JP5523664B2 - 干渉計 - Google Patents
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- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 claims description 34
- 239000013598 vector Substances 0.000 claims description 24
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 16
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 14
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000001615 p wave Methods 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02083—Interferometers characterised by particular signal processing and presentation
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- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02075—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration of particular errors
- G01B9/02078—Caused by ambiguity
- G01B9/02079—Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals
- G01B9/02081—Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals simultaneous quadrature detection, e.g. by spatial phase shifting
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/45—Multiple detectors for detecting interferometer signals
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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Description
先ず、図1及び図2を参照して、本発明の一実施形態に係る干渉計の構成について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る干渉計の構成を示す概略図であり、図2は、本発明の一実施形態に係る干渉計の受光部と信号処理回路の構成を示す概略図である。
次に、図1を参照して、干渉計における位相差干渉信号生成動作について説明する。図1に示すように、レーザ光源10は、レーザ光L1を照射する。照射されたレーザ光L1は、偏光ビームスプリッタ21にて、p波レーザ光L2(p)及びs波レーザ光L3(s)に分割される。
次に、図2〜図9を参照して、干渉計における信号処理動作を説明する。図4(a)は、第1〜第4受光素子41a〜41dにより生成された第1〜第4干渉信号Sa〜Sdの位相と強度の関係を示すベクトル図である。また、図4(b)は3相信号生成部44において生成された信号の位相と強度の関係を示す。図4(c)は2相信号生成部45において生成された信号の位相と強度の関係を示す。なお、ここでは、各第1〜第4干渉信号Sa〜Sdに位相のずれは生じていないものとして説明・図示する。
Claims (3)
- 光源と、
前記光源から照射された照射光を、第1反射面に照射する第1光、及び第2反射面に照射する第2光に分割すると共に、前記第1反射面にて反射した前記第1光、及び前記第2反射面にて反射した前記第2光を合成して合成光とする光波分割合成部と、
前記合成光から、第1の位相を有する第1干渉光、前記第1の位相と180度位相が異なる第2の位相を有する第2干渉光、前記第1の位相と90度位相が異なる第3の位相を有する第3干渉光、及び前記第1の位相と270度位相が異なる第4の位相を有する第4干渉光を生成する多位相干渉光生成部と、
前記第1乃至第4干渉光を受光する受光部と、
受光した前記第1乃至第4干渉光に基づき、第1干渉信号、前記第1干渉信号と180度位相が異なる第2干渉信号、前記第1干渉信号と90度位相が異なる第3干渉信号、及び前記第1干渉信号と270度位相が異なる第4干渉信号を生成する干渉信号生成部と、
前記第1乃至第4干渉信号の差に基づいて90度位相差3相信号を生成する3相信号生成部と、
前記90度位相差3相信号をベクトル合成することにより90度位相差2相信号を生成する2相信号生成部と、
前記第1干渉信号の利得を調整して前記3相信号生成部に供給する第1利得調整部と、
前記第1利得調整部とは別に前記第2干渉信号の利得を調整して前記第3信号生成部に供給する第2利得調整部と
を備えることを特徴とする干渉計。 - 前記3相信号生成部は、
前記第1干渉信号と前記第2干渉信号の差である第1差動信号を生成する第1差動信号生成部と、
前記第3干渉信号と前記第4干渉信号の差である第2差動信号を生成する第2差動信号生成部と、
前記第2差動信号を反転させた反転差動信号を生成する反転差動信号生成部と
を備えることを特徴とする請求項1記載の干渉計。 - 前記第3干渉信号の利得を調整して前記3相信号生成部に供給する第3利得調整部と、
前記第3利得調整部とは別に前記第4干渉信号の利得を調整して前記第3信号生成部に供給する第4利得調整部と
を備えることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の干渉計。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007288524A JP5523664B2 (ja) | 2007-11-06 | 2007-11-06 | 干渉計 |
US12/265,208 US8018600B2 (en) | 2007-11-06 | 2008-11-05 | Interferometer for measuring displacement information of an object |
CN200810172680.XA CN101430190B (zh) | 2007-11-06 | 2008-11-06 | 干涉仪 |
EP08168487.0A EP2063218B1 (en) | 2007-11-06 | 2008-11-06 | Interferometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007288524A JP5523664B2 (ja) | 2007-11-06 | 2007-11-06 | 干渉計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009115596A JP2009115596A (ja) | 2009-05-28 |
JP5523664B2 true JP5523664B2 (ja) | 2014-06-18 |
Family
