JP2015533026A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、半導体製造工程中に、次の段階に使用されるウェハを保管するための装置に関するものである。
一般に、半導体製造工程では、ウェハを生産し、生産されたウェハを次の段階に移送して半導体パッケージを製造するようになる。
この時、生産されたウェハは、すぐ次の段階で使用されず一定時間待機した後、必要に応じて順次に次の段階に送られる。このような保管のための設備が必要である。
この保管のための設備は、半導体工場の地上に設置され、多くの空間を占める問題がある。
また、上記保管設備に保管する間は、時間が経つにつれてウェハが損傷することもある。
本発明の目的は、空間の活用性を高めながらもウェハの保管時間を増やすことができる、ウェハパージ可能な天井保管装置を提供するものである。
上記した課題を実現するための本発明の一実施例と係わるウェハパージ可能な天井保管装置は、ビークルを案内するために天井に設置されるように形成されるレールと、前記天井に設置されるように形成されてウェハを内部に収容する容器を前記ビークルから受け取って保管するように形成される保管系と、前記保管系を通じて前記容器に連通するように設置されて前記容器の内部に収容された前記ウェハをガスでパージするように形成されるパージアセンブリーとを含むことができる。
ここで、前記保管系は、本体と、前記本体に設置され、前記容器を支持するように形成される棚と、前記本体に設置されて前記本体が前記天井に締結されるようにするように形成される締結ユニットとを含むことができる。
ここで、前記本体は、前記棚が設置される底フレームと、前記底フレームの両端部に結合してそれぞれの自由端には前記締結ユニットが設置される一対の側壁フレームとを含むことができる。
ここで、前記パージアセンブリーは、前記容器の内部にガスを供給するように形成される供給ユニットと、前記容器の内部に注入されたガスを排出するように形成される排出ユニットとを含むことができる。
ここで、前記棚は、前記容器の内部と連通するように形成される供給ノズル及び排出ノズルを含み、前記供給ユニット及び排出ユニットは、それぞれ、前記レールに沿って延長形成されて前記ガスが流動するように形成されるメイン配管と、前記メイン配管に連通し、前記供給ノズルまたは排出ノズルに繋がるサブ配管とを含むことができる。
ここで、前記サブ配管は、前記メイン配管に連通する第1のサブ配管と、前記第1のサブ配管と前記供給ノズルまたは排出ノズルとを連結して前記第1のサブ配管より小さな流動断面積を有する第2のサブ配管とを含むことができる。
ここで、前記供給ユニットは、前記供給ユニットの第2のサブ配管に設置されて前記供給ユニットの第2のサブ配管を開閉するように形成される供給バルブと、前記供給バルブと供給ノズルとの間に位置するように前記供給ユニットの第2のサブ配管に設置されて前記棚で流動するガスの流量を測定するように形成される供給流量計とをさらに含むことができる。
ここで、前記供給ユニットは、前記供給流量計と前記棚の供給ノズルとの間に位置するように前記供給ユニットの第2のサブ配管に設置されるガスフィルターをさらに含むことができる。
ここで、前記排出ユニットは、前記排出ユニットの第2のサブ配管に設置されて前記排出ユニットの第2のサブ配管を開閉するように形成される排出バルブと、前記排出バルブと排出ノズルとの間に位置するように前記排出ユニットの第2のサブ配管に設置されて前記棚から外れるように流動するガスの流量を測定するように形成される排出流量計とをさらに含むことができる。
ここで、前記パージアセンブリーは、前記供給バルブ及び排出バルブと繋がり、前記供給バルブ及び排出バルブそれぞれの開閉を制御する制御ユニットをさらに含むことができる。
ここで、前記制御ユニットは、前記供給流量計で測定された供給流量と前記排出流量計で測定された排出流量の差に基づいて、前記供給バルブまたは排出バルブを開閉するように形成されることができる。
ここで、前記棚は、前記容器の存在を感知する容器感知センサーをさらに含み、前記制御ユニットは、前記容器感知センサーの感知結果に基づいて、前記供給バルブまたは排出バルブを開閉するように形成されることができる。
