。好ましくは、堆積層は、イオンアシストを用いてＭｇＦ_２で形成され、約４５ｎｍの厚さを有する。

一実施形態では、疎水性層は、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性層であり、ダイポーダルシランの量は、前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である。

一実施形態では、反射防止コーティングの層状構造を超疎水性材料の層の上に形成する工程は、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第２の層をＳｉＯ２_の第１の層に形成する工程；約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第１の層をＳｉＯ_２の第２の層に形成する工程；イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第３の層をＺｒＯ_２の第１の層に形成する工程；約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第２の層をＳｉＯ_２の第３の層に形成する工程；イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第４の層をＺｒＯ_２の第２の層に形成する工程；約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第３の層をＳｉＯ_２の第４の層に形成する工程；および、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第５の層をＺｒＯ_２の第３の層に形成する工程によって実施することができる。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

一実施形態では、カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物からなる。特定の一実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなる。

別の態様では、本発明は、レンズの光学面に転写可能な反射防止コーティングを有する光学面を備えた型に関する。様々な実施形態では、そのような型は、光学面に堆積したフッ化物または酸化物材料の堆積層；疎水性材料が、疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有する、堆積層の上の疎水性材料の層；イオンアシストを用いずに堆積し、疎水性材料の層に堆積した約５〜４０ｎｍの厚さをもつＳｉＯ_２の第１の層；ＳｉＯ_２の第１の層の上に堆積した反射防止コーティングの層状構造；および、蒸着によるかまたは非プロトン性溶媒中のシランカップリング剤の溶液を用いるディップコーティングによって反射防止コーティングの層状構造の上に堆積した単層の厚さをもつシランカップリング剤の層を有する。

一実施形態では、堆積層は、それに続く全ての層が互いに付着しているままであるように、型表面と疎水性層との間の一時的粘着を提供するように適合化されている。堆積層は、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＢａＦ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、ＨｆＦ_４、ＮｄＦ_４、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、またはそれらの組合せからなる。好ましくは、堆積層は、イオンアシストを用いてＭｇＦ_２で形成され、約４５ｎｍの厚さを有する。

一実施形態では、疎水性層は、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性層であり、ダイポーダルシランの量は、前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である。

一実施形態では、反射防止コーティングの層状構造には、ＳｉＯ_２の第１の層にイオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第２の層；ＳｉＯ_２の第２の層に堆積した約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第１の層；ＺｒＯ_２の第１の層にイオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第３の層；ＳｉＯ_２の第３の層に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第２の層；ＺｒＯ_２の第２の層にイオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第４の層；ＳｉＯ_２の第４の層に堆積され、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第３の層；および、ＺｒＯ_２の第３の層にイオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第５の層が含まれる。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

一実施形態では、カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物からなる。様々な実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなる。

さらなる態様では、本発明は、光学レンズに関する。光学レンズは、光学面、光学面の上のハードコート層、およびハードコーティングの上に形成された反射防止コーティングを備えたレンズ体を有し、様々な実施形態では、反射防止コーティングは、ハードコート層の上の、単層の厚さをもつシランカップリング剤の層；シランカップリング剤の層の上の反射防止コーティングの層状構造；カップリング剤の層の上の反射防止コーティングの層状構造の上の、イオンアシストを用いずに堆積した、約５〜４０ｎｍの厚さをもつＳｉＯ_２の第１の層；および、疎水性材料がダイポーダルシランを含有する、ＳｉＯ_２の第１の層の上の約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ疎水性材料の層を有する。

一実施形態では、疎水性層は、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性層であり、ダイポーダルシランの量は、前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

一実施形態では、カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物からなる。様々な実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなる。さらにもう一つの態様では、本発明は、反射防止コーティングを型の光学面に適用する方法に関する。一実施形態では、この方法には、光学面を有するレンズ型を準備する工程；超疎水性材料がダイポーダルシランを含有する、光学面の上に約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層を形成する工程；反射防止コーティングの層状構造を超疎水性材料の層の上に形成する工程；および、非プロトン性条件下での蒸着によるか、または非プロトン性溶媒中のシランカップリング剤の溶液を用いるディップコーティングによって、反射防止コーティングの層状構造の上に単層の厚さをもつカップリング剤の層を形成する工程が含まれる。

一実施形態では、超疎水性材料の層の上に反射防止コーティングの層状構造を形成する工程は、
（１）第１の屈折率および約５〜１００ｎｍの厚さをもつ第１の材料の第１の層を超疎水性材料の層の上に形成する工程；
（２）第２の屈折率および約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の第２の層を、第１の層に形成する工程；
（３）第１の屈折率および約１０〜２０ｎｍの厚さをもつ第１の材料の第３の層を、第２の層に形成する工程；
（４）第２の屈折率および約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の第４の層を、第３の層に形成する工程；
（５）第１の屈折率および約２５〜４０ｎｍの厚さをもつ第１の材料の第５の層を、第４の層に形成する工程；
（６）第２の屈折率および約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ第２の材料の第６の層を、第５の層に形成する工程；ならびに
（７）第１の屈折率および約５〜１５ｎｍの厚さをもつ第１の材料の第７の層を、第６の層に形成する工程
によって実施することができる。

一実施形態では、第１の屈折率Ｌおよび第２の屈折率Ｈは、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす。言い換えれば、第２の屈折率の値は、第１の屈折率の値よりも大きい。

一実施形態では、第１の屈折率をもつ第１の材料はＳｉＯ_２を含み、第２の屈折率をもつ第２の材料はＺｒＯ_２を含む。

本発明を上に述べた方法に従って実行する際、反射防止コーティングの層状構造中のＳｉＯ_２の各層は、イオンアシストを用いて、またはイオンアシストを用いずに堆積される。

これらの反射防止層が当技術分野で公知の技法、例えば抵抗蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタリングおよびその他の公知の技法などによって堆積されてよいことはさらに注目される。場合によって、堆積中にアルゴンまたは酸素のプラズマに蒸発流を触れさせることにより蒸発技法をイオンアシストすることが望ましい。一方、一部のその他の例では、蒸発技法をイオンアシストしないことが望ましい。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

一実施形態では、カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物からなる。特定の一実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなる。

さらにもう一つの態様では、本発明は、レンズの光学面に転写可能な反射防止コーティングを有する光学面を備えた型に関する。様々な実施形態では、そのような型は、疎水性材料が、疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有する、型の光学面の上に堆積した疎水性材料の層；疎水性材料の層の上に堆積した反射防止コーティングの層状構造；および、反射防止コーティングの層状構造の上に堆積した、蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層を有する。一実施形態では、疎水性層は、約３０〜４０ｎｍの厚さを有する超疎水性層であり、ダイポーダルシランの量は、前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

さらなる態様では、本発明は、光学レンズに関する。光学レンズは、光学面および光学面の上に形成された反射防止コーティングを備えるレンズ体を有し、ここで、様々な実施形態では、反射防止コーティングは、光学面の上に堆積した、単層の厚さをもつカップリング剤の層；カップリング剤の層の上に堆積した、反射防止コーティングの層状構造；および、反射防止コーティングの層状構造の上に堆積した、疎水性材料の層を有する。一実施形態では、疎水性層は、約３０〜４０ｎｍの厚さを有する超疎水性層であり、ダイポーダルシランの量は、前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である。

一態様では、本発明は、レンズの製造に使用できるカップリング剤に関する。一実施形態では、シランカップリング剤は、環状アザシランを含む。特定の一実施形態では、環状アザシランは、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンを含む。

本発明のこれらおよびその他の態様は、以下の図面と併せて、以下の好ましい実施形態の説明から明らかとなるが、本開示の新規な概念の精神および範囲から逸脱することなく、その中の変形形態および変更形態をとることもある。

反射防止コーティングされたレンズを製造するための、関連分野で利用されるカップリング剤に関する化学反応を示す図である。 本発明の一実施形態による反射防止コーティングされたレンズを製造するために利用されるカップリング剤に関する化学反応を示す図である。 本発明の一実施形態による反射防止コーティングされたレンズ型の調製を示す図である。 本発明の一実施形態による反射防止コーティングされたレンズ型の調製を示す図である。 本発明の一実施形態による反射防止コーティングされたレンズ型の調製を示す図である。 本発明の一実施形態による反射防止コーティングされたレンズ型の調製を示す図である。

本発明は、以下の実施例でより詳細に記載される。実施例の中の多数の変更および変形は当業者に明らかなので、実施例は、説明だけを意図する。本発明の様々な実施形態をこれから詳細に説明する。図を参照すると、同様の数字は図全体を通して同様の部分を示す。本明細書中の説明および後に続く請求項全体を通して使用されるように、「ａ」、「ａｎ］、および「ｔｈｅ」の意味には、文脈上明らかに指示されている場合を除いて複数形への言及が含まれる。また、本明細書中の説明および後に続く請求項全体を通して使用されるように、「の中（ｉｎ）」の意味には、文脈上明らかに指示されている場合を除いて「の中（ｉｎ）」および「の上（ｏｎ）」への言及が含まれる。