ID=40395252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007288524A Active JP5523664B2 (ja) | 2007-11-06 | 2007-11-06 | 干渉計 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8018600B2 (ja) |
EP (1) | EP2063218B1 (ja) |
JP (1) | JP5523664B2 (ja) |
CN (1) | CN101430190B (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5523664B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2014-06-18 | 株式会社ミツトヨ | 干渉計 |
JP5713545B2 (ja) * | 2009-08-05 | 2015-05-07 | 株式会社ミツトヨ | 斜入射干渉計 |
JP2011038829A (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-24 | Topcon Corp | 干渉顕微鏡及び測定装置 |
CN101738160B (zh) * | 2009-12-25 | 2011-07-13 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 双光源正弦相位调制位移测量干涉仪 |
US8179534B2 (en) * | 2010-08-11 | 2012-05-15 | Mitutoyo Corporation | Fixed wavelength absolute distance interferometer |
KR101804610B1 (ko) | 2011-03-30 | 2017-12-04 | 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. | 차분 간섭계 모듈을 구비한 리소그래피 시스템 |
JP5930623B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2016-06-08 | 株式会社ミツトヨ | 変位量測定装置、及びオフセット補正方法 |
CN102853769B (zh) * | 2012-09-19 | 2015-06-03 | 哈尔滨工业大学 | 高速高分辨率激光外差干涉测量方法与装置 |
CN102853770B (zh) * | 2012-09-19 | 2015-10-07 | 哈尔滨工业大学 | 基于小频差与光束分离的激光外差干涉测量方法与装置 |
WO2014051431A1 (en) | 2012-09-27 | 2014-04-03 | Mapper Lithography Ip B.V. | Multi-axis differential interferometer |
CN103115573B (zh) * | 2013-01-30 | 2015-08-12 | 清华大学 | 位移测量方法 |
KR101514679B1 (ko) * | 2014-04-10 | 2015-04-24 | 한국표준과학연구원 | 상태 변분 원리를 이용한 진동 변위 측정 방법 |
CA3117610A1 (en) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | Alcon Inc. | Optical coherence tomography receiver |
CN109917828B (zh) * | 2019-04-15 | 2021-10-15 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 干涉差动位移法微小力控制系统 |
JP7293078B2 (ja) * | 2019-10-08 | 2023-06-19 | 株式会社ミツトヨ | 解析装置、解析方法、干渉測定システム、およびプログラム |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1979000506A1 (en) * | 1978-01-13 | 1979-08-09 | Nat Res Dev | Interferometer systems |
GB2012450B (en) | 1978-01-13 | 1982-04-21 | Downs M J | Interferometer systems |
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US6934641B2 (en) * | 1999-11-24 | 2005-08-23 | Renishaw Plc | Motion detection and analysis |
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US7315381B2 (en) | 2004-10-26 | 2008-01-01 | Mitutoyo Corporation | Monolithic quadrature detector |
US7292347B2 (en) * | 2005-08-01 | 2007-11-06 | Mitutoyo Corporation | Dual laser high precision interferometer |
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JP5523664B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2014-06-18 | 株式会社ミツトヨ | 干渉計 |
-
2007
- 2007-11-06 JP JP2007288524A patent/JP5523664B2/ja active Active
-
2008
- 2008-11-05 US US12/265,208 patent/US8018600B2/en active Active
- 2008-11-06 EP EP08168487.0A patent/EP2063218B1/en active Active
- 2008-11-06 CN CN200810172680.XA patent/CN101430190B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101430190B (zh) | 2011-05-11 |
EP2063218A1 (en) | 2009-05-27 |
CN101430190A (zh) | 2009-05-13 |
US20090116034A1 (en) | 2009-05-07 |
US8018600B2 (en) | 2011-09-13 |
EP2063218B1 (en) | 2013-08-21 |
JP2009115596A (ja) | 2009-05-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101004 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131105 |
|
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |