JP2015527962A - ドープされたＳｉＯ２スラリーの製造方法、ならびにそのＳｉＯ２スラリーの使用 - Google Patents

ドープされたＳｉＯ２スラリーの製造方法、ならびにそのＳｉＯ２スラリーの使用 Download PDF

Info

Publication number
JP2015527962A
JP2015527962A JP2015519041A JP2015519041A JP2015527962A JP 2015527962 A JP2015527962 A JP 2015527962A JP 2015519041 A JP2015519041 A JP 2015519041A JP 2015519041 A JP2015519041 A JP 2015519041A JP 2015527962 A JP2015527962 A JP 2015527962A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sio
spray
suspension
slurry
doped
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015519041A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015527962A5 (ja
JP6211076B2 (ja
Inventor
ズーフ マリオ
ズーフ マリオ
シェッツ ゲアハート
シェッツ ゲアハート
ラングナー アンドレアス
ラングナー アンドレアス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Original Assignee
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG filed Critical Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Publication of JP2015527962A publication Critical patent/JP2015527962A/ja
Publication of JP2015527962A5 publication Critical patent/JP2015527962A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6211076B2 publication Critical patent/JP6211076B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/77—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
    • C09K11/77064—Aluminosilicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00—Other methods of shaping glass
    • C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
    • C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00—Other methods of shaping glass
    • C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00—Compositions for glass with special properties
    • C03C4/12—Compositions for glass with special properties for luminescent glass; for fluorescent glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
    • C09K11/025—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • C03B2201/03—Impurity concentration specified
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/32—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/34—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/34—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers
    • C03B2201/36—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers doped with rare earth metals and aluminium, e.g. Er-Al co-doped
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/34—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals
    • C03C2201/3488—Ytterbium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/34—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals
    • C03C2201/36—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals containing rare earth metals and aluminium, e.g. Er-Al co-doped
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • C03C3/061—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz by leaching a soluble phase and consolidating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

本発明は、ＳｉＯ2懸濁液と少なくとも１種のドープ溶液とを相互作用させる、ドープされたＳｉＯ2スラリーの製造方法であって、ここで、前記ＳｉＯ2懸濁液および／または前記ドープ溶液が噴霧物として相互に作用し、その噴霧物の平均液滴径が１０μｍ〜１００μｍの範囲にある前記製造方法に関する。本発明は、さらに、前記噴霧方法を用いてドープされたＳｉＯ2スラリーの、ドープされた石英ガラスの製造、特にレーザー活性石英ガラスの製造のための使用に関する。