本発明の他の実施例によるウェハパージ可能な天井保管装置は、天井に設置されるレールと、前記レールに沿って移動するように形成されてウェハを内部に収容する容器を積載するように形成されるビークルと、前記レール横に位置するように前記天井に設置されて前記ビークルから前記容器を受け取って保管するように形成される複数の保管系と、前記保管系を通じて前記容器に連通するように設置されて前記容器の内部に収容された前記ウェハをガスでパージするように形成されるパージアセンブリーとを含むことができる。
ここで、前記保管系は、底フレームと、前記底フレームの両端部に結合して前記底フレームと前記天井との間に位置するように形成される一対の側壁フレームと、前記容器を支持するように前記底フレームに設置されて前記容器と連通する供給ノズル及び排出ノズルを具備する棚とを含むことができる。
ここで、前記パージアセンブリーは、前記供給ノズルを通じて前記容器の内部にガスを供給するように形成されて前記ガスの供給を開始または遮断するように形成される供給バルブを具備する供給ユニットと、前記排出ノズルを通じて前記容器の内部に注入されたガスを排出するように形成されて前記ガスの排出を開始または遮断するように形成される排出バルブを具備する排出ユニットと、前記容器の内部にガス量に基づいて前記供給バルブまたは排出バルブの作動を制御する制御ユニットとを含むことができる。
前記と同様に構成される本発明に係わるウェハパージ可能な天井保管装置によると、半導体工場の底面上の空間の活用性を高めながらもウェハの保管時間を増やすことができるようになる。
以下、本発明の好ましい実施例によるウェハパージ可能な天井保管装置について、添付した図面を参照して詳細に説明する。
本明細書では、互いに異なる実施例でも同一・類似する構成については同一・類似する参照番号を付与し、その説明は最初の説明で代替する。
本明細書では、互いに異なる実施例でも同一・類似する構成については同一・類似する参照番号を付与し、その説明は最初の説明で代替する。
図1は、本発明の一実施例によるウェハパージ可能な天井保管装置(1000)を示した斜視図である。
本図面を参照すると、ウェハパージ可能な天井保管装置(1000)は、レール(100)と、ビークル(200)と、保管系(300)と、パージアセンブリー(400)とを含むことができる。
レール(100)は、移動経路を形成するように天井(C)に設置される構成である。
レール(100)は、2つのライン、例えば閉曲線型のラインを成すように形成されることができる。
レール(100)は、2つのライン、例えば閉曲線型のラインを成すように形成されることができる。
ビークル(200)は、前記移動経路に沿って移動するようにレール(100)に設置される構成である。
ビークル(200)には、ウェハを収容する容器(S1)が積載される。
ビークル(200)は、容器(S1)をローディングするための手段と容器(S1)をアンローディングするための手段を具備する。
ビークル(200)には、ウェハを収容する容器(S1)が積載される。
ビークル(200)は、容器(S1)をローディングするための手段と容器(S1)をアンローディングするための手段を具備する。
保管系(300)は、天井(C)に設置されて容器(S2)を保管する構成である。
ここで、容器(S2)は、ビークル(200)に積載した容器( S1)と同一のものであるが、説明の必要上、互いに区分する。
具体的に、容器(S1)は、ビークル(200)に積載されるものであり、容器(S2)は、ビークル(200)から保管系(300)にアンローディングされて保管系(300)に保管されるものである。
保管系(300)は、レール(100)の横に位置するように配置されることができる。
また、保管系(300)は、複数個に形成され、1つのレール(100)に数個から数十個の保管系(300)を連関することができる。
ここで、容器(S2)は、ビークル(200)に積載した容器( S1)と同一のものであるが、説明の必要上、互いに区分する。
具体的に、容器(S1)は、ビークル(200)に積載されるものであり、容器(S2)は、ビークル(200)から保管系(300)にアンローディングされて保管系(300)に保管されるものである。
保管系(300)は、レール(100)の横に位置するように配置されることができる。
また、保管系(300)は、複数個に形成され、1つのレール(100)に数個から数十個の保管系(300)を連関することができる。
パージアセンブリー(400)は、保管系(300)に保管された容器(S2)内にパージするためのガスを供給するための構成である。
このために、パージアセンブリー(400)は、保管系(300)を通じて容器(S2)に連通することができる。
このために、パージアセンブリー(400)は、保管系(300)を通じて容器(S2)に連通することができる。
このような構成によると、ビークル(200)は、前段階で生産されたウェハが収容された容器(S1)を積載してレール(100)に沿って移動するようになる。
ビークル(200)は、移動中に、指定された保管系(300)に対応して止まる。
ビークル(200)は、容器(S1)をアンローディングし、指定された保管系(300)に容器(S2)が保管されるようにする。
保管された容器(S2)は、パージアセンブリー(400)の影響を受けるようになって、容器(S2)内のウェハはパージされる。
ビークル(200)は、移動中に、指定された保管系(300)に対応して止まる。
ビークル(200)は、容器(S1)をアンローディングし、指定された保管系(300)に容器(S2)が保管されるようにする。
保管された容器(S2)は、パージアセンブリー(400)の影響を受けるようになって、容器(S2)内のウェハはパージされる。
それにより、容器(S2)に収容されたウェハは、前記ガスでパージされ、より長い間保管されることができる。
また、保管系(300)及びパージアセンブリー(400)による容器(S2)が、より長時間、天井(C)側で保管されるようになるので、底面付近の空間の活用が可能になる。
また、保管系(300)及びパージアセンブリー(400)による容器(S2)が、より長時間、天井(C)側で保管されるようになるので、底面付近の空間の活用が可能になる。
以上の保管系(300)及びパージアセンブリー(400)について、図2を参照してより具体的に説明する。
図2は、図1の保管系(300)及びパージアセンブリー(400)を示した斜視図である。
本図面を参照すると、まず、保管系(300)は、本体(310)と、棚(330)と、締結ユニット(350)とを含むことができる。
本体(310)は、保管系(300)の骨組を成す部分である。
本体(310)は、具体的に、底フレーム(311)と、側壁フレーム(313)とで構成することができる。
底フレーム(311)は、天井(C)に概して水平するように配置される。
側壁フレーム(313)は、底フレーム(311)の両端部で天井(C)に向いて一対に延びるように形成される。
本体(310)は、具体的に、底フレーム(311)と、側壁フレーム(313)とで構成することができる。
底フレーム(311)は、天井(C)に概して水平するように配置される。
側壁フレーム(313)は、底フレーム(311)の両端部で天井(C)に向いて一対に延びるように形成される。
棚(330)は、本体(310)に設置されて容器(S2、図1)を支持するように形成される。
具体的に、棚(330)は、本体(310)の底フレーム(311)に設置され、天井(C)が略平行に配列される。
1つの底フレーム(311)に対し、棚(330)は、1つ以上具備されることができる。
本実施例では、1つの底フレーム(311)に3つの棚(330)が設置されたことを例示している。
棚(330)には、容器(S2、図1)の内部に連通するように形成される供給ノズル(331)及び排出ノズル(333)が具備される。
具体的に、棚(330)は、本体(310)の底フレーム(311)に設置され、天井(C)が略平行に配列される。
1つの底フレーム(311)に対し、棚(330)は、1つ以上具備されることができる。
本実施例では、1つの底フレーム(311)に3つの棚(330)が設置されたことを例示している。
棚(330)には、容器(S2、図1)の内部に連通するように形成される供給ノズル(331)及び排出ノズル(333)が具備される。
締結ユニット(350)は、本体(310)、具体的に側壁フレーム(313)に設置され、本体(310)が天井(C)に締結されるようにする。
このような締結ユニット(350)は、レール(100)を天井(C)に締結する構成と同一のものであり得る。
このような締結ユニット(350)は、レール(100)を天井(C)に締結する構成と同一のものであり得る。