本明細書で使用される用語は、一般に、本発明の状況の範囲内で、そして各用語が使用されている具体的な文脈において、当技術分野におけるその通常の意味を有する。本発明を説明するために使用される特定の用語は、下文において、または明細書中の他所で考察され、本発明の記述に関する実務家にさらなるガイダンスを提供する。本明細書のどこにおいても、例（本明細書において考察されるあらゆる用語の例を含む）の使用は、例証であって、本発明の範囲および意味またはどんな例証された用語の範囲および意味も決して制限しない。同様に、本発明は、本明細書に記載される様々な実施形態に限定されない。

本明細書において、「前後」、「約」または「およそ」は、通常、所与値または範囲の２０パーセント以内、好ましくは１０パーセント以内、より好ましくは５パーセント以内を意味する。本明細書において記載される数量は近似値であり、用語「前後」、「約」または「およそ」が、明白に述べられていないとしても推測することができることを意味する。
発明の全体像

説明は、図１〜６の添付の図面と併せて、本発明の実施形態に関してなされる。本明細書において具体化され、大まかに記載される本発明の目的に従って、本発明は、ＡＲコーティングされた眼鏡レンズ、組成物およびＡＲレンズを作成する方法に関する。

本発明の様々な実施形態によれば、ＭｇＦ_２の層は、好ましくは約４５ｎｍの厚さのプラスチック型の清潔な光学面にイオンアシストを用いて適用される。超疎水性材料のコーティング層を次に適用する。超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する。超疎水性コーティングに続いて、反射防止（ＡＲ）コーティングを適用する。ＡＲコーティングは、最初および最後の層がイオンアシストされたＳｉＯ_２であるように、真空蒸着によって適用される、誘電性材料からなる多重層（４〜７層またはさらに多くの層）を含む層状構造である。好ましくは、反射防止コーティングは、高い屈折率と低い屈折率を交互に有する、３またはそれ以上の誘電性材料からなる多重層を含む層状構造である。

ダイポーダルシランは、Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．より入手可能である。好ましいダイポーダルシランは、次式：

を有するビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

シランカップリング剤として環状アザシランの層が、ハードコーティングの粘着を促進するためにＡＲコーティングされた型に適用される。カップリング剤の層は、非プロトン性条件下で適用されなければならない。これは、レンズ産業において今日一般的に実施されている方法（例えばスピン、スプレー、ディップ、真空コーティング）を用いて行うことができる。カップリング剤由来のシランは、反射防止コーティングと結合し、官能基は有機ハードコートとそれぞれ結合する。カップリング剤の層は室温で適用される。

型に適用される次のコーティング層は、耐擦傷性（ハード）コーティングである。ハードコートは、スピン、スプレー、またはディップコーティングとそれに続く硬化をはじめとする、レンズ産業で使用される従来法によって適用することができる。

上に例示される例となる方法は、前型および後型を含む光学金型装置の異なる光学面に繰り返し適用することができる。前型および後型の両方にコーティングを適用した後、型をスペーサーリングとともに組み立てて光学金型装置を形成する。次に、金型装置の空洞をレンズ材料配合物で満たし、硬化させる。硬化が完了した後、レンズを金型装置から外す。ＭｇＦ_２を除く全てのコーティングをレンズに転写すると、レンズに超疎水性コーティング、反射防止コーティング、および引掻き抵抗性コーティングが適用される。この方法は、偏光レンズおよびフォトクロミックレンズを作成するためにも用いてよい。

よって、一態様では、より具体的には、本発明は、ＡＲコーティングの良好な粘着を有するＡＲコーティングされたプラスチック基板を作成するための方法に関する。プラスチック基板は、一実施形態では、プラスチック製眼用眼鏡レンズである。

別の態様では、本発明は、ＡＲコーティングされたプラスチック製眼用眼鏡レンズを現場で作成する方法に関する。

ＡＲコーティングは、一般に、反射を減少させるためにレンズの表面に適用される。多くの場合、ＡＲコーティングは、ＺｒＯ_２およびＳｉＯ_２などの屈折率の高い材料と屈折率の低い材料の多重層からなる。無機シリカＡＲコーティングの１つの問題は、それらがプラスチック製有機レンズに容易に付着しないことである。本発明は、この問題を、数ある中でも、無機シリカＡＲコーティングとレンズとの間にカップリング層を用いることによって首尾よく解決する。本発明の一実施形態では、カップリング層は、環状アザシランを利用することによって形成される。

一般に、ＡＲコーティングをその上に有する眼用レンズを形成するための方法は、向かい合っている光学面を有する第１および第２の型を調製する工程からなる。好ましい実施形態では、米国特許第７，１１４，６９６号に記載されるものなどの型およびガスケットが使用される。多様な望ましいコーティングが、一方または両方の型の内部に適用される。コーティングをその上に施した型は、型と型の間に空間をもたらすガスケットアセンブリの中に設置される。液体モノマーをこの空間の中に入れ、硬化させてレンズを得る。

型は、下文で用いられる加工温度に耐える能力があり、調製されている光学要素に必要な種類の表面を提供することのできる任意の適した材料で形成することができる。

本発明の一実施形態では、第１の工程として、電子ビーム蒸着によって、コーティングがプラスチック型の光学面の上に直接適用される。第１のコーティングに続いて、多層ＡＲコーティングを逆の順序で適用する前に、第２のコーティングを適用してよい。本発明の一実施形態では、ＡＲコーティングは、２つの異なる材料、つまり屈折率の高い材料と屈折率の低い材料で形成された交互層をもつ多層構造である。本発明の１つの好ましい実施形態では、ＡＲコーティングは、２つの異なる材料、つまりＨ／Ｌ＞１の比の、屈折率の高い材料Ｈと屈折率の低い材料Ｌで形成された７枚の交互層をもつ多層構造である。本発明を実行するのに適していることが見出された材料は、屈折率の高い材料として、二酸化ジルコニウム（「ＺｒＯ_２」と呼ばれる）、および、屈折率の低い材料として、およそ１．４６の屈折率を有する二酸化ケイ素である。

本発明の一実施形態では、層は、最初と最後の層が二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）であるように、真空蒸着によって適用される。ＡＲチャンバは、最後の酸化ケイ素の層の適用中に加湿されていることが好ましい。

ＡＲコーティングの適用の後で、カップリング剤である環状アザシランの層またはフィルムが気相堆積によって適用される。環状アザシランは、二酸化ケイ素層上で表面の水酸基と結合し、開環し、結果として有機分子を表面上にもたらす。これは真空下、室温で実施することができ、触媒として水を必要としない。

次に、引掻き抵抗性の（ハード）コーティングを適用する。ハードコートは、真空蒸着によるＡＲコーティングプロセスの延長として、または、コーティング適用の後に硬化を伴う、スピン、スプレー、またはディップコーティングのより従来の方法によって、適用することができる。

様々なコーティングを型に適用した後、前後の型を組み立てる。次に、金型装置の空洞をレンズ材料配合物で満たし、その後それを硬化させ、ハードコートに結合させる。硬化が完了した後、レンズを金型装置から取り外す。全てのコーティングをレンズに転写して、レンズに疎水性コーティング、反射防止コーティング、および引掻き抵抗性コーティングを適用させる。

環状アザシランは、Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．より入手可能である。一般式には、式：

（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、独立に、分枝状および線状の、置換および非置換アルキル、アルケニルおよびアルコキシ基からなる群から選択され、Ｒ^３は、置換および非置換、飽和および不飽和、分枝状および線状の脂肪族炭化水素基；置換および非置換、分枝状および線状のアラルキル基；置換および非置換アリール基；ならびに水素からなる群から選択される）を有するアザシラシクロペンタンが含まれる。環状アザシランには、式：

（式中、Ｒ^３は、置換および非置換、飽和および不飽和、分枝状および線状の脂肪族炭化水素基；置換および非置換、分枝状および線状のアラルキル基；置換および非置換アリール基；ならびに水素からなる群から選択され；Ｒ^４およびＲ^５は、独立に、置換および非置換、分枝状および線状のアルキルおよびアルコキシ基からなる群から選択される）を有するジアザシラシクリック化合物（ｄｉａｚａｓｉｌａｃｙｃｌｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）も含まれる。

好ましい超疎水性化合物は、Ｄａｉｋｉｎより入手可能なＯｐｔｏｏｌ ＤＳＸである。この疎水性化合物は、超疎水性材料とプラスチック製レンズとの固着を増加させるために市販の超疎水性調製物に一般に含められている添加剤を含まない。

本発明のこれらおよびその他の態様は、下により具体的に説明される。
発明の実施および実施例

本発明の範囲を制限する意図なしに、本発明の実施形態に従うさらなる例となる実施形態およびそれらの関連結果を下に記載する。読者の便宜のために見出しまたは小見出しが実施例に使用されることがあるが、それは本発明の範囲を決して制限するものでないことに注意されたい。さらに、ある一定の理論が本明細書において提案され開示されている；しかし、それらの理論が正しいか誤っているかに関わらず、どんな特定の作用の理論またはスキームにも関係なく、本発明に従って本発明が実行される限り、それらの理論は本発明の範囲を決して制限するべきではない。

環状アザシラン

多様な種類の環状アザシランを用いて本発明を実践することができる、それには：
（ａ）次式をもつ、ＳＩＢ１９３２．４またはＮ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラシクロペンタン、Ｃ９Ｈ２１ＮＯ２Ｓｉ：

（ｂ）次式をもつ、ＳＩＤ３５４３．０または２，２−ジメトキシ−１，６−ジアザ−２−シラシクロオクタン、Ｃ７Ｈ１８Ｎ２Ｏ２Ｓｉ：

（ｃ）次式をもつ、ＳＩＡ０５９２．０またはＮ−アミノエチル−アザ−２，２，４−トリメチルシラシクロペンタン、Ｃ８Ｈ２１ＮＳｉ：

（ｄ）次式をもつ、ＳＩＡ０３８０．０またはＮ−アリル−アザ−２，２−ジメトキシシラシクロペンタン、Ｃ８Ｈ１７ＮＯ２Ｓｉ：

が挙げられる。

コーティング結合試験

この実施例は、本発明の様々な実施形態に従って生成されたコーティングの結合に利用される様々な試験を示す。

クロスハッチ試験。クロスハッチ試験では、１ｍｍ間隔で一連の１０本の線をコーティングに剃刀で切りつける。第１の線に対して直角に重ねた、第２の１ｍｍ間隔の一連の１０本の線を、コーティングに切りつける。次に、１片のセロハンテープをクロスハッチパターンの上に適用し、コーティングから素早く引きはがす。

ひび割れ試験。ひび割れ試験では、レンズを脱型させた後、８０℃で２０分間アニールする。レンズを素早く室温水に移し、ひび割れについてそれを調べる。ひび割れが見て分からない場合、そのＡＲ／カップリング剤系は容認できる。

塩水沸騰試験。塩水沸騰試験では、レンズをまず４．５％ＮａＣｌおよび０．８％ＮａＨ_２ＰＯ_４・２Ｈ_２Ｏを含有する沸騰塩溶液に２分間浸漬する。次に、レンズを素早く室温（１８〜２４℃）の脱イオン水に移す。コーティングにひび割れまたは離層が認められない場合、そのＡＲ／カップリング剤系は容認できる。

使い捨て型に適用されるＡＲコーティングの調製

この実施例では、数ある中でも、本発明の一実施形態にしたがって、ＡＲコーティングを使い捨て型に適用する調製の方法が提供される。特に、この実施例では、イオンアシストを用いてまたは用いずにＳｉＯ_２層が形成されるかまたは堆積される。

ここで図３を参照すると、下に記載される方法は、光学面３０４を有する型３０２に関連して、蒸発用の標準的なボックスコーターおよび電子ビームによって行われる。この方法は、周知の真空技術を用いて行われる。

手順：
（１）型３０２の光学面３０４を洗浄する。本発明の一実施形態では、プラズマ洗浄が型表面で約２分間行われる。
（２）光学面３０４に、約４５ｎｍの厚さをもつＭｇＦ_２の層３０５を形成する。
（３）層３０５の上に、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層３０６を形成する、ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する。
（４）層３０６に、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１０を形成する。
（５）層３１０に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１２を形成する。
（６）層３１２に、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３１４を形成する。
（７）層３１４に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１６を形成する。
（８）層３１６に、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３１８を形成する。
（９）層３１８に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３２０を形成する。
（１０）層３２０に、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３２２を形成する。
（１１）層３２２に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３２４を形成する。
（１２）層３２４に、ディップコーティングまたは蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層３２６を形成する。

特に、この実施形態では、超疎水性材料の層３０６は、ＡＲコーティングが安定していることができるように超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有するものとする。超疎水性材料中のダイポーダルシランの濃度の例は、０．６ｇの超疎水性材料ごとに、約０．０１〜０．０５ｇのダイポーダルシランを含有するというものである。ダイポーダルシランが超疎水性材料中で使用されていないかまたはほとんど使用されていない場合、ＡＲコーティングはひび割れ、型から分離する。さらに、ＳｉＯ_２の層３１０は、ＡＲ層状構造３１１に対する保護シールとして、また、ＡＲ層状構造３１１と超疎水性材料の層３０６との間の自然な接合面（ｎａｔｕｒａｌ ｂｏｎｄｉｎｇ ｓｕｒｆａｃｅ）または「リンク」として機能する。同様に、ＳｉＯ_２の層３２４は、ＡＲ層状構造３１１とカップリング剤の層３２６との間の自然な接合面または「リンク」を提供する。層３１０と層３１２は両方ともにＳｉＯ_２で形成されるが、それらは、それらが互いに付着するが異なって機能するように、異なる方法で形成されるものとする。

使い捨て型に適用されるＡＲコーティングの調製

この実施例では、数ある中でも、本発明の別の実施形態にしたがって、ＡＲコーティングを使い捨て型に適用する調製の方法が提供される。特に、この実施例では、ＳｉＯ_２層は、イオンアシストによって形成されるかまたは堆積されるものとする。

ここで図４を参照すると、下に記載される方法は、光学面４０４を有する型４０２に関連して、蒸発用の標準的なボックスコーターおよび電子ビームによって行われる。この方法は、周知の真空技術を用いて行われる。

手順：
（１）型４０２の光学面４０４を洗浄する。本発明の一実施形態では、プラズマ洗浄が型表面で約２分間行われる。
（２）光学面４０４の上に、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層４０６を形成する。ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する。
（３）層４０６に、イオンアシストを用いて約６０〜１２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層４１２を形成する。
（４）層４１２に、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層４１４を形成する。
（５）層４１４に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層４１６を形成する。
（６）層４１６に、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層４１８を形成する。
（７）層４１８に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層４２０を形成する。
（８）層４２０に、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層４２２を形成する。
（９）層４２２に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層４２４を形成する。
（１０）層４２４に、ディップコーティングまたは蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層４２６を形成する。

使い捨て型に適用されるＡＲコーティングの調製

この実施例では、数ある中でも、本発明のさらに別の実施形態にしたがって、ＡＲコーティングを使い捨て型に適用する調製の方法が提供される。特に、この実施例では、ＳｉＯ_２層は、イオンアシストを用いてまたは用いずに形成されるかまたは堆積されるものとする。

ここで図５を参照すると、下に記載される方法は、光学面５０４を有する型５０２に関連して、蒸発用の標準的なボックスコーターおよび電子ビームによって行われる。この方法は、周知の真空技術を用いて行われる。

手順：
（１）型５０２の光学面５０４を洗浄する。本発明の一実施形態では、プラズマ洗浄が型表面で約２分間行われる。
（２）光学面５０４の上に、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層５０６を形成する。ここで、超疎水性材料は、約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する。
（３）層５０６に、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層５１０を形成する。
（４）層５１０に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層５１２を形成する。
（５）層５１２に、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層５１４を形成する。
（６）層５１４に、イオンアシストを用いずに厚さ約１０〜２０ｎｍで堆積されるＳｉＯ_２の層５１６を形成する。
（７）層５１６に、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層５１８を形成する。
（８）層５１８に、イオンアシストを用いずに、約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層５２０を形成する。
（９）層５２０に、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層５２２を形成する。
（１０）層５２２に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層５２４を形成する。
（１１）層５２４に、ディップコーティングまたは蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層５２６を形成する。

使い捨て型に適用されるＡＲコーティングの調製

この実施例では、数ある中でも、本発明のさらに別の実施形態にしたがって、ＡＲコーティングを使い捨て型に適用する調製の方法が提供される。特に、この実施例では、ＳｉＯ_２層は、イオンアシストを用いてまたは用いずに形成されるかまたは堆積されるものとする。

ここで図６を参照すると、下に記載される方法は、光学面６０４を有する型６０２に関連して、蒸発用の標準的なボックスコーターおよび電子ビームによって行われる。この方法は、周知の真空技術を用いて行われる。

手順：
（１）型６０２の光学面６０４を洗浄する。本発明の一実施形態では、プラズマ洗浄が型表面で約２分間行われる。
（２）光学面６０４の上に、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層６０６を形成する。ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する。
（３）層６０６に、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層６１０を形成する。
（４）層６１０に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層６１２を形成する。
（５）層６１２に、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層６１４を形成する。
（６）層６１４に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層６１６を形成する。
（７）層６１６に、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層６１８を形成する。
（８）層６１８に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層６２０を形成する。
（９）層６２０に、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層６２２を形成する。
（１０）層６２２に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層６２４を形成する。
（１１）層６２４に、蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層６２６を形成する。