Description

本発明は、ドープされたＳｉＯ2スラリーの製造方法であって、ＳｉＯ2粒子を水性液体中に含む懸濁液に、少なくとも１種のドープ溶液を連続して添加して、前記ドープされたＳｉＯ2スラリーを形成する前記方法に関する。
さらに、本発明は、前記ドープされたＳｉＯ2スラリーの使用に関する。
ＤＥ１０２００４００６０１７Ａ１には、レーザー活性石英ガラスを製造するためのドープされたＳｉＯ2スラリーが記載されている。前記石英ガラスを希土類金属酸化物または遷移金属酸化物でドーピングするために、高純度の、均一にドープされたＳｉＯ2顆粒を使用する「粉末法（Ｐｕｌｖｅｒ−Ｒｏｕｔｅ）」が提案されている。ここで、ＳｉＯ2ナノ粒子とドーパントとを含む水性懸濁液から出発される。前記ドーパントの場合の出発化合物は、水溶性の水和化合物のＡｌＣｌ3・６Ｈ2ＯおよびＮｄＣｌ3・６Ｈ2Ｏの形態で添加される。
ＤＥ１０２００７０４５０９７Ａ１に記載の相応の方法では、ドーパントは、溶解された形態で、およびドーパント水溶液を時間で制御して滴加して、絶えず撹拌ながら、均一化されたアルカリ性のＳｉＯ2懸濁液に供給される。
しかし、滴下ドーピングの技術は、スラリーが動かされる場合も、局所的にしか作用しない、それというのは、前記ドープ溶液のイオンが、前記スラリーのＳｉＯ2粒子にきわめて迅速に結合されるからである。したがって、前記スラリー中のＳｉＯ2粒子のドーパント濃度は、局所的に異なっていることがあり、このことは、前記スラリーをさらに加工して焼結石英ガラスにした後に、この石英ガラス中の相応の不均一性により明らかである。
したがって、本発明の基礎をなす課題は、最適なドーパント分布を保証する、ドープされたＳｉＯ2スラリーの製造方法を提供することである。
さらに、本発明の基礎をなす課題は、前記ドープされたＳｉＯ2スラリーの好適な使用を提供することである。
前記課題は、前記方法に関して、本発明によれば、生じるドープされたＳｉＯ2スラリーが絶え間なく動かされる間、前記ＳｉＯ2懸濁液および／または前記ドープ溶液が、噴霧物（Ｓｐｒｕｅｈｎｅｂｅｌ）として相互に作用し、その平均液滴径が１０μｍ〜１００μｍの範囲にあることにより解決される。
本発明による方法によって、前記ドープ溶液の微細な分布が、前記ドーププロセスの間に達成される。基本成分である前記ドープ溶液または前記ＳｉＯ2懸濁液は、噴霧物装置を用いて噴霧されるため、１０μｍ〜１００μｍの範囲の平均液滴径を有する小さな液滴が生成される。作業圧力および流量に関しては、噴霧ノズルの調節によって平均液滴径を調節することができる。
水性の霧状物（Ｎｅｂｅｌ）という言葉は、通常、液滴径が１０μｍ〜４０μｍの範囲の場合に用いられる。それと比べて、「標準の」雨滴の大きさは、約６００μｍであるため、ピペットを用いる先行技術による液体の液滴をドーピングする場合、約２〜５ミリメートルの液滴径が予想されうる。
本発明の第一の代替方法では、噴霧物として噴霧されたドープ溶液は、前記ＳｉＯ2懸濁液に向けられ、このＳｉＯ2懸濁液は、この懸濁液側で機械的な撹拌装置を用いて強く撹拌される。したがって、きわめて小さい液滴を有する噴霧物の範囲は、前記ＳｉＯ2懸濁液の比較的大きい表面に広がり、これによって、前記スラリーにおける均一なドーパント分布が達成される。ドープ溶液の損失を最小限に抑えるために、前記ノズルは、前記ＳｉＯ2スラリー表面上を制御して動かされる必要がある。
代替的に、基本成分の前記ＳｉＯ2懸濁液が噴霧されて噴霧物にされ、前記ドープ溶液に吹き付けられてもよい。ここで、前記ドープ溶液は絶え間なく撹拌される。
前記両方の代替方法は、最適なドーパント分布を有するドープされたＳｉＯ2スラリーをもたらす。
前記課題は、上述の別形の他に、前記ＳｉＯ2懸濁液も前記ドープ溶液も噴霧物として相互に作用し、ここで、この両方の噴霧物が、１０μｍ〜１００μｍの範囲の平均液滴径を有することによって解決することもできる。
本発明による方法によって、前記ＳｉＯ2懸濁液の液滴と前記ドープ溶液の液滴とが特に強く相互に作用する、それというのは、前記噴霧物中の前記両方の成分の表面積が最大になるからである。前記噴霧物中では、前記両方の成分は最適に混ざり合っており、ここで、最小液滴は集合して比較的大きな液滴になり、ドープされたＳｉＯ2スラリーとして受容器の下部に集まる。
