JP2015530587A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015530587A5 JP2015530587A5 JP2015534420A JP2015534420A JP2015530587A5 JP 2015530587 A5 JP2015530587 A5 JP 2015530587A5 JP 2015534420 A JP2015534420 A JP 2015534420A JP 2015534420 A JP2015534420 A JP 2015534420A JP 2015530587 A5 JP2015530587 A5 JP 2015530587A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical module
- optical
- differential interferometer
- measurement
- axis differential
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 60
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 20
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 9
- 230000001427 coherent Effects 0.000 claims 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 1
Description
一実施の形態では、前記第1のアライメント体は、テーパ状のくさびを有する。同様に、一実施の形態では、前記第2のアライメント体は、テーパ状のくさびを有する。両実施の形態について、特に、硬化された接着剤と組み合わせて、これは、丈夫で十分にアライメントされた微分干渉計の構成を与える。
Claims (20)
- 第1の反射面(21,321)と第2の反射面(81,381)との間の移動と回転との少なくとも一方を測定するための多軸微分干渉計(1)であって、
前記測定は、少なくとも3対のビームを使用して実行され、
各対は、前記第1の反射面(21,321)に射出される測定ビーム(Mb)と、前記第2の反射面(81,381)に射出される基準ビーム(Rb)とによって形成され、
干渉計(1)は、第1の光学モジュール(20)と、第2の光学モジュール(40)と、第3の光学モジュール(60)とを具備し、各光学モジュール(20,40,60)は、それぞれのコヒーレントビームを受光して、これらから前記3対の1つを生成するように構成され、
前記光学モジュール(20,40,60)の各々は、
i)それぞれのコヒーレントビームを前記測定ビーム(Mb)及び対応する前記基準ビーム(Rb)に分割するためのビームスプリッタ(301,401)と、
ii)前記第1の反射面(21,321)によって反射された前記測定ビーム(Mb)を、前記第2の反射面(81,381)によって反射されたその関連する基準ビーム(Rb)と結合して対応する結合ビーム(Cb)にするためのビーム結合器(301,401)と、
iii)前記結合ビーム(Cb)を受光するためのビーム受光器(305,306,307,308,309,310,311,408)とを具備し、
前記光学モジュール(20,40,60)は、横並びスタックを形成するようにスタックで配置され、これにより、多軸微分干渉計は、微分干渉計スタックモジュールを形成し、
前記3つの光学モジュール(20,40,60)は、前記測定ビーム(Mb)を非同一平面上に、かつ平行に射出するように配置されている多軸微分干渉計(1)。 - 前記光学モジュール(20,40,60)は、同じ形態を有する請求項1に記載の多軸微分干渉計(1)。
- 全ての光学モジュール(20,40,60)が、前記光学モジュールの各々が前記測定ビームを通過させるための開口と前記基準ビームを通過させるための開口とを有するように非対称であるように向けられたこれらのそれぞれの開口(121,122,141,142,161,162)を有し、
各光学モジュール(20,40,60)内で、前記開口は、線の上に配置され、前記開口の各々は、前記線に沿った前記光学モジュールのハウジングの最も近いそれぞれのエッジから異なる距離(d5,d6)で配置され、
前記第1の光学モジュール(20)及び前記第3の光学モジュール(60)は、同じ回転向きで微分干渉計に配置され、前記第2の光学モジュール(40)は、前記向きに対して180度回転され、前記開口を含む面に平行な平面に配置されている請求項1又は2に記載の多軸微分干渉計(1)。 - 前記第1の光学モジュール及び前記第3の光学モジュールは、同一の構造であり、
前記第2の光学モジュールは、異なる構造であり、
構造の差は、各光学モジュールの前記基準ビーム及び対応する前記測定ビームを射出するための開口間の距離で規定され、この距離は、同一の構造の前記第1の光学モジュール及び前記第3の光学モジュールに対しては等しく、前記第2の光学モジュールに対しては異なる請求項1に記載の多軸微分干渉計(1)。 - 各光学モジュールの前記ビームスプリッタは、単一のコヒーレントビームを対応する測定及び基準ビームに分割するための寸法を有する請求項1ないし4のいずれか1に記載の多軸微分干渉計(1)。
- 前記光学モジュール(20,40,60)の前記ビーム受光器は、各々、
前記結合ビーム(Cb)を第1の分割ビームと第2の分割ビームとに分割するための無偏光ビームスプリッタ(305)を具備し、各分割ビームは、前記基準ビーム(Rb)と前記測定ビーム(Mb)との成分を含み、
前記第1の分割ビームを、第1の偏光を有する第1の偏光ビームと、第2の偏光を有する第2の偏光ビームとに分割するための第1の偏光ビームスプリッタ(306)と、
前記第2の分割ビームを、第3の偏光を有する第3の偏光ビームと、第4の偏光を有する第4の偏光ビームとに分割するための第2の偏光ビームスプリッタ(307)と、
前記無偏光ビームスプリッタ(305)と前記第1の偏光ビームスプリッタ(306)との間に、又は前記無偏光ビームスプリッタ(305)と前記第2の偏光ビームスプリッタ(307)との間に配置された半波長板(320)と、
前記第1の偏光ビーム、第2の偏光ビーム、第3の偏光ビーム及び第4の偏光ビームのビームパワーをそれぞれ検出するための第1の検出器(308)、第2の検出器(309)、第3の検出器(310)及び第4の検出器(311)とを具備する請求項5に記載の多軸微分干渉計(1)。 - 前記光学モジュールは、互いに取り付けられている請求項1ないし6のいずれか1に記載の多軸微分干渉計。
- 前記第1の光学モジュール(20)と前記第2の光学モジュール(40)との間に配置された第1のアライメント体(80)と、前記第2の光学モジュール(40)と前記第3の光学モジュール(60)との間に配置された第2のアライメント体(81)との少なくとも一方をさらに具備する請求項1ないし7のいずれか1に記載の多軸微分干渉計。
- 前記第1のアライメント体(80)と前記第2のアライメント体(81)との少なくとも一方は、硬化された接着剤と、テーパ状のくさび(183)との少なくとも一方を含む請求項8に記載の多軸微分干渉計(1)。
- 前記基準ビーム(Rb)は、前記測定ビーム(Mb)に対応する形態で射出される請求項1ないし9のいずれか1に記載の多軸微分干渉計(1)。
- 前記測定ビームは、L字形態で射出され、前記測定ビームのうち第1の測定ビーム及び第2の測定ビームが第1の平面に広がり、前記測定ビームのうち前記第2の測定ビーム及び第3の測定ビームが前記第1の平面に垂直な第2の平面に広がり、前記基準ビームは同じ形態で射出される請求項10に記載の多軸微分干渉計。
- 前記光学モジュール(20,40,60)は、これらのそれぞれの基準ビーム(Rb)が同一平面上に射出されるように配置されている請求項1ないし10のいずれか1に記載の多軸微分干渉計(1)。
- 前記光学モジュールの各々は、前記光学モジュールの外面を形成するハウジングを有する請求項1ないし12のいずれか1に記載の多軸微分干渉計(1)。
- 前記第1の光学モジュールの前記ハウジングは、前記第2の光学モジュールの前記ハウジングの第1の平らな側面に面している平らな側面を有し、
前記第2の光学モジュールの前記ハウジングは、前記第1の平らな側面の反対側の、前記第3の光学モジュールの前記ハウジングの平らな側面に面している第2の平らな側面を有する請求項13に記載の多軸微分干渉計(1)。 - 近隣の光学モジュールの側面は、前記光学モジュールがスタックで配置されたときに互いに適合して形成されるように、突出部及び対応する切り欠きを有する請求項13に記載の多軸微分干渉計(1)。
- 前記光学モジュールの前記ハウジングは、ほぼ等しい外寸と形状との少なくとも一方を有する請求項13ないし15のいずれか1に記載の多軸微分干渉計(1)。
- 前記測定ビーム及び前記基準ビームは、これらビームを平行に向けるように与えられる偏光スプリッタ(301)とプリズム(302)とを使用して生成され、各光学モジュールは、光学素子(301,302,303;305,306,307)が装着される平らな面(337)が設けられたハウジング(323;123;143;163;23;43;63)を有し、前記ハウジングの各々は、直方体形状であることを特徴とする請求項1ないし16のいずれか1に記載の多軸微分干渉計(1)。
- フレーム(4)と、
前記フレーム(4)に装着され、ターゲット上に投影するための光学カラム(36)と、
前記光学カラム(36)に対して前記ターゲットを移動するためのターゲットキャリア(66)とを具備し、
前記ターゲットキャリア(66)には、第1の反射面(21)が設けられ、前記光学カラム(36)には、第2の反射面(81)が設けられ、
前記第1の反射面(21)と前記第2の反射面(81)との間の相対移動と回転との少なくとも一方を測定するための請求項1ないし17のいずれか1に記載の微分干渉計(1)を具備するリソグラフィシステム。 - 多軸微分干渉計(1)を組み立てる方法であって、
第1の光学モジュール(20)と、第2の光学モジュール(40)と、第3の光学モジュール(60)とを与える工程を具備し、前記光学モジュールの各々は、
i)それぞれのコヒーレントビームを測定ビーム(Mb)及び対応する基準ビーム(Rb)に分割するためのビームスプリッタ(301,401)と、
ii)複数の反射面のうち一方の反射面(21,321)によって反射された測定ビーム(Mb)を、複数の反射面のうち他方の反射面(81,381)によって反射されたその関連する基準ビーム(Rb)と結合して対応する結合ビーム(Cb)にするためのビーム結合器(301,401)と、
iii)前記結合ビーム(Cb)を受光するためのビーム受光器(305,306,307,308,309,310,311,408)とを具備し、
この方法は、さらに、
前記3つの対応する測定ビーム(Mb)をほぼ平行かつ同一平面上に射出するために前記光学モジュール(20,40,60)をスタックで配置する工程と、
前記第1の光学モジュール(20)と前記第2の光学モジュール(40)との間に接着剤(80)を塗布し、前記接着剤(80)が硬化する前に前記第1の光学モジュール(20)と前記第2の光学モジュール(40)とを互いにアライメントさせる工程とをさらに具備する方法。 - 前記第2の光学モジュール(40)と前記第3の光学モジュール(60)との間にさらなる接着剤(81)を塗布し、前記さらなる接着剤(81)が硬化する前に前記第2の光学モジュール(40)と前記第3の光学モジュール(60)とを互いにアライメントさせる工程をさらに具備する請求項19に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261706171P | 2012-09-27 | 2012-09-27 | |
US61/706,171 | 2012-09-27 | ||
PCT/NL2013/050691 WO2014051431A1 (en) | 2012-09-27 | 2013-09-26 | Multi-axis differential interferometer |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015530587A JP2015530587A (ja) | 2015-10-15 |
JP2015530587A5 true JP2015530587A5 (ja) | 2016-11-17 |
JP6181189B2 JP6181189B2 (ja) | 2017-08-16 |
Family
ID=49322668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015534420A Active JP6181189B2 (ja) | 2012-09-27 | 2013-09-26 | 多軸微分干渉計 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9551563B2 (ja) |
EP (1) | EP2901216B1 (ja) |
JP (1) | JP6181189B2 (ja) |
NL (1) | NL2011504C2 (ja) |
TW (1) | TW201413217A (ja) |
WO (1) | WO2014051431A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10260941B2 (en) * | 2016-10-04 | 2019-04-16 | Precitec Optronik Gmbh | Chromatic confocal distance sensor |