次に、パージアセンブリー(400)は、供給ユニット(410)と、排出ユニット(430)とを含むことができる。
供給ユニット(410)は、容器(S2、図1)の内部に前記ガスを供給するように形成される。
これと反対に、排出ユニット(430)は、容器(S2、図1)の内部に充填された前記ガスを排出するように形成される。
供給ユニット(410)は、容器(S2、図1)の内部に前記ガスを供給するように形成される。
これと反対に、排出ユニット(430)は、容器(S2、図1)の内部に充填された前記ガスを排出するように形成される。
ここで、供給ユニット(410)と排出ユニット(430)の各々は、メイン配管(411及び431)とサブ配管(413及び433)を含むことができる。
供給ユニット(410)のメイン配管(411)は、ガスを供給するためのタンクに連通し、排出ユニット(430)のメイン配管(431)は、ガスを回収するためのタンクに連通する。
メイン配管(411及び431)は、レール(100)の側面に設置されてレール(100)に沿って延びるように形成されることができる(図1参照)。
メイン配管(411及び431)は、レール(100)の側面に設置されてレール(100)に沿って延びるように形成されることができる(図1参照)。
サブ配管(413及び433)は、メイン配管(411及び431)と棚(330)[供給ノズル(331)及び排出ノズル(333)]を連結する。
メイン配管(411及び431)が、1つのレール(100、図1)に対して1つ具備されれば、サブ配管(413及び433)は、各保管系(300)に対応してメイン配管(411及び431)から分岐されて複数個具備されることができる。
供給ユニット(410)のサブ配管(413)は、メイン配管(411)に繋がる第1のサブ配管(414)と、第1のサブ配管(414)と供給ノズル(331)を連結する第2のサブ配管(415)とを含むことができる。
これと同様に、排出ユニット(430)のサブ配管(433)は、メイン配管(431)に繋がれる第1のサブ配管(434)と、第1のサブ配管(434)と供給ノズル(333)を連結する第2のサブ配管(435)とを含むことができる。
ここで、第1のサブ配管(414及び434)に比べて、第2のサブ配管(415及び435)は、流動断面積が小さいものであり得る。
メイン配管(411及び431)が、1つのレール(100、図1)に対して1つ具備されれば、サブ配管(413及び433)は、各保管系(300)に対応してメイン配管(411及び431)から分岐されて複数個具備されることができる。
供給ユニット(410)のサブ配管(413)は、メイン配管(411)に繋がる第1のサブ配管(414)と、第1のサブ配管(414)と供給ノズル(331)を連結する第2のサブ配管(415)とを含むことができる。
これと同様に、排出ユニット(430)のサブ配管(433)は、メイン配管(431)に繋がれる第1のサブ配管(434)と、第1のサブ配管(434)と供給ノズル(333)を連結する第2のサブ配管(435)とを含むことができる。
ここで、第1のサブ配管(414及び434)に比べて、第2のサブ配管(415及び435)は、流動断面積が小さいものであり得る。
次に、パージアセンブリー(400)のパージ動作について、図3を参照して説明する。
図3は、図2のパージアセンブリー(400)による容器(S2)に対するパージの動作を説明するための概念図である。
本図面を参照すると、供給ユニット(410)は、前に説明したメイン配管(411)及びサブ配管(413)に加えて、供給バルブ(417)と、供給流量計(419)、そしてガスフィルター(421)をさらに含むことができる。
供給バルブ(417)と供給流量計(419)とガスフィルター(421)とは、全て第2のサブ配管(415)に連通するように設置される。
供給バルブ(417)は、第2のサブ配管(415)でガスが流動するための流路を開閉するように形成される。
供給バルブ(417)は、電気式バルブであって、電気的な信号によって開閉するための動作を行うように形成される。
供給流量計(419)は、供給バルブ(417)と供給ノズル(331)の間に配置され、前記供給ノズル(331)に向いたガスの流量を測定するようになる。
ガスフィルタ(421)は、供給流量計(419)と供給ノズル(331)との間に設置され、供給ノズル(331)を通じて容器(S2)内に供給される前記ガス中の異物をフィルターリングするようになる。
供給バルブ(417)と供給流量計(419)とガスフィルター(421)とは、全て第2のサブ配管(415)に連通するように設置される。
供給バルブ(417)は、第2のサブ配管(415)でガスが流動するための流路を開閉するように形成される。
供給バルブ(417)は、電気式バルブであって、電気的な信号によって開閉するための動作を行うように形成される。
供給流量計(419)は、供給バルブ(417)と供給ノズル(331)の間に配置され、前記供給ノズル(331)に向いたガスの流量を測定するようになる。
ガスフィルタ(421)は、供給流量計(419)と供給ノズル(331)との間に設置され、供給ノズル(331)を通じて容器(S2)内に供給される前記ガス中の異物をフィルターリングするようになる。
排出ユニット(430)は、前に説明したメイン配管(431)及びサブ配管(433)に加えて、排出バルブ(437)と、排出流量計(439)をさらに含むことができる。
排出バルブ(437)と、排出流量計(439)は、全て第2のサブ配管(435)に連通するように設置される。
排出バルブ(437)は、第2のサブ配管(435)でガスが流動するための流路を開閉するように形成される。
排出バルブ(437)は、電気式バルブであって、電気的な信号によって開閉するための動作を行うように形成される。
排出流量計(439)は、排出バルブ(437)と排出ノズル(333)との間に配置され、前記排出ノズル(333)を通じて容器(S2)の外部へ排出される前記ガスの流量を測定するようになる。
排出バルブ(437)と、排出流量計(439)は、全て第2のサブ配管(435)に連通するように設置される。
排出バルブ(437)は、第2のサブ配管(435)でガスが流動するための流路を開閉するように形成される。
排出バルブ(437)は、電気式バルブであって、電気的な信号によって開閉するための動作を行うように形成される。
排出流量計(439)は、排出バルブ(437)と排出ノズル(333)との間に配置され、前記排出ノズル(333)を通じて容器(S2)の外部へ排出される前記ガスの流量を測定するようになる。
以上のパージアセンブリー(400)の作動方式について、図4を追加に参照して説明する。
ここで、図4は、図3のパージアセンブリー(400)の制御的な構成を説明するためのブロック図である。
ここで、図4は、図3のパージアセンブリー(400)の制御的な構成を説明するためのブロック図である。
図3及び図4を参照すると、棚(330)は、容器感知センサー(335)をさらに含むことができる。
容器感知センサー(335)は、棚(330)の上面側に設置され、棚(330)に容器(S2)が置かれた状態であるか否かを把握するように形成される。
容器感知センサー(335)は、棚(330)の上面側に設置され、棚(330)に容器(S2)が置かれた状態であるか否かを把握するように形成される。
パージアセンブリー(400)は、前に説明した供給ユニット(410)と排出ユニット(430)の動作を制御するための制御ユニット(450)とをさらに含むことができる。
制御ユニット(450)は、供給流量計(419)と排出流量計(439)と容器感知センサー(335)から各種情報が入力されて、供給バルブ(417)と排出バルブ(437)の動作を制御することができる。
制御ユニット(450)は、供給流量計(419)と排出流量計(439)と容器感知センサー(335)から各種情報が入力されて、供給バルブ(417)と排出バルブ(437)の動作を制御することができる。
例えば、制御ユニット(450)は、供給流量計(419)で測定された供給流量と排出流量計(439)で測定された排出流量の差に基づいて、供給バルブ(417)と排出バルブ(437)の開閉を制御することができる。
具体的に、前記供給流量から前記排出流量を除くと、容器(S2)内に充填されたガスの量が算出される。
前記充填されたガスの量が基準未満であると、供給バルブ(417)は開放した状態で排出バルブ(437)は閉鎖することができる。
反対に、前記充填されたガスの量が基準を超過すると、供給バルブ(417)は、閉鎖した状態で排出バルブ(437)は開放することができる。
具体的に、前記供給流量から前記排出流量を除くと、容器(S2)内に充填されたガスの量が算出される。