言及された、前記液滴同士の相互作用は、液滴の大きさが小さければ小さいほど強くなる。このことから、前記噴霧物の平均液滴径が、１０μｍ〜４０μｍの範囲にある場合が特に適していることが分かった。
前記ＳｉＯ2懸濁液の噴霧物と前記少なくとも１種のドープ溶液の噴霧物との混合は、まだ霧状物の段階で、つまり、前記噴霧物の液滴が、生じるドープされたＳｉＯ2スラリーの表面と合する前に行われるのが好ましい。
本発明のさらなる有利な実施態様は、前記ＳｉＯ2懸濁液および／または前記ドープ溶液が、複数の噴霧ノズルを使用して噴霧されて噴霧物にされることにある。
使用する噴霧ノズルが１つだけではないことによって、効率的な作業方法が保証される。さらに、複数の噴霧ノズルは、流量、作業圧力、および空間方向に関して異なる方法で調節されてよく、これによって、前記噴霧物の液滴同士およびそれぞれ噴霧されない成分との接触および相互作用が最適化される。
さらに、前記噴霧物の生成において、０．５ｂａｒ〜１０ｂａｒの範囲、好ましくは５ｂａｒ未満の範囲の作業圧力で実施される場合が適していることが分かった。さらに、前記噴霧物の生成において、０．２ｌ／ｈ〜４．０ｌ／ｈの範囲の流量で、好ましくは０．５ｌ／ｈ未満の流量で実施するのが有利である。
作業圧力および流量の両方のパラメーターは、主として、液滴の大きさのスペクトルおよび前記方法全体の効率を決定づけるものである。
さらに、均一なドーパント分布に関して、前記ＳｉＯ2懸濁液または前記ドープ溶液または前記少なくとも部分的にドープされたＳｉＯ2スラリーが、１つまたは複数のプロペラ撹拌機を使用することによって動かされる場合が有利であることが分かった。
前記措置によって、さらに均一化され、および場合によって、ドープされたＳｉＯ2粒子のＳｉＯ2スラリー中での沈殿が阻止される。
前記ＳｉＯ2懸濁液からの最適な噴霧物生成を保証するため、前記ＳｉＯ2懸濁液および／または前記ドープ溶液を、前記噴霧物を生成する前にろ過するのが好ましい。
ろ過することによって、噴霧物生成において妨害または別の不均一性をもたらしうる、場合によっては起こり得る比較的粗いＳｉＯ2粒子が分離される。例えば、前記噴霧ノズルは、粒子が過度に大きい場合、詰まることがあるか、または所望の液滴径を調節することができない。前記ドープ溶液中にも、製造に伴って、ろ過により除去される比較的粗い不純物が存在することがある。
特に均一のＳｉＯ2懸濁液をベース材料として導入するためのさらなる好ましい措置は、前記ＳｉＯ2懸濁液のｐＨ値を１２より大きくなるように調節することにある。これは、例えば、濃縮アンモニア溶液を添加することにより達成される。それにより、前記ＳｉＯ2粒子の周りの電位が強まり、これによって、前記粒子が互いに反発して、沈降傾向が弱まる。
本発明による方法による、ドープされたＳｉＯ2スラリーの主要適用分野は、ドープされた石英ガラス、特にレーザー活性石英ガラスの製造である。これには、ホスト材料の石英ガラス中で、レーザー照射の強化をもたらすドーパントが含まれている。これは、一般に、希土類カチオン（ランタノイド）および／またはいわゆる遷移金属のカチオンである。多くの場合、さらなるドーパント（例えば、アルミニウム、リン、およびホウ素の酸化物）が、石英ガラスの粘度および屈折率を調節するために導入される。ここで、失透および小こぶ形成（Ｋｎｏｅｔｃｈｅｎｂｉｌｄｕｎｇ）を回避して、それと同時に現れる、強化されるレーザー照射の可能な限り高い強化能力（Ｖｅｒｓｔａｅｒｋｕｎｇｓｌｅｉｓｔｕｎｇ）および少ない減衰（Ｄａｅｍｐｆｕｎｇ）を達成するために、ドーパント分布の均一性は特に高く要求される。レーザー活性石英ガラスは、いわゆるレーザーロッド、ファイバーレーザー、またはディスクレーザーで使用することができる。