WO2019068601A1 (en) * | 2017-10-04 | 2019-04-11 | Asml Netherlands B.V. | INTERFEROMETRIC PLATE PLATFORM POSITIONING APPARATUS |
CN109738160B (zh) * | 2018-12-29 | 2020-12-29 | 湖北航天技术研究院总体设计所 | 基于激光通信系统的多光轴一致性测试装置及方法 |
US11761750B1 (en) | 2022-02-25 | 2023-09-19 | Utah State University Space Dynamics Laboratory | Multi-environment Rayleigh interferometer |
Family Cites Families (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4504147A (en) | 1981-07-28 | 1985-03-12 | Huang Cheng Chung | Angular alignment sensor |
JPS60203804A (ja) | 1984-03-29 | 1985-10-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真直度測定装置 |
US4891526A (en) | 1986-12-29 | 1990-01-02 | Hughes Aircraft Company | X-Y-θ-Z positioning stage |
US5719702A (en) | 1993-08-03 | 1998-02-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Polarization-balanced beamsplitter |
US6122036A (en) | 1993-10-21 | 2000-09-19 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
JP3413945B2 (ja) | 1994-01-28 | 2003-06-09 | 株式会社ニコン | 縞計数変位干渉計 |
JPH08210814A (ja) | 1994-10-12 | 1996-08-20 | Canon Inc | 光学式変位測定装置 |
JP3315540B2 (ja) | 1994-10-28 | 2002-08-19 | キヤノン株式会社 | 位置計測装置、位置合わせ装置、露光装置およびデバイスの製造方法 |
JP3739121B2 (ja) | 1995-10-30 | 2006-01-25 | 株式会社ソキア | レーザ測長機 |
US6020963A (en) | 1996-06-04 | 2000-02-01 | Northeastern University | Optical quadrature Interferometer |
US5880838A (en) * | 1996-06-05 | 1999-03-09 | California Institute Of California | System and method for optically measuring a structure |
US6507326B2 (en) | 1996-07-10 | 2003-01-14 | Nikon Corporation | Color-projection apparatus operable to project a high-contrast image with minimal change in the state or phase of polarization of light flux |
JP2879325B2 (ja) | 1996-07-29 | 1999-04-05 | 新菱冷熱工業株式会社 | レーザ光を用いた配管組立治具 |
US5949546A (en) | 1997-05-14 | 1999-09-07 | Ahead Optoelectronics, Inc. | Interference apparatus for measuring absolute and differential motions of same or different testing surface |
KR100228285B1 (ko) | 1997-07-23 | 1999-11-01 | 윤종용 | 액정 표시 장치의 액정 물질 주입 장치 및 그 방법 |
WO1999016113A1 (fr) | 1997-09-19 | 1999-04-01 | Nikon Corporation | Platine, dispositif d'alignement de balayage et procede d'exposition de balayage, et dispositif fabrique par ce moyen |
US6020964A (en) | 1997-12-02 | 2000-02-01 | Asm Lithography B.V. | Interferometer system and lithograph apparatus including an interferometer system |
JPH11265847A (ja) | 1998-01-16 | 1999-09-28 | Canon Inc | 位置検出方法及び位置検出装置 |
JPH11281319A (ja) | 1998-03-30 | 1999-10-15 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 光学素子の位置設定装置、及び光学素子の位置設定方法 |
JP4109765B2 (ja) | 1998-09-14 | 2008-07-02 | キヤノン株式会社 | 結像性能評価方法 |
US7139080B2 (en) | 1998-09-18 | 2006-11-21 | Zygo Corporation | Interferometry systems involving a dynamic beam-steering assembly |
WO2000022376A1 (fr) | 1998-10-14 | 2000-04-20 | Nikon Corporation | Procede et dispositif de mesure de forme, procede de commande de position, dispositif a etage, appareil d'exposition et procede de production dudit appareil d'exposition et dispositif et procede de fabrication du dispositif |