カップリング剤の調製および適用

実施例３〜６では、数ある中でも、本発明は、ハードコーティングの粘着を促進するためにＡＲコーティングされた型に適用されるカップリング剤の層を用いて実践される。

材料に関して、カップリング剤は、シランが反射防止コーティングと結合し、官能基が有機ハードコートと結合する官能性シランである。本発明の一実施形態によれば、環状アザシランは、開環反応によって室温でシラン結合を形成するので、適用に特によく適している。これは、ハードコートと容易に結合する官能基を含む単層をもたらし、強いＡＲ−ハードコート結合を形成する。環状アザシランをカップリング剤として光学レンズ形成プロセスで使用するのは、当業界で最初であり、本発明の独創的な発見によってのみであると思われる。ＳｉＯ_２を第１の屈折率をもつ第１の材料として使用する、図３〜６に示される実施形態には、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンをシランカップリング剤として使用することによって、図２に示されるように水または熱を必要としない表面結合開環反応（ｓｕｒｆａｃｅ ｂｏｎｄｉｎｇ ｒｉｎｇ ｏｐｅｎｉｎｇ ｒｅａｃｔｉｏｎ）を可能にし、その結果非常に良好な結合をもたらし、現場でのＡＲレンズ形成を実現させる。

手順に関して、カップリング剤は、非プロトン性条件下で適用されなくてはならず、今日のレンズ産業で一般に実践されている方法、例えばスピン、スプレー、ディップ、および真空コーティングなどの多くを用いて行うことができる。カップリング剤適用の２つの具体例を下に記載する。

Ａ．真空コーティング−手順：
（１）型の対応する光学面が、実施例３〜６に例示されるように本発明の様々な実施形態の１つに従ってＡＲコーティングされた型である、前型と後型からなる一対の光学型を、非プロトン性の環境を作り出すために所定の圧力で排気される真空チャンバに入れる。このチャンバの中に導入されるとカップリング剤は気化する。
（２）カップリング剤を密封したチャンバに導入し、最低１０分間、各々のＡＲコーティングによってコーティングし、反応させる。
（３）チャンバを排気して元の（カップリング剤の前の）所定の圧力にして、過剰なカップリング剤を除去する。
（４）真空を解除し、光学金型装置をチャンバから取り出す。その後、ハードコートを適用することができる。

Ｂ．ディップコーティング−手順：
（１）カップリング剤の非プロトン性溶媒中の溶液を調製する（最小０．０５％）。非プロトン性溶媒の例としては、トルエン、ベンゼン、石油エーテル、またはその他の炭化水素溶媒が挙げられる。
（２）実施例３〜６に例示されるように本発明の様々な実施形態の１つに従って調製した、ＡＲコーティングされた型を、室温で最低５分間、溶液に触れさせる（または溶液で処理する）。
（３）処理した型を溶液から取り出し、エタノールまたは同様の溶媒ですすぐ。
（４）次に、型を風乾する。その後、ハードコートを適用することができる。

ＡＲコーティングされたレンズを作成するための手順

この実施例は、本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングされたレンズを作成するための方法または手順を示す。

光学金型装置の前型および後型の対応する光学面を、実施例３に例示される本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングした。次に、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなるかまたはそれを有するカップリング剤の層（３２６）を、上記実施例７に示されるようなディップコーティング法を用いてＡＲ表面（３２４）の上に形成した。石油エーテル中カップリング剤０．２％の溶液を調製した。光学面を、室温で５分間、溶液に沈めた。次にそれらをエタノールですすぎ、エアガンで風乾し、スピンコーティング法を用いて１時間以内にハードコーティングした。レンズモノマーを注入成形し硬化させると、ＡＲコーティングおよび超疎水性コーティングは、型からレンズの上に転写された。

ＡＲコーティングされたレンズを作成するための手順

この実施例は、本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングされたレンズを作成するための方法または手順を示す。

光学金型装置の前型および後型の対応する光学面を、実施例４〜６のうちの一つに説明される本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングした。次に、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなるかまたはそれを有するカップリング剤の層（４２６、５２６、６２６）を、上記実施例７に示されるようなディップコーティング法を用いてＡＲ表面（４２４、５２４、６２４）の上に形成した。石油エーテル中カップリング剤０．０５％の溶液を調製した。光学面を、室温で５分間、溶液に沈めた。次にそれらをエタノールですすぎ、風乾させ、スピンコーティング法を用いて直ちにハードコーティングした。注入成形すると、ＡＲコーティングおよび超疎水性コーティングは、型からレンズの上に転写された。

ＡＲコーティングされたレンズを作成するための手順

この実施例は、本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングされたレンズを作成するための方法または手順を示す。

光学金型装置の前型および後型の対応する光学面を、実施例３に例示される本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングした。次に、ＡＲコーティングした光学面をもつ型を、約−２８．６ｉｎ．Ｈｇの所定の圧力下、真空チャンバの底に置いた。約０．２ｍＬのＮ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンをチャンバに注入し、所定の圧力下で気化させた。Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンがＡＲコーティングされた表面と反応してカップリング剤の層を形成するのに１０分間かけ、その後、過剰なカップリング剤を除去するために真空ポンプを５分間動かした。次に、型を直ちにハードコーティングし、レンズに注入成形した。ＡＲコーティングおよび超疎水性コーティングは、型からレンズの上に転写された。

ＡＲコーティングされたレンズを作成するための手順

この実施例は、本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングされたレンズを作成するための方法または手順を示す。

光学金型装置の前型および後型の対応する光学面を、実施例３に例示される本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングした。次に、ＡＲコーティングした光学面をもつ型を、約−２８．６ｉｎ．Ｈｇの所定の圧力下、真空チャンバの底に置いた。０．０５ｍＬのＮ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンのカップリング剤をチャンバに注入し、所定の圧力下で気化させた。カップリング剤がＡＲコーティングした光学面と反応するのに１０分間かけ、その後、過剰なカップリング剤を除去するために真空ポンプを５分間動かした。次に、型を直ちにハードコーティングし、組み立て、レンズモノマーを注入成形し、硬化させてレンズにした。ＡＲコーティングおよび超疎水性コーティングは、型からレンズの上に転写された。

ＡＲコーティングされたレンズを作成するための手順

この実施例は、本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングされたレンズを作成するための方法または手順を示す。

光学金型装置の前型および後型の対応する光学面を、実施例３に例示される本発明の一実施形態に従ってＡＲコーティングした。次に、ＡＲコーティングした光学面をもつ型を、約−２８．６ｉｎ．Ｈｇの所定の圧力下、真空チャンバの底に置いた。ヘキサン中１０％のＮ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンのカップリング剤で溶液を調製した。０．１ｍＬの溶液（０．０１ｍＬのカップリング剤）をチャンバに注入し、所定の圧力下で気化させた。カップリング剤がＡＲ表面と反応するのに１０分かけ、その後、過剰なカップリング剤を除去するために真空ポンプを５分間動かした。次に、型を直ちにハードコーティングし、注入成形してレンズにした。ＡＲコーティングおよび超疎水性コーティングは、型からレンズの上に転写された。

よって、別の態様では、本発明は、反射防止コーティングを型の光学面に適用する方法に関する。一実施形態では、図３を参照すると、本方法には、以下の：
光学面３０４を有するレンズ型３０２を準備する工程；
光学面３０４に、イオンアシストされた、約４５ｎｍの厚さをもつＭｇＦ_２の層３０５を形成する工程；
層３０５の上に、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層３０６を形成する工程、ここで超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する；
層３０６に、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１０を形成する工程；
層３１０に、反射防止コーティングの層状構造３１１を形成する工程；および
層３２４に、蒸着を用いて堆積され、単層の厚さをもつカップリング剤の層３２６を形成する工程
が含まれる。

図３に示される実施形態では、層３１０に対する反射防止コーティングの層状構造３１１は以下の：
（１）層３１０に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１２を形成する工程；
（２）層３１２に、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３１４を形成する工程；
（３）層３１４に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１６を形成する工程；
（４）層３１６に、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３１８を形成する工程；
（５）層３１８に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３２０を形成する工程；
（６）層３２０に、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３２２を形成する工程；および
（７）層３２２に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３２４を形成する工程
によって形成され得る。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

一実施形態では、カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物からなる。

より具体的には、一実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなる。

さらに、より一般的な実施形態では、層３１０に対する反射防止コーティングの層状構造３１１は、以下の：
（１）層３１０に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３１２を形成する工程；
（２）層３１２に、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３１４を形成する工程；
（３）層３１４に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３１６を形成する工程；
（４）層３１６に、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３１８を形成する工程；
（５）層３１８に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３２０を形成する工程；
（６）層３２０に、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３２２を形成する工程；および
（７）層３２２に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３２４を形成する工程
によって形成され得る。

一実施形態では、第１の屈折率Ｌおよび第２の屈折率Ｈは、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす。言い換えれば、第２の屈折率の値は、第１の屈折率の値よりも大きい。

一実施形態では、図３に示されるように、第１の屈折率をもつ第１の材料は、ＳｉＯ_２を含み、第２の屈折率をもつ第２の材料はＺｒＯ２を含む。

別の態様では、本発明は、レンズの光学面に転写可能な反射防止コーティングを有する光学面を備えた型に関する。一実施形態では、図３に示されるように、そのような型は：
型３０２の光学面３０４に堆積した、５〜１００ｎｍの厚さでイオンアシストされるＳｉＯ_２の層３０５；
層３０５の上の約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層３０６、ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する；
層３０６に堆積した、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１０；
層３１０に堆積した、反射防止コーティングの層状構造３１１；および
層３２４に堆積した、蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層３２６
を有する。

一実施形態では、反射防止コーティングの層状構造３１１は：
（１）層３１０に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１２；
（２）層３１２に堆積した、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３１４；
（３）層３１４に堆積した、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１６；
（４）層３１６に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３１８；
（５）層３１８に堆積した、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３２０；
（６）層３２０に堆積した、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３２２；および
（７）層３２２に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３２４
を有する。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

一実施形態では、カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物からなる。特定の一実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなる。

一実施形態では、反射防止コーティングの層状構造３１１は：
（１）層３１０に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３１２；
（２）層３１２に堆積した、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３１４；
（３）層３１４に堆積した、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３１６；
（４）層３１６に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３１８；
（５）層３１８に堆積した、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３２０；
（６）層３２０に堆積した、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３２２；および
（７）層３２２に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３２４
で形成される。

一実施形態では、第１の屈折率Ｌおよび第２の屈折率Ｈは、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす。言い換えれば、第２の屈折率の値は、第１の屈折率の値よりも大きい。

一実施形態では、第１の屈折率をもつ第１の材料はＳｉＯ_２を含み、第２の屈折率をもつ第２の材料はＺｒＯ_２を含む。

さらにもう一つの態様では、本発明は、光学レンズに関する。一実施形態では、光学レンズは、光学面を備えるレンズ体、および、上に記載される型などの型の上に形成された、またはより具体的にはそのような型から光学面に転写された反射防止コーティングを有し、反射防止コーティングは：
層３０５の上の、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層３０６、ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する；
層３０６に堆積した、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１０；
層３１０に堆積した、反射防止コーティングの層状構造３１１；および
層３２４に堆積し、光学面とカップリングした、蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層３２６
で形成される。

一実施形態では、図３に示されるように、反射防止コーティングの層状構造３１１は：
（１）層３１０に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１２；
（２）層３１２に堆積した、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３１４；
（３）層３１４に堆積した、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３１６；
（４）層３１６に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３１８；
（５）層３１８に堆積した、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３２０；
（６）層３２０に堆積した、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の層３２２；および
（７）層３２２に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の層３２４
を有する。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

一実施形態では、カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物からなる。特定の一実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなる。

さらに、より一般的な実施形態では、光学レンズは：
（１）層３１０に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３１２；
（２）層３１２に堆積した、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３１４；
（３）層３１４に堆積した、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３１６；
（４）層３１６に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３１８；
（５）層３１８に堆積した、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３２０；
（６）層３２０に堆積した、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の層３２２；および
（７）層３２２に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の層３２４
で形成される反射防止コーティングの層状構造３１１を有する。

一実施形態では、第１の屈折率Ｌおよび第２の屈折率Ｈは、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす。言い換えれば、第２の屈折率の値は、第１の屈折率の値よりも大きい。

一実施形態では、第１の屈折率をもつ第１の材料はＳｉＯ_２を含み、第２の屈折率をもつ第２の材料はＺｒＯ_２を含む。

さらなる態様では、本発明は、反射防止コーティングを型の光学面に作成するための方法に関する。図３〜６に示されるような本発明の様々な実施形態では、そのような方法は：
光学面３０４、４０４、５０４または６０４を有するレンズ型３０２、４０２、５０２または６０２を準備する工程；
光学面３０４、４０４、５０４または６０４の上に、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層３０６、４０６、５０６または６０６を形成する工程、ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する；
層３０６、４０６、５０６または６０６の上に、反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１を形成する工程；および
反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１の上に、ディップコーティングまたは蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層３２６、４２６、５２６または６２６を形成する工程
を有する。

反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１を層３０８、４０８、５０８または６０８の上に形成する工程は：
（１）層３０６、４０６、５０６または６０６の上に、第１の屈折率および約５〜１００ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３１２、４１２、５１２または６１２を形成する工程；
（２）層３１２、４１２、５１２または６１２に、第２の屈折率および約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３１４、４１４、５１４または６１４を形成する工程；
（３）層３１４、４１４、５１４または６１４に、第１の屈折率および約１０〜２０ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３１６、４１６、５１６または６１６を形成する工程；
（４）層３１６、４１６、５１６または６１６に、第２の屈折率および約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３１８、４１８、５１８または６１８を形成する工程；
（５）第１の屈折率および約２５〜４０ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３２０、４２０、５２０または６２０を、層３１８、４１８、５１８または６１８に形成する工程；
（６）第２の屈折率および約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３２２、４２２、５２２または６２２を、層３２０、４２０、５２０または６２０に形成する工程；および
（７）第１の屈折率および約５〜１５ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３２４、４２４、５２４または６２４を、層３２２、４２２、５２２または６２２に形成する工程
によって実施することができる。

一実施形態では、第１の屈折率Ｌおよび第２の屈折率Ｈは、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす。言い換えれば、第２の屈折率の値は、第１の屈折率の値よりも大きい。

一実施形態では、第１の屈折率をもつ第１の材料はＳｉＯ_２を含み、第２の屈折率をもつ第２の材料はＺｒＯ_２を含む。

一実施形態では、図３に示されるように、超疎水性材料の層３０６と光学面３０４との間にＭｇＦ_２の層３０５が形成されるように、層３０６を光学面３０４の上に形成する工程の前に、厚さ約４５ｎｍ未満の層３０５を光学面３０４の上に形成する工程を実施する。

さらに、図３に示される一実施形態では、層３０６と層３１２との間にＳｉＯ_２の層３１０が形成されるように、反射防止コーティングの層状構造３１１を層３０６の上に形成する工程の前に、イオンアシストを用いずに、５〜４０ｎｍの厚さで堆積される層３１０を層３０６の上に形成する工程を実施する。

図５および６に示される実施形態では、層５０６、６０６と層５１２、６１２との間にＳｉＯ_２の層５１０、６１０が形成されるように、反射防止コーティングの層状構造５１１または６１１を層５０６または６０６の上に形成する工程の前に、イオンアシストを用いずに、５〜４０ｎｍの厚さで堆積される層５１０、６１０を層５０６、６０６の上に形成する工程を実施する。

上に述べた方法に従って本発明を実践する際に、ＳｉＯ_２の各々の層は、イオンアシストを用いて、またはイオンアシストを用いずに堆積される。

一実施形態では、ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

一実施形態では、カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物からなる。特定の一実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンからなる。

さらにもう一つの態様では、本発明は、レンズの光学面に転写可能な反射防止コーティングを有する光学面を備えた型に関する。様々な実施形態では、図３〜６に示されるように、そのような型は：
型３０２、４０２、５０２または６０２の光学面３０４、４０４、５０４または６０４の上に堆積した、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層３０６、４０６、５０６または６０６、ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する；
層３０６、４０６、５０６または６０６の上に堆積した反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１；および
反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１の上に堆積した、ディップコーティングまたは蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層３２６、４２６、５２６または６２６
を有する。

図３〜６に示されるように、反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１は：
（１）層３０６、４０６、５０６または６０６の上に堆積した、第１の屈折率および約５〜１００ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３１２、４１２、５１２または６１２；
（２）層３１２、４１２、５１２または６１２に堆積した、第２の屈折率および約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３１４、４１４、５１４または６１４；
（３）層３１４、４１４、５１４または６１４に堆積した、第１の屈折率および約１０〜２０ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３１６、４１６、５１６または６１６；
（４）層３１６、４１６、５１６または６１６に堆積した、第２の屈折率および約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３１８、４１８、５１８または６１８；
（５）層３１８、４１８、５１８または６１８に堆積した、第１の屈折率および約２５〜４０ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３２０、４２０、５２０または６２０；
（６）層３２０、４２０、５２０または６２０に堆積した、第２の屈折率および約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３２２、４２２、５２２または６２２；ならびに
（７）層３２２、４２２、５２２または６２２に堆積した、第１の屈折率および約５〜１５ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３２４、４２４、５２４または６２４
を有する。

第１の屈折率Ｌおよび第２の屈折率Ｈは、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす。言い換えれば、第２の屈折率の値は、第１の屈折率の値よりも大きい。

一実施形態では、第１の屈折率をもつ第１の材料はＳｉＯ_２を含み、第２の屈折率をもつ第２の材料はＺｒＯ_２を含む。

図３に示される一実施形態では、さらに、ＭｇＦ_２の層３０５が層３０６と光学面３０４との間に形成されるように、イオンアシストされ、５〜１００ｎｍの厚さをもつ層３０５を、光学面３０４の上に堆積する。その上、ＳｉＯ_２の層３１０が層３０６と層３１２との間に形成されるように、層３１０が、イオンアシストを用いずに５〜４０ｎｍの厚さで層３０６の上に堆積される。

あるいは、図５および６に示される様々な実施形態では、ＳｉＯ_２の層５１０、６１０が層５０６、６０６と層５１２、６１２との間に形成されるように、層５１０、６１０が、イオンアシストを用いずに、５〜４０ｎｍの厚さで層５０６、６０６の上に堆積される。

反射防止コーティングの層状構造中のＳｉＯ_２の各層は、イオンアシストを用いてまたはイオンアシストを用いずに堆積される。

ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

カップリング剤の層は、環状アザシランを含む組成物で形成される。図３〜６に示される様々な実施形態では、カップリング剤の層は、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンで形成される。

さらなる態様では、本発明は光学レンズに関する。光学レンズは、光学面を備えるレンズ体、および、光学面の上に形成された反射防止コーティングを有し、図３〜６に示される様々な実施形態では、反射防止コーティングは：
型３０２、４０２、５０２または６０２の光学面３０４、４０４、５０４または６０４の上に堆積した、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層３０６、４０６、５０６または６０６、ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する；
層３０６、４０６、５０６または６０６の上に堆積した、反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１；および
反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１の上に堆積し、光学面とカップリングした、蒸着を用いて単層の厚さで堆積されるカップリング剤の層３２６、４２６、５２６または６２６
を有する。

反射防止コーティングの層状構造３１１、４１１、５１１または６１１は：
（１）層３０６、４０６、５０６または６０６の上に堆積した、第１の屈折率および約５〜１００ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３１２、４１２、５１２または６１２；
（２）層３１２、４１２、５１２または６１２に堆積した、第２の屈折率および約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３１４、４１４、５１４または６１４；
（３）層３１４、４１４、５１４または６１４に堆積した、第１の屈折率および約１０〜２０ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３１６、４１６、５１６または６１６；
（４）層３１６、４１６、５１６または６１６に堆積した、第２の屈折率および約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３１８、４１８、５１８または６１８；
（５）層３１８、４１８、５１８または６１８に堆積した、第１の屈折率および約２５〜４０ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３２０、４２０、５２０または６２０；
（６）層３２０、４２０、５２０または６２０に堆積した、第２の屈折率および約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ第２の材料の層３２２、４２２、５２２または６２２；および
（７）層３２２、４２２、５２２または６２２に堆積した、第１の屈折率および約５〜１５ｎｍの厚さをもつ第１の材料の層３２４、４２４、５２４または６２４
で形成される。

第１の屈折率Ｌおよび第２の屈折率Ｈは、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす。言い換えれば、第２の屈折率の値は、第１の屈折率の値よりも大きい。

図３〜６に示される様々な実施形態では、第１の屈折率をもつ第１の材料はＳｉＯ_２を含み、第２の屈折率をもつ第２の材料はＺｒＯ_２を含む。

図３に示される一実施形態では、ＳｉＯ_２の層３１０が層３０６と層３１２との間に形成されるように、層３１０は、イオンアシストを用いずに５〜４０ｎｍの厚さで層３０６の上に堆積される。

図５および６に示される様々な実施形態では、ＳｉＯ_２の層５１０、６１０が、層５０６、６０６と層５１２、６１２との間に形成されるように、層５１０、６１０は、イオンアシストを用いずに５〜４０ｎｍの厚さで層５０６、６０６の上に堆積される。

さらにもう一つの態様では、本発明は、レンズの作成に使用できるカップリング剤に関する。一実施形態では、カップリング剤は環状アザシランを含む。特定の一実施形態では、環状アザシランは、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンを含む。特に使用時には、環状アザシランは溶媒中で適用されるものとする。ＳｉＯ_２が第１の屈折率をもつ第１の材料として使用される、図３〜６に示される実施形態について、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンをカップリング剤として使用することによって、図２に示されるように水または熱を必要としない表面結合開環反応（ｓｕｒｆａｃｅ ｂｏｎｄｉｎｇ ｒｉｎｇ ｏｐｅｎｉｎｇ ｒｅａｃｔｉｏｎ）を可能にし、その結果非常に良好な結合をもたらし、現場でのＡＲレンズ形成を実現させる。これは、数ある中でも高熱を必要とする、図１に示される方法よりもはるかに良い。

さらに注意されることは、本発明を実践する際に、上記の各実施形態の工程は、与えられる順序で、または異なる順序で行うことができることである。

さらなる態様では、本発明は光学レンズに関する。一実施形態では、光学レンズは、光学面を備えるレンズ体、光学面の上のハードコート層、および光学面の上の反射防止コーティングを有する。

一実施形態では、反射防止コーティングは、ハードコート層の上の単層の厚さをもつカップリング剤の層、カップリング剤の層の上の反射防止コーティングの層状構造、カップリング剤の層の上の反射防止コーティングの層状構造の上のイオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第１の層、および、ＳｉＯ_２の第１の層の上の約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性材料の層を有する、ここで、超疎水性材料は、超疎水性材料に対して約１．７〜８．３重量％のダイポーダルシランを含有する。ダイポーダルシランは、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンであり得る。

前述の本発明の例となる実施形態の説明は、例証および説明を目的とするためだけに示されたものであり、網羅的であるかまたは開示される正確な形態に本発明を制限することを意図するものではない。上記の教示を考慮すれば、多くの変更形態および変形形態が可能である。

実施形態は、その他の当業者が本発明および様々な実施形態を利用することができるように、本発明の原理およびそれらの実際的な適用を説明するために、企図される特定の使用に適している様々な変更形態とともに、選択され記載された。代替実施形態は、本発明の精神および範囲を逸脱しない範囲で本発明の属する分野の当業者に明らかになるであろう。したがって、本発明の範囲は、前述の説明およびその中に記載される例となる実施形態よりもむしろ添付される特許請求の範囲によって定義される。

Claims (67)

1. 反射防止コーティングを型の光学面に適用するための方法であって、
   （ａ）光学面を有するレンズ型を準備する工程；
   （ｂ）フッ化物または酸化物材料の堆積層を、前記レンズ型の前記光学面に形成する工程；
   （ｃ）疎水性材料の層を前記堆積層の上に形成する工程であって、前記疎水性材料が、前記疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有するものである、工程；
   （ｄ）約５〜４０ｎｍの厚さをもつＳｉＯ_２の第１の層を、前記疎水性材料の前記層の上に形成する工程；
   （ｅ）反射防止コーティングの層状構造を、前記ＳｉＯ_２の第１の層の上に形成する工程；および
   （ｆ）非プロトン性条件下での蒸着を用いるか、または非プロトン性溶媒中のシランカップリング剤の溶液を用いるディップコーティングによって、前記反射防止コーティングの層状構造に単層の厚さで堆積されるシランカップリング剤の層を形成する工程
   を含む、方法。
2. 前記堆積層が、それに続く全ての層が互いに付着しているままであるように、前記型表面と前記疎水性層との間の一時的粘着を提供するように適合化されている、請求項１に記載の方法。
3. 前記堆積層が、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＢａＦ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、ＨｆＦ_４、ＮｄＦ_４、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、またはそれらの組合せで形成される、請求項１に記載の方法。
4. 前記堆積層が、イオンアシストを用いてＭｇＦ_２で形成され、約４５ｎｍの厚さを有する、請求項３に記載の方法。
5. 前記疎水性層が、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性層であり、前記ダイポーダルシランの量が、前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である、請求項１に記載の方法。
6. 反射防止コーティングの層状構造を、前記ＳｉＯ_２の第１の層の上に形成する前記工程が、
   （ａ）前記ＳｉＯ_２の第１の層に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第２の層を形成する工程；
   （ｂ）前記ＳｉＯ_２の第２の層に約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第１の層を形成する工程；
   （ｃ）前記ＺｒＯ_２の第１の層に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第３の層を形成する工程；
   （ｄ）前記ＳｉＯ_２の第３の層に、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第２の層を形成する工程；
   （ｅ）前記ＺｒＯ_２の第２の層に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第４の層を形成する工程；
   （ｆ）前記ＳｉＯ_２の第４の層に、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第３の層を形成する工程；および
   （ｇ）前記ＺｒＯ_２の第３の層に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第５の層を形成する工程
   をさらに含む、請求項１に記載の方法。
7. 前記ダイポーダルシランが、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンを含む、請求項１に記載の方法。
8. 前記シランカップリング剤の前記層が、環状アザシランを含む組成物で形成される、請求項１に記載の方法。
9. 前記シランカップリング剤の前記層が、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンで形成される、請求項８に記載の方法。
10. 反射防止コーティングの層状構造を、前記ＳｉＯ_２の第１の層に形成する前記工程が、
    （ａ）前記ＳｉＯ_２の第１の層に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の第１の層を形成する工程；
    （ｂ）前記第１の材料の前記第１の層に、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の第２の層を形成する工程；
    （ｃ）前記第２の材料の前記第２の層に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第３の層を形成する工程；
    （ｄ）前記第３の層に、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料の第４の層を形成する工程；
    （ｄ）前記第４の層に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第５の層を形成する工程；
    （ｆ）前記第５の層に、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料の第６の層を形成する工程；および
    （ｇ）前記第６の層に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第７の層を形成する工程
    をさらに含む、請求項１に記載の方法。
11. 前記第１の屈折率Ｌおよび前記第２の屈折率Ｈが、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす、請求項１０に記載の方法。
12. 前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料が、ＳｉＯ_２を含み、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料が、ＺｒＯ_２を含む、請求項１１に記載の方法。
13. レンズの光学面に転写可能な、反射防止コーティングを有する光学面を備えた型であって、
    （ａ）前記光学面に堆積したフッ化物または酸化物材料の堆積層；
    （ｂ）疎水性材料が前記疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有する、前記堆積層の上の前記疎水性材料の層；
    （ｃ）前記疎水性材料の層に堆積した、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第１の層；
    （ｄ）前記ＳｉＯ_２の第１の層に堆積した、反射防止コーティングの層状構造；および
    （ｅ）前記反射防止コーティングの層状構造の上に堆積される、蒸着を用いて単層の厚さで堆積された、または非プロトン性溶媒中のシランカップリング剤の溶液を用いるディップコーティングによって堆積された、シランカップリング剤の層
    を含む型。
14. 前記堆積層が、それに続く全ての層が互いに付着しているままであるように、前記型表面と前記疎水性層との間の一時的粘着を提供するように適合化されている、請求項１３に記載の型。
15. 前記堆積層が、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＢａＦ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、ＨｆＦ_４、ＮｄＦ_４、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、またはそれらの組合せで形成される、請求項１３に記載の型。
16. 前記第１の堆積層が、イオンアシストを用いてＭｇＦ_２で形成され、約４５ｎｍの厚さを有する、請求項１４に記載の型。
17. 前記疎水性層が、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性層であり、前記ダイポーダルシランの量が、前記超疎水性材料の１．７〜８．３％である、請求項１３に記載の型。
18. 前記反射防止コーティングの層状構造が：
    （ａ）前記ＳｉＯ_２の第１の層に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されたＳｉＯ_２の第２の層；
    （ｂ）前記ＳｉＯ_２の第２の層に堆積した、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第１の層；
    （ｃ）前記ＺｒＯ_２の第１の層に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されたＳｉＯ_２の第３の層；
    （ｄ）前記ＳｉＯ_２の第３の層に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第２の層；
    （ｅ）前記ＺｒＯ_２の第２の層に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されたＳｉＯ_２の第４の層；
    （ｆ）前記ＳｉＯ_２の第４の層に堆積した、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第３の層；および
    （ｇ）前記ＺｒＯ_２の第３の層に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されたＳｉＯ_２の第５の層
    を含む、請求項１３に記載の型。
19. 前記ダイポーダルシランが、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンを含む、請求項１３に記載の型。
20. 前記シランカップリング剤の前記層が、環状アザシランを含む組成物で形成される、請求項１３に記載の型。
21. 前記シランカップリング剤の前記層が、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンで形成される、請求項２０に記載の型。
22. 前記反射防止コーティングの層状構造が：
    （ａ）前記ＳｉＯ_２の第２の層に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の第１の層；
    （ｂ）前記第１の材料の前記第１の層に堆積した、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の第２の層；
    （ｃ）前記第２の材料の前記第２の層に堆積した、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第３の層；
    （ｄ）前記第３の層に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料の第４の層；
    （ｅ）前記第４の層に堆積した、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第５の層；
    （ｆ）前記第５の層に堆積した、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料の第６の層；および
    （ｇ）前記第６の層に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第７の層
    を含む、請求項１３に記載の型。
23. 前記第１の屈折率Ｌおよび前記第２の屈折率Ｈが、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす、請求項２２に記載の型。
24. 前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料がＳｉＯ_２を含み、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料がＺｒＯ_２を含む、請求項２３に記載の型。
25. 光学面を備えるレンズ体；
    前記光学面の上のハードコート層；および
    前記光学面の上の反射防止コーティングを含む光学レンズであって、前記反射防止コーティングが：
    （ａ）前記ハードコート層の上の、単層の厚さをもつシランカップリング剤の層；
    （ｂ）前記シランカップリング剤の前記層の上の反射防止コーティングの層状構造；
    （ｃ）前記シランカップリング剤の層の上の前記反射防止コーティングの層状構造の上の、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで堆積されるＳｉＯ_２の第１の層；および
    （ｄ）前記ＳｉＯ_２の第１の層の上の疎水性材料の層であって、前記疎水性材料が前記疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有する層
    を含む、光学レンズ。
26. 前記疎水性層が、約３０〜４０ｎｍの厚さをもつ超疎水性層であり、前記ダイポーダルシランの量が、前記超疎水性材料の１．７〜８．３％である、請求項２５に記載の光学レンズ。
27. 前記反射防止コーティングの層状構造が：
    （ａ）前記ＳｉＯ_２の第１の層に、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積されたＳｉＯ_２の第２の層；
    （ｂ）前記ＳｉＯ_２の第２の層に堆積した、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第１の層；
    （ｃ）前記ＺｒＯ_２の第１の層に、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積されたＳｉＯ_２の第３の層；
    （ｄ）前記ＳｉＯ_２の第３の層に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第２の層；
    （ｅ）前記ＺｒＯ_２の第２の層に、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積されたＳｉＯ_２の第４の層；
    （ｆ）前記ＳｉＯ_２の第４の層に堆積した、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつＺｒＯ_２の第３の層；および
    （ｇ）前記ＺｒＯ_２の第３の層に、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積されたＳｉＯ_２の第５の層
    を含む、請求項２５に記載の光学レンズ。
28. 前記ダイポーダルシランが、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンを含む、請求項２５に記載の光学レンズ。
29. 前記シランカップリング剤の前記層が、環状アザシランを含む組成物で形成される、請求項２５に記載の光学レンズ。
30. 前記シランカップリング剤の前記層が、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンで形成される、請求項２９に記載の光学レンズ。