さらに、前記ドープされたＳｉＯ2スラリーは、さらにまた、特別な石英ガラスるつぼ、フィルターガラス、シンチレーション材料、蛍光石英ガラス、粘度または屈折率を調節された石英ガラス、偏波保持の光ファイバー（光伝送路）のための応力ロッド（Ｓｔｒｅｓｓｓｔａｅｂｅ）の製造、ならびに、ドーパントそれぞれの作用に基づく、特別な磁気的または電気的な特性を有する石英ガラス材料の製造に好適である石英ガラス顆粒の製造で使用される。
実施例
以下において、本発明を実施例に基づいて詳しく説明する。
例１
Ｙｂ2Ｏ3およびＡｌ2Ｏ3でドープされた石英ガラスを製造するため、超純水中にＳｉＯ2アグリゲートの形態として散在しているＳｉＯ2粒子の懸濁液を製造する。このＳｉＯ2アグリゲートは、平均粒径が１０μｍであり、５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の粒径を有するＳｉＯ2一次粒子からなっている。濃縮アンモニア溶液を添加することによって、ｐＨ値を１４に調節する。このアルカリ性懸濁液の固体含有量は、１６質量％である。
前記均一化されたアルカリ性懸濁液に、ドーパントを、溶解された形態で、およびＡｌＣｌ3およびＹｂＣｌ3（モル比６：１）のドープ水溶液の噴霧物を添加することにより供給した。前記ＳｉＯ2懸濁液は、その間、プロペラ撹拌機で強く撹拌する。噴霧物を生成するため、前記ドーパント溶液を、噴霧ノズルを用いて噴霧し、ここで、作業圧力２ｂａｒおよび流量０．８ｌ／ｈを調節する。このようにして生成された噴霧物は、１０μｍ〜４０μｍの平均径を有する液滴を含んでいる。この方法により、最適に均一にドープされたＳｉＯ2スラリーが得られることが保証される。
前記懸濁液のｐＨ値が高いため、前記両方のドーパントの水酸化物がＡｌ（ＯＨ）3およびＹｂ（ＯＨ）3の形態で直ちに混合沈殿する。このようにして、前記懸濁液中で（この懸濁液のＳｉＯ2含有量に対して）Ａｌ2Ｏ3 １モル％およびＹｂ2Ｏ3 ０．２５モル％のドーパント濃度が調節される。
このようにしてドープされたＳｉＯ2スラリーをさらに加工して顆粒にし、この顆粒は、さらにまた、焼結させて石英ガラス材料にして、レーザー活性石英ガラスとして使用される。本発明による噴霧ドーピングに基づく、ドープされたＳｉＯ2スラリーを用いて製造されたドープされた石英ガラスは、先行技術による滴下ドーピングによる場合の不均一性よりもはるかに低い不均一性を示している。したがって、例えば、噴霧ドープされたＳｉＯ2スラリーを出発材料として有する、厚さ１０ｃｍの希土類ドープされた石英ガラス試料を通して、通常の大きさの文字はなおも判読可能である。そうでなければ、ドーパントの不均一な分布に起因する条痕による拡散のため判読は不可能である。
例２
例１に記載の固体含有量１６質量％のアルカリ性ＳｉＯ2懸濁液から、例１のドープ溶液からと同じく噴霧物を生成する。噴霧する前に、このＳｉＯ2懸濁液および前記ドープ溶液から、１５μｍより大きい粗粒子または別の不純物を分離するために、成分をそれぞれ相応のメッシュ幅のプラスチックふるいに流し込んでろ過する。必要であれば、特に前記ＳｉＯ2懸濁液をろ過する場合、プラスチックヘラを用いてふるいの通過が補助されてよい。次に、前記ＳｉＯ2懸濁液を、作業圧力４〜５ｂａｒ、および装入量約２．４ｌ／ｈで噴霧する。ドープ溶液の場合、それに反して作業圧力を２ｂａｒおよび流量を０．８ｌ／ｈに調節する。複数の噴霧器ノズルを、前記ドープされたＳｉＯ2スラリーの受容器の上で斜め下向きにして、互いに約５〜１０ｃｍの間隔で位置調節する。このようにして生成された噴霧物は、１０μｍ〜４０μｍの平均径を有する液滴を含んでいる。
前記噴霧器ノズルは、ドープ工程の間、その角度を互いに調節されてよい。さらに、前記ノズルを、あらかじめ決められたパターンにしがたって動かすことも可能であり、それによって、噴霧物のより強い相互作用が可能である。ＳｉＯ2懸濁液およびドープ溶液からの噴霧物の液滴は、前記受容器の上部範囲では互いに相互作用をして、最終的に受容器の底に沈む。前記受容器には、さらに、そこで集められたドープされたＳｉＯ2スラリーを動かす撹拌機が取り付けられている。このようにしてドープされたスラリーを、例１と同じようにさらに加工して、ドープされたＳｉＯ2顆粒にし、この顆粒は、続いて様々な方法で、ドープされた石英ガラス材料の製造に適用される。

