JP2010276782A - 画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも一方が透明な2枚の基板11,12および該基板間に粉体形態で封入される表示粒子21,22を備え、基板間に電界を発生させることによって、表示粒子を移動させて画像を表示する画像表示装置10であって、前記基板間の間隙における表示粒子との接触面のうち、両方の基板側の面20a,20bが同一金属の酸化物層1を有し、表示粒子が正帯電性表示粒子22および負帯電性表示粒子21を含み、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の両方が、少なくとも樹脂および着色剤を含有する母体粒子の表面に、基板側の面が有する金属酸化物層1と同一金属の酸化物層および有機層を順次、有してなることを特徴とする画像表示装置。
【選択図】図1
Description
前記基板間の間隙における表示粒子との接触面のうち、両方の基板側の面が同一金属の酸化物層を有し、
表示粒子が正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子を含み、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の両方が、少なくとも樹脂および着色剤を含有する母体粒子の表面に、前記基板側の面が有する金属酸化物層と同一金属の酸化物層および有機層を順次、有してなることを特徴とする画像表示装置に関する。
本発明に係る画像表示装置は、少なくとも一方が透明な2枚の基板および該基板間に粉体形態で封入される表示粒子を備え、基板間に電界を発生させることによって、表示粒子を移動させて画像を表示するものである。以下、本発明の画像表示装置について詳細に説明する。なお、本発明に係る画像表示装置は、「粉体ディスプレイ」とも呼ばれるものである。
図1(b)の画像表示装置10の最外部にも、当該画像表示装置を構成する筐体である2つの基板11と12が対向して配置されている。基板11と12は双方が向き合う側の面上に絶縁層16が設けられている。基板11と12には、絶縁層16が設けられ、絶縁層16を有する側の面を対向させて形成される間隙18には表示粒子が存在する。
また例えば、一方の基板側(例えば、20a)の面が有する金属酸化物層1がTiO2層であるとき、他方の基板側の面(例えば、20b)が有する金属酸化物層1はTi2O5層、Ti2O3層、TiO2層またはTinO2n−1層(nは4〜9の整数)であってよく、好ましくはTiO2層である。
また例えば、一方の基板側(例えば、20a)の面が有する金属酸化物層1がAl2O3層であるとき、他方の基板側の面(例えば、20b)が有する金属酸化物層1はAl2O3層である。
金属酸化物層1の厚みはDektak3030(SLOAN社製)によって測定された値を用いている。
シランカップリング剤の具体例として、例えば、ジメチルジクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、メタクリルシラン、オクチルシラン等が挙げられる。
シリコーンオイルの具体例として、例えば、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル等が挙げられる。シリコーンオイルは市販品として入手可能なKF−99、X−22−4039、KF−101、X−22−170BX(信越化学工業社製)、FZ−3704、SF8411FLUID(東レ・ダウコーニング社製)が使用可能である。
処理液の疎水化剤濃度は10体積%以上が好適である。
処理液に含まれてよい溶媒は、特に制限されるものではなく、有機溶剤が使用可能である。そのような有機溶剤の具体例として、例えば、テトラヒドロフラン、アセトン、MEK、シクロヘキサン、トルエン等が挙げられる。
有機層の厚みは、金属酸化物層1の厚みと同様の方法によって測定できる。
具体的には、例えば金属酸化物層1がケイ素酸化物層であるとき、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の金属酸化物層44もケイ素酸化物層であればよい。詳しくは金属酸化物層1がSiO2層であるとき、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の金属酸化物層44は同時にSiO2層である。