JP3796363B2 (ja) | 1998-10-30 | 2006-07-12 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置及びそれを用いた露光装置 |
US6550919B1 (en) | 1999-03-26 | 2003-04-22 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Spectral light division and recombination configuration as well as process for the spectrally selective modulation of light |
JP2002141393A (ja) | 2000-07-18 | 2002-05-17 | Nikon Corp | 干渉計ボックス |
US6727992B2 (en) | 2001-07-06 | 2004-04-27 | Zygo Corporation | Method and apparatus to reduce effects of sheared wavefronts on interferometric phase measurements |
WO2003033199A1 (en) | 2001-10-19 | 2003-04-24 | U.C. Laser Ltd. | Method for improved wafer alignment |
AU2002360927A1 (en) | 2002-01-24 | 2003-09-02 | Jenoptic Laser, Optik, Systeme Gmbh | Method for constructing an optical beam guide system |
US6757066B2 (en) * | 2002-01-28 | 2004-06-29 | Zygo Corporation | Multiple degree of freedom interferometer |
DE10206061A1 (de) | 2002-02-08 | 2003-09-04 | Carl Zeiss Semiconductor Mfg S | Polarisationsoptimiertes Beleuchtungssystem |
GB0222970D0 (en) | 2002-10-04 | 2002-11-13 | Renishaw Plc | Vacuum compatible laser interferometer |
EP1590625A4 (en) * | 2003-01-15 | 2007-08-01 | Inlight Solutions Inc | INTERFEROMETER |
JP2004228382A (ja) | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Nikon Corp | 露光装置 |
US7224466B2 (en) * | 2003-02-05 | 2007-05-29 | Agilent Technologies, Inc. | Compact multi-axis interferometer |
JP2005057222A (ja) | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Canon Inc | マーク検出装置、マーク検出方法、マーク検出プログラム、露光装置、デバイスの製造方法、及び、デバイス |
DE102004023030B4 (de) | 2004-05-06 | 2012-12-27 | SIOS Meßtechnik GmbH | Mehrfachstrahlteiler |
US7212290B2 (en) * | 2004-07-28 | 2007-05-01 | Agilent Technologies, Inc. | Differential interferometers creating desired beam patterns |
JP4465451B2 (ja) | 2004-12-15 | 2010-05-19 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光干渉計の周期誤差低減方法および装置 |
US7298492B2 (en) | 2004-12-29 | 2007-11-20 | Honeywell International Inc. | Method and system for on-line measurement of thickness and birefringence of thin plastic films |
JP5149486B2 (ja) | 2005-05-18 | 2013-02-20 | 株式会社ミツトヨ | 干渉計、形状測定方法 |
US7355719B2 (en) | 2005-08-16 | 2008-04-08 | Agilent Technologies, Inc. | Interferometer for measuring perpendicular translations |
US7397039B2 (en) | 2005-09-30 | 2008-07-08 | Applied Materials, Inc. | Real-time compensation of mechanical position error in pattern generation or imaging applications |
JP4631655B2 (ja) | 2005-10-31 | 2011-02-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光伝送モジュール、光伝送モジュールの製造方法、光インターコネクション回路及び電子機器 |
US7379187B2 (en) | 2006-03-31 | 2008-05-27 | Mitutoyo Corporation | Detector configuration for interferometric distance measurement |
JP4191201B2 (ja) | 2006-04-25 | 2008-12-03 | アンリツ株式会社 | 三次元形状測定装置 |
DE102007017630B4 (de) | 2006-05-16 | 2009-08-20 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Verfahren zum Steigern der Messgenauigkeit beim Bestimmen der Koordinaten von Strukturen auf einem Substrat |