Claims (11)

  1. ドープされたＳｉＯ2スラリーの製造方法であって、ＳｉＯ2粒子を水性液体中に含む懸濁液に、少なくとも１種のドープ溶液を連続して添加して前記ドープされたＳｉＯ2スラリーを形成させる前記方法において、生じるドープされたＳｉＯ2スラリーが絶え間なく動かされる間、前記ＳｉＯ2懸濁液および／または前記ドープ溶液が、噴霧物として相互に作用し、該噴霧物の平均液滴径が、１０μｍ〜１００μｍの範囲にあることを特徴とする前記方法。
  2. 前記平均液滴径が、１０μｍ〜５０μｍの範囲にあることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  3. 前記ＳｉＯ2懸濁液からの噴霧物、および前記少なくとも１種のドープ溶液からの噴霧物の場合に、該噴霧物が、霧状物の段階で互いに混合されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
  4. 前記ＳｉＯ2懸濁液および／または前記ドープ溶液が、１つまたは複数の噴霧ノズルを使用することによって噴霧されて噴霧物にされることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
  5. 前記噴霧物の生成において、０．５ｂａｒ〜１０ｂａｒの範囲、好ましくは５ｂａｒ未満の範囲の作業圧力で実施されることを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
  6. 前記噴霧物の生成において、０．２ｌ／ｈ〜４．０ｌ／ｈの範囲、好ましくは０．５ｌ／ｈ未満の範囲の流量で実施されることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項の方法。
  7. 前記ＳｉＯ2懸濁液または前記ドープ溶液、または前記少なくとも部分的にドープされたＳｉＯ2スラリーが、１つまたは複数のプロペラ撹拌機を使用することにより動かされることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
  8. 前記噴霧物の生成の前に、前記ＳｉＯ2懸濁液および／または前記ドープ溶液がろ過されることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
  9. 前記ＳｉＯ2懸濁液が、１２より大きいｐＨ値に調節されることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
  10. 請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法により製造されるドープされたＳｉＯ2スラリーの、ドープされた石英ガラスを製造するための使用。
  11. 前記ドープされた石英ガラスが、レーザー活性石英ガラスであることを特徴とする、請求項１０に記載の使用。
JP2015519041A 2012-06-26 2013-06-25 ドープされたＳｉＯ２スラリーの製造方法、ならびにそのＳｉＯ２スラリーの使用 Active JP6211076B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102012012524.0 2012-06-26
DE102012012524A DE102012012524B3 (de) 2012-06-26 2012-06-26 Verfahren zur Herstellung eines dotierten SiO2-Schlickers sowie Verwendung des SiO2-Schlickers
PCT/EP2013/063213 WO2014001293A1 (de) 2012-06-26 2013-06-25 Verfahren zur herstellung eines dotierten sio2-schlickers sowie verwendung des sio2-schlickers