また例えば、金属酸化物層1がチタン酸化物層であるとき、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の金属酸化物層44もチタン酸化物層であればよい。詳しくは金属酸化物層1がTiO2層であるとき、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の金属酸化物層44はそれぞれ独立してTi2O5層、Ti2O3層、TiO2層またはTinO2n−1層(nは4〜9の整数)であってよく、好ましくは同時にTiO2層である。
また例えば、金属酸化物層1がアルミニウム酸化物層であるとき、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の金属酸化物層44もアルミニウム酸化物層であればよい。詳しくは金属酸化物層1がAl2O3層であるとき、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の金属酸化物層44は同時にAl2O3層である。
測定試料には、当該金属酸化物層44が形成された母体粒子をエポキシ樹脂に包埋し、60℃で24時間硬化後、ダイヤモンド歯を供えたミクロトームを用い平面を切り出すことにより、断面を平滑化し、粒子断面の観察できるブロックを用いた。
スキャナーはFS−100N(面内100μm、垂直15μm)、マイクロカンチレバーは窒化ケイ素製SN−AF01(バネ定数0.08N/m)を用いて、測定モードはマイクロ粘弾性モード(VE−AFM)で行った。加振周波数3〜5kHz、加振振幅4〜6nmに設定し、形状像、振幅A、Asinδ、Acosδの4画面を各10μm×10μmの測定エリアで同時に測定し、振幅像にて金属酸化物層を目視観測により確認し、粒子最表面から母体粒子までの距離を測定し、その平均値を金属酸化物層44の膜厚として算出した。具体的には、粒子の重心を通る直線との交点から算出し、直線は重心より等間隔の角度で放射状に設けられた8本の直線とする。測定を行う粒子の数は、最低でも100個以上とする。尚、測定環境は25℃±5℃で測定した。
金属酸化物層44を構成する金属酸化物微粒子は、均一に母体粒子を被服する観点から、平均一次粒径が5〜250nm、特に30〜200nmであることが好ましい。そのような金属酸化物微粒子の平均一次粒径は正帯電性表示粒子と負帯電性表示粒子とでそれぞれ独立して上記範囲内で選択されればよい。
金属酸化物層44を形成する湿式法は、母体粒子を存在させること以外、金属酸化物微粒子を製造するための公知の湿式法と同様の方法が使用できる。例えば、ゾルゲル法、界面反応法等が挙げられる。
TiO2層を形成する場合は、例えば、チタンテトライソプロポキシド等が使用可能である。
Al2O3層を形成する場合は、例えば、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド等が使用可能である。
有機層45の厚みは、金属酸化物層44と同様の方法で測定することができる。粒子最表面から母体粒子までの距離を測定し、その平均値と金属酸化物層44の膜厚との差分を当該有機層の厚みとして算出した。
測定手順としては、サンプル0.02gを界面活性剤溶液20ml(粒子を分散させるためのもので、界面活性剤成分を含む中性洗剤を純水で10倍希釈した界面活性剤溶液)で馴染ませた後、超音波分散を1分間行い、分散液を作製する。この分散液を、サンプルスタンド内のISOTONII(ベックマン・コールター社製)の入ったビーカーに、測定濃度10%になるまでピペットにて注入し、測定機カウントを2500個に設定して測定する。なお、マルチサイザー3のアパチャー径は100μmのものを使用する。
本発明に係る画像表示装置は、2枚の基板間に電圧を印加されて電界が形成されると、基板間に存在する表示粒子は、電界方向に沿って移動する様になる。この様に、表示粒子が存在する基板間に電圧を印加することにより、表示粒子が基板間を移動して画像表示を行うものである。
(1)表示媒体として用いる表示粒子を、キャリアによる摩擦帯電等の公知の方法により帯電させる。
(2)対向する2枚の基板間に表示粒子を封入し、この状態で基板間に電圧を印加する。
(3)基板間への電圧印加により、基板間に電界が形成される。
(4)表示粒子は、電極間の電界の力の作用により表示粒子の極性と反対側の電界方向に沿って基板表面に引き寄せられ、画像表示が行える様になる。
(5)また、基板間の電界方向を変えることにより、表示粒子の移動方向を切り換える。この移動方向の切換えにより画像表示を様々に変えることができる。
図3(a)は、基板11と12の間に電圧を印加する前の状態を示しており、電圧印加前は視認側の基板11近傍には正に帯電した白色粒子22が存在している。この状態は画像表示装置10が白色画像を表示しているものである。また、図3(b)は、電極15に電圧を印加した後の状態を示しており、電圧印加により負に帯電した黒色粒子21が視認側の基板11近傍に移動し、白色粒子22は基板12側に移動している。この状態は画像表示装置10が黒色画像を表示しているものである。
絶縁層16を構成する材料としては、電気絶縁性を有する薄膜化可能な材料であって、所望により透明性を有するものである。画像を視認する側に設けられる絶縁層は可視光透過率を、基板同様、80%以上とすることが好ましい。具体例として、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。
隔壁17の形状および配置を制御することにより、隔壁17により仕切られた間隙18のセルを様々な形状で配置できる。間隙18を基板11の視認方向から見た時のセルの形状および配置の例を図5下段の図に示す。セルは、図5下段の図に示すように、四角形状、三角形状、ライン状、円形状、六角形状等にて、複数個で、ハニカム状や網目状に配置することができる。
表示粒子を構成する母体粒子は、少なくとも樹脂および着色剤を含有する着色樹脂粒子であり、所望によりさらに荷電制御剤、蛍光増白剤等の添加剤を含有してもよい。母体粒子は通常、正帯電性表示粒子に含まれる母体粒子と、負帯電性表示粒子に含まれる母体粒子との間で、異なる色の着色剤が含まれる。例えば、白色母体粒子と、黒色母体粒子とが組み合わせて使用される。
樹脂を選択することにより表示粒子の帯電極性を制御できる。
(1)樹脂と着色剤とを混練した後、粉砕、分級の各工程を経て母体粒子を製造する方法;
(2)水系媒体中で重合性単量体と着色剤を機械的に撹拌して液滴を形成した後、重合を行って母体粒子を製造する、いわゆる懸濁重合法;
(3)界面活性剤を含有させた水系媒体中に重合性単量体を滴下し、ミセル中で重合反応を行って100〜150nmの重合体粒子を製造した後、着色剤粒子と凝集剤を添加してこれらの粒子を凝集・融着させて母体粒子を製造する、いわゆる乳化重合凝集法。
画像表示装置は以下に示す電子写真現像方式によって製造可能である。
2枚の基板11に、電極15および所望により絶縁層16を形成し、一対の電極付き基板を得る。さらにその上に金属酸化物層1を後述の方法により形成する。
表示粒子21およびキャリア210を混合することにより表示粒子21を負帯電させ、混合物(21,210)を、図6(a)に示すように、導電性のステージ100上に置き、金属酸化物層1を形成した一方の電極付き基板を、ステージ100と所定の間隔を空けて設置する。次いで、図6(a)に示すように、電極15に正極性の直流電圧と交流電圧を印加して、金属酸化物層1上に負帯電性表示粒子21を付着させる。
表示粒子22およびキャリア220を混合することにより表示粒子22を正帯電させ、混合物(22,220)を、図6(b)に示すように、導電性のステージ100上に置き、金属酸化物層1を形成した他方の電極付き基板を、ステージ100と所定の間隔を空けて設置する。次いで、図6(b)に示すように、電極15に負極性の直流電圧と交流電圧を印加して、金属酸化物層1上に正帯電性表示粒子22を付着させる。負帯電性表示粒子を付着させた電極付き基板と、正帯電性表示粒子を付着させた電極付き基板とを、図6(c)に示すように、所定の間隔になるように隔壁で調整して重ね、基板周辺を接着し、画像表示装置を得ることができる。
表示粒子を正帯電させるキャリア220としては、例えば、フェライト等の磁性粒子に、フッ素化アクリレート樹脂等の樹脂をコートしたコート型キャリアが有用である。
金属酸化物層は以下に示す大気圧プラズマ処理方法によって形成できる。
大気圧プラズマ処理方法は、大気圧もしくはその近傍の圧力下、プラズマ放電空間に金属酸化物層形成ガスを含有するガスを供給し、前記放電空間に高周波電界を印加することにより前記ガスを励起し、基材を、励起した前記ガスに晒すことにより前記基材上に金属酸化物層を形成する。ここで、基材は、金属酸化物層1が形成されるべき面を有する基板であり、所望により電極が形成されていても、かつ/または絶縁膜が形成されていてもよい。そのような基板の金属酸化物層形成面を、励起した前記ガスに晒すことにより、所定の金属酸化物層を形成できる。
V1≧IV>V2 または V1>IV≧V2;
を満たし、前記第2の高周波電界の出力密度が、1W/cm2以上である。
各電極部に高周波電圧プローブ(P6015A)を設置し、該高周波電圧プローブの出力信号をオシロスコープ(Tektronix社製、TDS3012B)に接続し、電界強度を測定する。
電極間に放電ガスを供給し、この電極間の電界強度を増大させていき、放電が始まる電界強度を放電開始電界強度IVと定義する。測定器は上記高周波電界強度測定と同じである。
第2電源122の周波数としては、800kHz以上が好ましく用いられる。この第2電源の周波数が高い程、プラズマ密度が高くなり、緻密で良質な金属酸化物層が得られる。上限は200MHz程度が望ましい。
第2フィルタ124としては、第1電源の周波数に応じて10μH以上のコイルを用い、これらのコイルまたはコンデンサを介してアース接地することでフィルタとして使用出来る。
印加電源記号 メーカー 周波数 製品名
A1 神鋼電機 3kHz SPG3−4500
A2 神鋼電機 5kHz SPG5−4500
A3 春日電機 15kHz AGI−023
A4 神鋼電機 50kHz SPG50−4500
A5 ハイデン研究所 100kHz* PHF−6k
A6 パール工業 200kHz CF−2000−200k
A7 パール工業 400kHz CF−2000−400k
等の市販のものを挙げることが出来、何れも使用することが出来る。
印加電源記号 メーカー 周波数 製品名
B1 パール工業 800kHz CF−2000−800k
B2 パール工業 2MHz CF−2000−2M
B3 パール工業 13.56MHz CF−5000−13M
B4 パール工業 27MHz CF−2000−27M
B5 パール工業 150MHz CF−2000−150M
等の市販のものを挙げることが出来、何れも好ましく使用出来る。
1:金属質母材が純チタンまたはチタン合金で、誘電体がセラミックス溶射被膜
2:金属質母材が純チタンまたはチタン合金で、誘電体がガラスライニング
3:金属質母材がステンレススティールで、誘電体がセラミックス溶射被膜
4:金属質母材がステンレススティールで、誘電体がガラスライニング
5:金属質母材がセラミックスおよび鉄の複合材料で、誘電体がセラミックス溶射被膜
6:金属質母材がセラミックスおよび鉄の複合材料で、誘電体がガラスライニング
7:金属質母材がセラミックスおよびアルミの複合材料で、誘電体がセラミックス溶射皮膜
8:金属質母材がセラミックスおよびアルミの複合材料で、誘電体がガラスライニング
等がある。線熱膨張係数の差という観点では、上記1項または2項および5〜8項が好ましく、特に1項が好ましい。
[黒色表示粒子の製造]
(黒色母体粒子)
下記した樹脂及びカーボンブラックをヘンシェルミキサ(三井三池鉱業社製)に投入し、撹拌羽根の周速を25m/秒に設定して5分間混合処理して混合物とした。
スチレンアクリル樹脂(重量平均分子量20,000) 100重量部
カーボンブラック(平均一次粒径25nm) 10重量部
上記混合物を二軸押出混練機で混練し、次いで、ハンマーミルで粗粉砕した後、ターボミル粉砕機(ターボ工業社製)で粗粉粉砕し、さらに、コアンダ効果を利用した気流分級機で微粉分級処理を行って、体積平均粒径が8.2μmの黒色母体粒子を製造した。