前記充填されたガスの量が基準未満であると、供給バルブ(417)は開放した状態で排出バルブ(437)は閉鎖することができる。
反対に、前記充填されたガスの量が基準を超過すると、供給バルブ(417)は、閉鎖した状態で排出バルブ(437)は開放することができる。
また、制御ユニット(450)は、容器感知センサー(335)の感知結果に基づいて、供給バルブ(417)及び/または排出バルブ(437)の開閉を制御することができる。
具体的に、容器感知センサー(335)が容器(S2)が棚(330)上に存在すると感知した場合に、供給バルブ(417)を開放することができる。
制御ユニット(450)は、供給バルブ(417)の開放を制御した後に一定時間が経って容器(S2)内に前記ガスが一定量が充填されると、排出バルブ(437)の開放を制御することができる。
具体的に、容器感知センサー(335)が容器(S2)が棚(330)上に存在すると感知した場合に、供給バルブ(417)を開放することができる。
制御ユニット(450)は、供給バルブ(417)の開放を制御した後に一定時間が経って容器(S2)内に前記ガスが一定量が充填されると、排出バルブ(437)の開放を制御することができる。
前記のようなウェハパージ可能な天井保管装置は、上記で説明した各実施例の構成と作動方式に限定されるものではない。
前記各実施例は、各実施例の全部または一部が選択的に組み合されて多様な変形が成されるように構成することもできる。
前記各実施例は、各実施例の全部または一部が選択的に組み合されて多様な変形が成されるように構成することもできる。
100:レール
200:ビークル
300:保管系
310:本体
330:棚
331:供給ノズル
333:排出ノズル
400:パージアセンブリー
410:供給ユニット
411:メイン配管
413:サブ配管
417:供給バルブ
419:供給流量計
430:排出ユニット
431:メイン配管
433:サブ配管
437:排出バルブ
439:排出流量計
450:制御ユニット
200:ビークル
300:保管系
310:本体
330:棚
331:供給ノズル
333:排出ノズル
400:パージアセンブリー
410:供給ユニット
411:メイン配管
413:サブ配管
417:供給バルブ
419:供給流量計
430:排出ユニット
431:メイン配管
433:サブ配管
437:排出バルブ
439:排出流量計
450:制御ユニット
Claims (14)
- ビークルを案内するために天井に設置されるように形成されるレールと、
前記天井に設置されるように形成されてウェハを内部に収容する容器を前記ビークルから受け取って保管するように形成されて前記容器の内部と連通するように形成される供給ノズル及び排出ノズルを具備する保管系と、
前記供給ノズルを通じて前記容器と連通して前記ウェハのパージに使用されるガスを供給する供給ユニットと、前記排出ノズルを通じて前記容器と連通して前記ウェハのパージに使用されたガスを回収タンクに回収する排出ユニットを備えるパージアセンブリーとを含む、ウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記保管系は、
本体と、
前記本体に設置されて前記容器を支持するように形成される棚と、
前記本体に設置されて前記本体が天井に締結されるように形成される締結ユニットとを含む、請求項1に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記本体は、
前記棚が設置される底フレームと、
前記底フレームの両端部に結合してそれぞれの自由端には前記締結ユニットが設置される一対の側壁フレームとを含む、請求項2に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記供給ノズル及び排出ノズルは、前記棚に設置され、
前記供給ユニット及び排出ユニットは、それぞれ、前記レールに沿って延長形成されて前記ガスが流動するように形成されるメイン配管と、
前記メイン配管に連通して前記供給ノズルまたは排出ノズルに繋がれるサブ配管とを含む、請求項2に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記サブ配管は、
前記メイン配管に連通する第1のサブ配管と、