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015527962A true JP2015527962A (ja) 2015-09-24
JP2015527962A5 JP2015527962A5 (ja) 2016-07-28
JP6211076B2 JP6211076B2 (ja) 2017-10-11

Family

ID=48670589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015519041A Active JP6211076B2 (ja) 2012-06-26 2013-06-25 ドープされたＳｉＯ２スラリーの製造方法、ならびにそのＳｉＯ２スラリーの使用

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9518218B2 (ja)
EP (1) EP2872454B1 (ja)
JP (1) JP6211076B2 (ja)
CN (1) CN104411645A (ja)
DE (1) DE102012012524B3 (ja)
WO (1) WO2014001293A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019516653A (ja) * 2016-05-04 2019-06-20 サウジ アラビアン オイル カンパニーＳａｕｄｉ Ａｒａｂｉａｎ Ｏｉｌ Ｃｏｍｐａｎｙ ヒュームド金属酸化物の処理方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG10201709699RA (en) * 2013-05-23 2017-12-28 Applied Materials Inc A coated liner assembly for a semiconductor processing chamber
EP3173386B1 (de) 2015-11-25 2018-05-02 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung eines verbundkörpers aus hochkieselsäurehaltigem werkstoff
CN105837025B (zh) * 2016-04-21 2018-12-11 烽火通信科技股份有限公司 高效制备掺杂光纤预制棒的方法及掺杂光纤预制棒
EP3708547A1 (de) * 2019-03-13 2020-09-16 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Bauteil aus dotiertem quarzglas für den einsatz in einem plasma-unterstützten fertigungsprozess sowie verfahren zur herstellung des bauteils

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57205334A (en) * 1981-06-13 1982-12-16 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Manufacture of silica glass
JPH09151124A (ja) * 1995-11-29 1997-06-10 Kao Corp 熱線遮蔽性粒子及びその製造方法
JP2000313618A (ja) * 1999-04-28 2000-11-14 Asahi Chem Ind Co Ltd 均一粒子径を有する粒子の製造方法
JP2008504207A (ja) * 2004-07-02 2008-02-14 リエッキ オイ 光導波路材料ならびにその製造方法および製造装置
JP2008254980A (ja) * 2007-04-06 2008-10-23 Iwasaki Electric Co Ltd 不透明石英ガラス製品の製造方法、それに用いるシリカ顆粒とその生成方法
JP2010505734A (ja) * 2006-10-13 2010-02-25 エボニック デグサ ゲーエムベーハー 表面変性されたシリカ
JP2010538961A (ja) * 2007-09-20 2010-12-16 ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト ドープされた石英ガラスの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10065028A1 (de) 2000-12-23 2002-07-18 Degussa Mit Kalium dotierte pyrogene Oxide
DE10065027A1 (de) 2000-12-23 2002-07-04 Degussa Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
US20040005352A1 (en) * 2002-04-16 2004-01-08 Lopez Gabriel P. Biologically functionalized porous microspheres
DE10249747A1 (de) 2002-10-25 2004-05-06 Clariant Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung chemischer und physikalischer Prozesse
WO2005054139A1 (de) 2003-12-08 2005-06-16 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur herstellung von laseraktivem quarzglas und verwendung desselben
DE102004006017B4 (de) * 2003-12-08 2006-08-03 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von laseraktivem Quarzglas und Verwendung desselben
DE102007015097A1 (de) 2007-03-29 2008-10-02 Heidelberger Druckmaschinen Ag Farbmessgerät mit Koordinatenabgleich
CN101850230B (zh) 2009-03-31 2012-07-04 中国石油化工股份有限公司 一种流体连续反应器及其应用

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57205334A (en) * 1981-06-13 1982-12-16 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Manufacture of silica glass
JPH09151124A (ja) * 1995-11-29 1997-06-10 Kao Corp 熱線遮蔽性粒子及びその製造方法
JP2000313618A (ja) * 1999-04-28 2000-11-14 Asahi Chem Ind Co Ltd 均一粒子径を有する粒子の製造方法
JP2008504207A (ja) * 2004-07-02 2008-02-14 リエッキ オイ 光導波路材料ならびにその製造方法および製造装置
JP2010505734A (ja) * 2006-10-13 2010-02-25 エボニック デグサ ゲーエムベーハー 表面変性されたシリカ
JP2008254980A (ja) * 2007-04-06 2008-10-23 Iwasaki Electric Co Ltd 不透明石英ガラス製品の製造方法、それに用いるシリカ顆粒とその生成方法
JP2010538961A (ja) * 2007-09-20 2010-12-16 ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト ドープされた石英ガラスの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019516653A (ja) * 2016-05-04 2019-06-20 サウジ アラビアン オイル カンパニーＳａｕｄｉ Ａｒａｂｉａｎ Ｏｉｌ Ｃｏｍｐａｎｙ ヒュームド金属酸化物の処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2872454B1 (de) 2017-08-09
DE102012012524B3 (de) 2013-07-18
US20150197688A1 (en) 2015-07-16
US9518218B2 (en) 2016-12-13
WO2014001293A1 (de) 2014-01-03
EP2872454A1 (de) 2015-05-20
CN104411645A (zh) 2015-03-11
JP6211076B2 (ja) 2017-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6211076B2 (ja) ドープされたＳｉＯ２スラリーの製造方法、ならびにそのＳｉＯ２スラリーの使用
JP5334385B2 (ja) ポリシリケート粒子状材料の製造および使用
TWI471268B (zh) 含有具彎曲結構及／或分枝結構之二氧化矽二次粒子的矽酸膠及其製造方法
JP5524094B2 (ja) フュームド金属酸化物分散体の製造方法
JP5564461B2 (ja) 研磨用組成物
CN103359740A (zh) 一种二氧化硅剪切增稠液的制备方法
CN102119127A (zh) 纳米颗粒状氧化锌的制备方法
US10550300B2 (en) Method for producing purified active silicic acid solution and silica sol
CN103666372A (zh) 氧化硅为内核的氧化铈复合磨料及其制备方法
CN106927464B (zh) 一种碳化硅微粉的改性方法
JP2004203729A (ja) シリカゾルの製造方法およびシリカゾル
CN102676164B (zh) 一种球形钼酸钙基红色荧光粉及其制备方法
CN110980745B (zh) 一种硅溶胶及制备方法
EP2754640B1 (en) Method for producing purified silicic acid alkali aqueous solution and silica sol
PH12014501377B1 (en) Method for separating polishing material and regenerated polishing material
CN107556804A (zh) 一种高吸油值、大孔容消光剂的生产工艺
JP2001072409A (ja) 高純度シリカの製造方法および利用方法
Laurentowska et al. ZnO-SiO2 oxide composites synthesis during precipitation from emulsion system
RU2738174C1 (ru) Способ получения тонкодисперсного серебряного порошка
CN104138733B (zh) 一种表面具有贯穿大孔的二氧化硅空心微球及其制备方法
JP2017036465A (ja) フレーク状銀粒子の集合体及び該銀粒子の集合体を含有するペースト
JP2014129196A (ja) シリカ微粒子の製造方法
JP2007261902A (ja) 球状シリカ粒子懸濁溶液とその製造方法、および球状シリカ粒子
KR20060018936A (ko) 초음파-에멀젼방법을 이용한 단분산 실리카 나노분말 제조법
Li et al. Synthesis and size control of monodisperse silica sol nanospheres via a modified Stöber method

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160603

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160603

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170508

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170807

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170828

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170912

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6211076

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250