黒色母体粒子30gを純水1000gに分散し、アンモニア水(28wt%)10gを添加して5分間攪拌した。次いでテトラエトキシシラン8.5gを3時間かけて滴下し、さらに室温にて5時間攪拌した。得られた沈殿物をろ過し、純水にて洗浄し後、60℃で24時間乾燥し、黒色母体粒子表面にシリカ微粒子層(SiO2層)が形成された黒色粒子を得た。
得られた黒色粒子10gを室温で、シクロヘキサン50gとヘキサメチルジシラザン10gとの混合液に加えて、この分散液を撹拌しながら50℃に加熱し、3時間反応させた。次いで、この分散液中の溶媒を50℃、減圧下で留去することにより、体積平均粒径8.5μmの負帯電性の黒色表示粒子を得た。
(白色母体粒子)
下記した樹脂及び酸化チタンをヘンシェルミキサ(三井三池鉱業社製)に投入し、撹拌羽根の周速を25m/秒に設定して5分間混合処理して混合物とした。
スチレンアクリル樹脂(重量平均分子量20,000) 100重量部
ルチル型酸化チタン(R−630;石原産業社製) 100重量部
上記混合物を二軸押出混練機で混練し、次いで、ハンマーミルで粗粉砕した後、ターボミル粉砕機(ターボ工業社製)で粉砕処理し、さらに、コアンダ効果を利用した気流分級機で微粉分級処理を行って、体積平均粒径が8.0μmの白色母体粒子を製造した。
白色母体粒子30gを純水1000gに分散し、アンモニア水(28wt%)10gを添加して5分間攪拌した。次いでテトラエトキシシラン8.5gを3時間かけて滴下し、さらに室温にて5時間攪拌した。得られた沈殿物をろ過し、純水にて洗浄した後、60℃で24時間乾燥し、白色母体粒子表面にシリカ微粒子層(SiO2層)が形成された白色粒子を得た。
酢酸水溶液(1wt%)25gにN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン(第1処理剤)4gを加えて、室温で15分間攪拌した。その後、混合液に、得られた白色粒子10gを添加し、50℃で3時間攪拌した。この分散液中の溶媒を50℃、減圧下で留去した。その後、さらに、得られた白色粒子をシクロヘキサン50gとヘキサメチルジシラザン(第2処理剤)10gとの混合液に加えて、撹拌しながら50℃に加熱し、3時間反応させた。次いで、この分散液中の溶媒を50℃、減圧下で留去することにより、体積平均粒径8.3μmの正帯電性の白色表示粒子を得た。
平均粒子径80μmのフェライトコア100重量部に対して、フッ素化アクリレート樹脂粒子を2部加え、これら原料を水平回転翼型混合機に投入し、水平回転翼の周速が8m/秒となる条件で22℃で10分間混合攪拌した後、90℃に加熱し40分攪拌して、キャリアAを製造した。
平均粒子径80μmのフェライトコア100重量部に対して、シクロヘキシルメタクリレート樹脂粒子を2部加え、これら原料を水平回転翼型混合機に投入し、水平回転翼の周速が8m/秒となる条件で22℃で10分間混合攪拌した後、90℃に加熱し40分攪拌して、キャリアBを製造した。
画像表示装置は、絶縁層16を備えないこと以外、図1(a)と同様の構造を有するように、以下の方法に従って製造した。長さ80mm、幅50mm、厚さ0.7mmのガラス基板を2枚用意し、各基板面上には、厚さ300nmのインジウム・スズ酸化物(ITO)被膜(抵抗30Ω/□)からなる電極15を蒸着法により形成した。
詳しくは、図7に示す金属酸化物層製造装置により、テトラエトキシシランを用いて、両方の基板の電極表面に対してケイ素酸化物層(SiO2層)を形成した。この時の製造装置の各電極を被覆する誘電体は、対向する両電極共に、セラミック溶射加工により片肉で1mm厚のアルミナを被覆したものを使用した。被覆後の電極間隙は、1mmに設定した。又誘電体を被覆した金属母材は、冷却水による冷却機能を有するステンレス製ジャケット仕様であり、放電中は冷却水による電極温度コントロールを行いながら実施した。
(成膜条件)
放電ガス:N2ガス
反応ガス:02ガスを全ガスに対し19体積%
原料ガス:テトラエトキシシラン(TEOS)を全ガスに対し1.4体積%
膜厚:50nm
低周波側電源電力(神鋼電機製高周波電源(50kHz)):10W/cm2
高周波側電源電力(パール工業製高周波電源(13.56MHz)):5W/cm2
白色表示粒子および黒色表示粒子の製造時において金属酸化物層44および有機層45の形成に所定の原料および表面処理剤を用いたこと、両方の電極付き基板の製造時において金属酸化物層1および有機層の形成に所定の原料および表面処理剤を用いたこと以外、実施例1と同様の方法により、画像表示装置を製造した。