31. 前記反射防止コーティングの層状構造が：
    （ａ）前記ＳｉＯ_２の第２の層に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１００ｎｍの厚さで堆積される、第１の屈折率をもつ第１の材料の第１の層；
    （ｂ）前記第１の材料の前記第１の層に堆積した、約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ、第２の屈折率をもつ第２の材料の第２の層；
    （ｃ）前記第２の材料の前記第２の層に堆積した、イオンアシストを用いて約１０〜２０ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第３の層；
    （ｄ）前記第３の層に堆積した、約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料の第４の層；
    （ｅ）前記第４の層に堆積した、イオンアシストを用いて約２５〜４０ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第５の層；
    （ｆ）前記第５の層に堆積した、約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料の第６の層；および
    （ｇ）前記第６の層に堆積した、イオンアシストを用いて約５〜１５ｎｍの厚さで堆積される、前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料の第７の層
    を含む、請求項２５に記載の光学レンズ。
32. 前記第１の屈折率Ｌおよび前記第２の屈折率Ｈが、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす、請求項３１に記載の光学レンズ。
33. 前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料がＳｉＯ_２を含み、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料がＺｒＯ_２を含む、請求項３２に記載の光学レンズ。
34. 反射防止コーティングを型の光学面に適用するための方法であって、
    （ａ）光学面を有するレンズ型を準備する工程；
    （ｂ）疎水性材料の層を前記光学面の上に形成する工程であって、前記疎水性材料が、前記疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有する、工程；
    （ｃ）反射防止コーティングの層状構造を前記疎水性材料の前記層の上に形成する工程；および
    （ｄ）非プロトン性条件下での蒸着を用いて、または非プロトン性溶媒中のカップリング剤の溶液を用いるディップコーティングによって、前記反射防止コーティングの層状構造に単層の厚さで堆積されたカップリング剤の層を形成する工程
    を含む方法。
35. 前記疎水性層が超疎水性層であり、前記ダイポーダルシランの量が、前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である、請求項３４に記載の方法。
36. 前記層の上に反射防止コーティングの層状構造を形成する工程が：
    （ａ）第１の屈折率および約５〜１００ｎｍの厚さをもつ第１の材料の第１の層を、前記超疎水性材料の前記層の上に形成する工程；
    （ｂ）第２の屈折率および約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の第２の層を、前記第１の層に形成する工程；
    （ｃ）前記第１の屈折率および約１０〜２０ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第３の層を、前記第２の層に形成する工程；
    （ｄ）前記第２の屈折率および約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ前記第２の材料の第４の層を、前記第３の層に形成する工程；
    （ｅ）前記第１の屈折率および約２５〜４０ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第５の層を、前記第４の層に形成する工程；
    （ｆ）前記第２の屈折率および約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ前記第２の材料の第６の層を、前記第５の層に形成する工程；および
    （ｇ）前記第１の屈折率および約５〜１５ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第７の層を、前記第６の層に形成する工程
    をさらに含む、請求項３４に記載の方法。
37. 前記第１の屈折率Ｌおよび前記第２の屈折率Ｈが、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす、請求項３６に記載の方法。
38. 前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料がＳｉＯ_２であり、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料がＺｒＯ_２である、請求項３７に記載の方法。
39. 前記光学面の上に前記疎水性材料の層を形成する前記工程の前に、フッ化物または酸化物材料の堆積層を、前記レンズ型の前記光学面に形成する工程をさらに含む、請求項３４に記載の方法。
40. 前記堆積層が、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＢａＦ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、ＨｆＦ_４、ＮｄＦ_４、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、またはそれらの組合せで形成される、請求項３９に記載の方法。
41. 前記反射防止コーティングの層状構造を前記疎水性材料の前記層の上に形成する前記工程の前に、ＳｉＯ_２の第８の層が、前記超疎水性材料の前記層と前記第１の材料の前記第１の層との間に形成されるように、イオンアシストを用いずに５〜４０ｎｍの厚さで前記疎水性材料の前記層の上に堆積される前記ＳｉＯ_２の第８の層を形成する工程をさらに含む、請求項３８に記載の方法。
42. ＳｉＯ_２の各層が、イオンアシストを用いてまたはイオンアシストを用いずに堆積される、請求項３８に記載の方法。
43. 前記ダイポーダルシランが、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンを含む、請求項３４に記載の方法。
44. 前記カップリング剤の層が、環状アザシランを含む組成物で形成される、請求項３４に記載の方法。
45. 前記カップリング剤の層が、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンで形成される、請求項４４に記載の方法。
46. レンズの光学面に転写可能な、反射防止コーティングを有する光学面を備えた型であって、
    （ａ）前記型の光学面の上に堆積された疎水性材料の層であって、前記疎水性材料が、前記疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有する層；
    （ｂ）前記疎水性材料の前記層の上に堆積された反射防止コーティングの層状構造；および
    （ｃ）蒸着を用いて、または非プロトン性溶媒中のカップリング剤の溶液を用いるディップコーティングによって前記反射防止コーティングの層状構造の上に単層の厚さで堆積されたカップリング剤の層
    を含む型。
47. 前記疎水性層が、超疎水性層であり、前記ダイポーダルシランの量が、前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である、請求項４６に記載の型。
48. 前記反射防止コーティングの層状構造が：
    （ａ）前記疎水性材料の前記層の上に堆積した、第１の屈折率および約５〜１００ｎｍの厚さをもつ第１の材料の第１の層；
    （ｂ）前記第１の層に堆積した、第２の屈折率および約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の第２の層；
    （ｃ）前記第２の層に堆積した、前記第１の屈折率および約１０〜２０ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第３の層；
    （ｄ）前記第３の層に堆積した、前記第２の屈折率および約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ前記第２の材料の第４の層；
    （ｅ）前記第４の層に堆積した、前記第１の屈折率および約２５〜４０ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第５の層；
    （ｆ）前記第５の層に堆積した、前記第２の屈折率および約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ前記第２の材料の第６の層；ならびに
    （ｇ）前記第６の層に堆積した、前記第１の屈折率および約５〜１５ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第７の層
    を含む、請求項４６に記載の型。
49. 前記第１の屈折率Ｌおよび前記第２の屈折率Ｈが、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす、請求項４８に記載の型。
50. 前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料がＳｉＯ_２であり、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料がＺｒＯ_２である、請求項４９に記載の型。
51. 前記疎水性材料の前記層と前記光学面との間に形成されたフッ化物または酸化物材料の堆積層をさらに含む、請求項４７に記載の型。
52. 前記堆積層が、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＢａＦ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、ＨｆＦ_４、ＮｄＦ_４、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＨｆＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、またはそれらの組合せで形成される、請求項５１に記載の型。
53. ＳｉＯ_２の層が前記疎水性材料の前記層と前記第１の材料の前記第１の層との間に形成されるように、イオンアシストを用いずに５〜４０ｎｍの厚さで前記疎水性材料の前記層の上に堆積される前記ＳｉＯ_２の層をさらに含む、請求項４８に記載の型。
54. ＳｉＯ_２の各層が、イオンアシストを用いてまたはイオンアシストを用いずに堆積される、請求項５０に記載の型。
55. 前記ダイポーダルシランが、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンを含む、請求項４６に記載の型。
56. 前記カップリング剤の前記層が、環状アザシランを含む組成物で形成される、請求項４６に記載の型。
57. 前記カップリング剤の前記層が、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンで形成される、請求項５６に記載の型。
58. 光学面を備えるレンズ体；
    前記光学面の上のハードコート層；および
    前記光学面の上に形成された反射防止コーティング
    を備える光学レンズであって、前記反射防止コーティングが：
    （ａ）前記光学面の上に堆積した、単層の厚さをもつカップリング剤の層；
    （ｂ）前記カップリング剤の前記層の上に堆積した、反射防止コーティングの層状構造；および
    （ｃ）疎水性材料が、前記疎水性材料の相対的な百分率である一定量のダイポーダルシランを含有する、前記反射防止コーティングの層状構造の上に堆積した前記疎水性材料の層を含む、光学レンズ。
59. 前記疎水性層が超疎水性層であり、前記ダイポーダルシランの量が前記超疎水性材料の約１．７〜８．３重量％である、請求項５８に記載の光学レンズ。
60. 前記反射防止コーティングの層状構造が：
    （ａ）前記疎水性材料の層の上に堆積した、第１の屈折率および約５〜１００ｎｍの厚さをもつ第１の材料の第１の層；
    （ｂ）前記第１の層に堆積した、第２の屈折率および約４０〜５０ｎｍの厚さをもつ第２の材料の第２の層；
    （ｃ）前記第２の層に堆積した、前記第１の屈折率および約１０〜２０ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第３の層；
    （ｄ）前記第３の層に堆積した、前記第２の屈折率および約５０〜７０ｎｍの厚さをもつ前記第２の材料の第４の層；
    （ｅ）前記第４の層に堆積した、前記第１の屈折率および約２５〜４０ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第５の層；
    （ｆ）前記第５の層に堆積した、前記第２の屈折率および約１０〜２５ｎｍの厚さをもつ前記第２の材料の第６の層；ならびに
    （ｇ）前記第６の層に堆積した、前記第１の屈折率および約５〜１５ｎｍの厚さをもつ前記第１の材料の第７の層
    を含む、請求項５８に記載の光学レンズ。
61. 前記第１の屈折率Ｌおよび前記第２の屈折率Ｈが、Ｈ／Ｌ＞１の比を満たす、請求項６０に記載の光学レンズ。
62. 前記第１の屈折率をもつ前記第１の材料がＳｉＯ_２であり、前記第２の屈折率をもつ前記第２の材料がＺｒＯ_２である、請求項６２に記載の光学レンズ。
63. ＳｉＯ_２の層が、前記疎水性材料の前記層と前記第１の材料の前記第１の層との間に形成されるように、イオンアシストを用いずに、約５〜４０ｎｍの厚さで、前記疎水性材料の前記層の上に堆積される前記ＳｉＯ_２の層をさらに含む、請求項６０に記載の光学レンズ。
64. ＳｉＯ_２の各層が、イオンアシストを用いてまたはイオンアシストを用いずに堆積される、請求項６２に記載の光学レンズ。
65. 前記ダイポーダルシランが、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミンを含む、請求項５８に記載の光学レンズ。
66. 前記カップリング剤の前記層が、環状アザシランを含む組成物で形成される、請求項５８に記載の光学レンズ。
67. 前記カップリング剤の前記層が、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシ−シラシクロペンタンで形成される、請求項６６に記載の光学レンズ。
    

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