前記第1のサブ配管と前記供給ノズルまたは排出ノズルとを連結して前記第1のサブ配管より小さな流動断面積を有する第2のサブ配管とを含む、請求項4に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記供給ユニットは、
前記供給ユニットの第2のサブ配管に設置されて前記供給ユニットの第2のサブ配管を開閉するように形成される供給バルブと、
前記供給バルブと供給ノズルとの間に位置するように前記供給ユニットの第2のサブ配管に設置されて前記棚に流動するガスの流量を測定するように形成される供給流量計とをさらに含む、請求項5に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記供給ユニットは、
前記供給流量計と前記棚の供給ノズルとの間に位置するように前記供給ユニットの第2のサブ配管に設置されるガスフィルターをさらに含む、請求項6に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記排出ユニットは、
前記排出ユニットの第2のサブ配管に設置されて前記排出ユニットの第2のサブ配管を開閉するように形成される排出バルブと、
前記排出バルブと排出ノズルとの間に位置するように前記排出ユニットの第2のサブ配管に設置されて前記棚から外れるように流動するガスの流量を測定するように形成される排出流量計とをさらに含む、請求項6に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記パージアセンブリーは、
前記供給バルブ及び排出バルブと繋がれて前記供給バルブ及び排出バルブそれぞれの開閉を制御する制御ユニットをさらに含む、請求項8に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記制御ユニットは、前記供給流量計で測定された供給流量と前記排出流量計で測定された排出流量の差に基づいて前記供給バルブまたは排出バルブを開閉するように形成される、請求項9に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。
- 前記棚は、前記容器の存在を感知する容器感知センサーをさらに含み、
前記制御ユニットは、前記容器感知センサーの感知結果に基づいて前記供給バルブまたは排出バルブを開閉するように形成される、請求項9に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 天井に設置されるレールと、
前記レールに沿って移動するように形成されてウェハを内部に収容する容器を積載するように形成されるビークルと、
前記レール横に位置するように前記天井に設置されて前記ビークルから前記容器を受け取って保管するように形成されて前記容器の内部と連通するように形成される供給ノズル及び排出ノズルを具備する複数の保管系と、
前記供給ノズルを通じて前記容器と連通して前記ウェハのパージに使用するガスを供給する供給ユニットと、前記排出ノズルを通じて前記容器と連通して前記ウェハのパージに使用されたガスを回収タンクに回収する排出ユニットとを具備するパージアセンブリーを含み、
前記供給ユニットと排出ユニットは、それぞれ、前記レールに設置されて前記レールの延長方向に沿って延長されるメイン配管とを含む、ウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記保管系は、
底フレームと、
前記底フレームの両端部に結合し、前記底フレームと天井との間に位置するように形成される一対の側壁フレームと、
前記容器を支持するように底フレームに設置されて前記供給ノズル及び排出ノズルが設置される棚とを含む、請求項12に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。 - 前記供給ユニットは、前記ガスの供給を開始または遮断するように形成される供給バルブを具備し、
前記排出ユニットは、前記ガスの排出を開始または遮断するように形成される排出バルブを具備し、
前記パージアセンブリーは、前記容器の内部にガス量に基づいて前記供給バルブまたは排出バルブの作動を制御する制御ユニットをさらに含む、請求項13に記載のウェハパージ可能な天井保管装置。
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