JP5613893B2 (ja) | 2006-05-22 | 2014-10-29 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 作業装置におけるテーブル位置決め装置および位置決め方法。 |
JP2010501999A (ja) | 2006-12-08 | 2010-01-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP4264667B2 (ja) | 2007-02-16 | 2009-05-20 | ソニー株式会社 | 振動検出装置 |
JP5523664B2 (ja) | 2007-11-06 | 2014-06-18 | 株式会社ミツトヨ | 干渉計 |
US20090135430A1 (en) | 2007-11-26 | 2009-05-28 | Miao Zhu | Systems and Methods for Reducing Nonlinearity in an Interferometer |
US8711327B2 (en) | 2007-12-14 | 2014-04-29 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US7897942B1 (en) | 2007-12-20 | 2011-03-01 | Kla-Tencor Corporation | Dynamic tracking of wafer motion and distortion during lithography |
KR101785238B1 (ko) | 2008-08-18 | 2017-10-12 | 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. | 하전 입자 빔 리소그래피 시스템 및 타겟 위치 결정 장치 |
US8462349B1 (en) | 2010-07-20 | 2013-06-11 | Science Applications International Corporation | System and method for a self-referencing interferometer |
JP5985605B2 (ja) | 2011-03-30 | 2016-09-06 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | 微分干渉計モジュールを備えたリソグラフィシステム |
-
2013
- 2013-09-26 NL NL2011504A patent/NL2011504C2/en not_active IP Right Cessation
- 2013-09-26 EP EP13774247.4A patent/EP2901216B1/en active Active
- 2013-09-26 JP JP2015534420A patent/JP6181189B2/ja active Active
- 2013-09-26 US US14/431,765 patent/US9551563B2/en active Active
- 2013-09-26 WO PCT/NL2013/050691 patent/WO2014051431A1/en active Application Filing
- 2013-09-27 TW TW102134991A patent/TW201413217A/zh unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7248583B2 (ja) | 移動端末 | |
US10704888B2 (en) | Three-dimensional measurement device | |
US8829420B2 (en) | Two dimensional encoder system and method | |
US10782122B2 (en) | Three-dimensional measurement device | |
JP2015530587A5 (ja) | ||
JP2005338076A (ja) | 偏光操作レトロリフレクタを使用するシステム | |
JP6553967B2 (ja) | 瞬時位相シフト干渉計 | |
JP4729423B2 (ja) | 光学干渉計 | |
US9182681B2 (en) | Method and system for measuring a stacking overlay error by focusing on one of upper and lower layer overlay marks using a differential interference contrast microscope | |
US10598951B2 (en) | Apparatus for generating light having a plurality of wavelengths, method for manufacturing an apparatus, use of a positioning module, method for combining light beams, and apparatus for generating light having a plurality of wavelengths | |
JP2006308594A5 (ja) | ||
JP2015232562A5 (ja) | ||
US20160033257A1 (en) | Interferometer | |
JP2013050448A (ja) | 干渉計方式により間隔測定するための機構 | |
JP2015004673A (ja) | 干渉計 | |
JP2005283585A5 (ja) | ||
JP2007033317A5 (ja) | ||
JP6181189B2 (ja) | 多軸微分干渉計 | |
US20130128273A1 (en) | Optical element and interferometer | |
US8223342B2 (en) | Methods and systems for measuring target movement with an interferometer | |
CN102749187A (zh) | 一种光学薄膜偏振保真度的测量方法 | |
RU2481553C1 (ru) | Устройство для измерения линейных и угловых смещений объекта (варианты) | |
KR102625046B1 (ko) | 듀얼 포트 간섭계 | |
TWI414756B (zh) | Dual grating signal measurement system | |
JP2016170160A (ja) | レーザ干渉計 |