疎水化剤(ヘキサメチルジシラザン)10重量部および有機溶媒(シクロヘキサン)90重量部を混合し、疎水化剤溶液を調製した。金属酸化物層1の表面に疎水化剤溶液を塗布し、100℃で2時間加熱した後、乾燥させることによって有機層を形成した。
シリコーン系樹脂として下記で示される重量平均分子量4万の樹脂12gをテトラヒドロフラン80mlとトルエン20mlに溶解して塗布液を作製し、基板のITO上に塗布液をスピンコート法により塗布して、乾燥後の膜厚が3μmの絶縁層を作製した。
ビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂12gをテトラヒドロフラン80mlとトルエン20mlに溶解し塗布液を作製した。基板のITO上に前記塗布液をスピンコート法により塗布して、乾燥後の膜厚が3μmのポリカーボネート樹脂の絶縁層を作製した。
低温低湿環境下(10℃、20%)において画像表示装置に対して以下の手順で直流電圧を印加し、電圧印加により得られる表示画像の反射濃度を測定することにより、表示特性を評価した。尚、電圧印加は、以下の手順で行い、印加電圧を0Vからプラス側に変化させた後、続いてマイナス側に変化させ、再び0Vに戻る経路のヒステリシス曲線を描く様に電圧を印加した。すなわち、
(1)0Vから+100Vまで20V間隔で電圧を変化させながら印加を行う。
(2)+100Vから−100Vまで20V間隔で電圧を変化させながら印加を行う。
(3)−100Vより0Vまで20V間隔で電圧を変化させながら印加を行う。
上記手順で各画像表示装置に直流電圧を印加したところ、白表示の状態でプラスの電圧を印加した時に、表示が白から黒に変化することが確認された。なお、画像表示装置の視認方向上流側の電極に印加する電圧を変化させ、他方の電極は電気的に接地させた。
(コントラスト(初期))
コントラストは、黒色濃度と白色濃度との差、すなわち、
コントラスト=黒色濃度−白色濃度
で定義される濃度差により評価した。
黒色濃度は、画像表示装置の視認方向上流側の電極に+100Vの電圧を印加した時に得られる表示面の反射濃度である。
白色濃度は、画像表示装置の視認方向上流側の電極に−100Vの電圧を印加した時に得られる表示面の反射濃度である。
濃度は、反射濃度計「RD−918(マクベス社製)」を用いて、表示面上の5カ所をランダムに測定して、その平均値とした。
コントラストは、濃度差が1.30以上を最優良(◎)、1.20以上を優良(○)、1.00以上を合格(△)、1.00未満を不合格(×)とした。
繰り返し特性は、+100Vと−100Vの電圧印加を交互に繰り返し、その都度反射濃度を測定したとき、コントラストが0.70以下になった時点での繰り返し回数に基づいて評価した。繰り返し回数が10000回以上を最優良(◎)、5000回以上を優良(○)、1000回以上を合格(△)、1000回未満を不合格(×)とした。
10:画像表示装置
11:12:基板
15:電極
16:絶縁層
17:隔壁
18:隙間
18a:画像表示面
21:黒色表示粒子
22:白色表示粒子
41:樹脂
42:着色剤
43:母体粒子
44:金属酸化物層
45:有機層
Claims (2)
- 少なくとも一方が透明な2枚の基板および該基板間に粉体形態で封入される表示粒子を備え、基板間に電界を発生させることによって、表示粒子を移動させて画像を表示する画像表示装置であって、
前記基板間の間隙における表示粒子との接触面のうち、両方の基板側の面が同一金属の酸化物層を有し、
表示粒子が正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子を含み、正帯電性表示粒子および負帯電性表示粒子の両方が、少なくとも樹脂および着色剤を含有する母体粒子の表面に、前記基板側の面が有する金属酸化物層と同一金属の酸化物層および有機層を順次、有してなることを特徴とする画像表示装置。 - 前記両方の基板側の面が金属酸化物層の上にさらに有機層を有する請求項1に記載の画像表示装置。
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