JP2015521575A - 薄ガラス積層板を積層するための方法 - Google Patents

Abstract

１.０ｍｍをこえない厚さを有する薄ガラスを用いる、光学歪及び形状一貫性が改善されたガラス積層板を、１２０℃をこえないかまたは１００℃をこえないソーク温度及び約−０.６バール（−６?１０４Ｐａ）をこえない真空を用いることで作製するための、真空リングまたは真空バッグを用いるプロセス。積層された２枚のガラス板及び高分子材中間層の１つ以上の集成スタックを単一の基準金型の上に重ねて単一の真空バッグまたは真空リング内で同時に処理することができる。真空バッグまたは真空リングによって印加される不規則な力から集成スタックを保護するため、基準金型上の集成スタックの最上面の上に１枚以上の薄ガラス板を置くことができる。

Description

関連出願の説明

本出願は２０１２年６月８日に出願された米国仮特許第６１/６５７２７２号の米国特許法第１１９条の下の優先権の恩典を主張する。本明細書は上記仮特許出願の明細書の内容に依存し、上記仮特許出願の明細書の内容はその全体が本明細書に参照として含められる。本出願は２０１２年６月１４日に出願された米国仮特許出願第６１/６５９５３３号に関連する。

本開示は全般には光学歪及び形状一貫性が改善された薄ガラス積層板を作製するためのプロセスに関し、さらに詳しくは、光学歪及び形状一貫性が改善された薄ガラス積層板を作製するための改善された真空リングプロセスまたは真空バッグプロセスに関する。

ガラス積層板は、建築用途及び、自動車、車両、機関車及び航空機を含む、乗物または輸送用途において、窓及び窓ガラスとして用いられ得る。ガラス積層板は、欄干及び階段におけるガラスパネルとして、また、壁、柱、エレベーターかご室、家庭用電気器具、電子デバイス及びその他の用途のための装飾パネルまたはカバーとしても、用いられ得る。建築及び乗物用途に用いられる普通のタイプのガラス積層板は透明及び色付きの積層ガラス構造を有する。本明細書に用いられるように、窓ガラスまたは積層ガラス構造（ガラス積層板）は、高分子材の層、フィルムまたはシートに張り付けられた少なくとも１枚のガラス板を有する、窓、パネル、家庭用電気器具、電子デバイス、壁またはその他の構造の、透明、半透明、準透明または不透明の部分である。しかし、ガラス積層板は、表示板、電子ディスプレイ、電子デバイス及び家庭用電気製品のカバーガラスとして、また他の用途のホストとしても、用いられ得る。

自動車用窓ガラス、建築物用積層ガラス及びその他のガラス積層板は一般に、２枚の（熱処理またはアニールされた）２ｍｍ厚ソーダ石灰ガラスのポリビニルブチラール（ＰＶＢ）またはその他の高分子材の中間層との積層からなる。これらのガラス積層板には、低コスト並びに自動車及びその他の用途に十分な耐衝撃性及び剛性を含む、いくつかの利点がある。しかし、これらのガラス積層板の耐衝撃性は限られているため、これらのガラス積層板は通常、路端の石、破壊作用物及びその他の衝撃イベントによる衝撃を受けたときの、挙動がはかばかしくなく、破壊する確率が高い。

地球上の化石燃料埋蔵量が枯渇しかかり、価格が益々高騰しているから、エネルギーを節約するために、また起こり得る地球温暖化の軽減に役立てるためにも、エネルギー及び燃料消費を抑えるための方法が世界中で探し求められている。例えば、自動車工業界は、製品重量を減じ、エンジン効率を向上させることで、走行距離を延ばす方法を求めている。重量を減じる一方法は、窓ガラスの性能を維持したまま、あるいは向上させながらも、一層薄いガラス窓を用いることによる方法である。コーニング社(Corning Incorporated)は、様々な将来の要求を満たすため、先頭を走り、コーニング（登録商標）Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラスのような、様々な薄いが非常に強いガラスを開発している。しかし、積層板のガラス板が薄くなるにつれて、ガラス板は一層しなやかになり、応力下で一層変形を受け易くなって、積層ガラス製品を形成するためにそのような薄いガラスを積層するときに光学歪または形状変化を生じることが多い。

建築用及び車用の窓製造業のための一般的なガラス積層プロセスでは、真空バッグプロセスまたは真空リングプロセスが用いられる。一般的な真空バッグプロセスにおいては、積層板の層が集成されてスタックにされ、スタックが積層板形成のために異なるフィルムに包まれる。真空バッグへのスタック／層の固着を防止するための剥離フィルム、真空引きを容易にするための息抜きフィルム及び、最後に、脱気のためにサンプルを真空環境内に封入するための真空バッグがある。他方で、一般的な真空リングプロセスにおいては、スタックされた層の周縁を、真空引きのための内蔵真空配管を有する、ゴムリングシールで封止するために真空リングが用いられる。いずれのプロセスも、積層されている材料に応力をかけ、続いて、積層されている薄ガラス板の厚さが１.０ｍｍをこえない場合は特に、光学歪及び形状変化を生じさせる。

光学歪及び形状一貫性が改善される、薄ガラス積層板を積層するための装置及びプロセスが必要とされている。

本明細書に挙げられるいずれの参考文献も従来技術をなすとは認めていない。出願人は挙げられるいかなる文書の正確さ及び適正さにも疑義を呈する権利を明白に保留する。

本開示は、厚さが１.０ｍｍを超えない薄ガラスが積層板に用いられる場合に光学歪及び形状一貫性が改善された積層ガラス構造を作製するための、真空リングまたは真空バッグを用いるプロセスを説明する。本開示は、特に湾曲構造が積層されている場合に、全てが薄ガラス板でつくられたガラス積層板について形状一貫性を促進するために基準金型を、必要に応じ、用いることができる、本プロセスの変形も教示する。本開示の他の実施形態において、単一の基準金型及び単一の真空リングまたは真空バッグを用いて複数の構成を同時に処理することができる。

従来の脱気／張付け真空リングプロセスを用いて積層されたガラス積層板は一般にまだ、申し分のない積層形成のためには比較的高い温度及び圧力における追加オートクレーブ工程で処理する必要がある。本開示は、薄ガラスが用いられる場合に光学歪及び形状一貫性が改善された透明ガラス積層板を直接に作製し、よって、時間及び資源を節約するため、高温／高圧における追加オートクレーブ工程を排除するために、真空リングプロセスまたは真空バッグプロセスをどのように用いるかを教示する。

本開示の一態様にしたがえば、
第１のガラス板、第２のガラス板及び高分子材中間層を提供する工程であって、第１のガラス板及び第２のガラス板の少なくとも一方は１ｍｍをこえない厚さを有するものである、工程、
第１のガラス板の上に中間層を重ね、中間層の上に第２のガラス板を重ねて、集成スタックを形成する工程、
集成スタックの周縁に真空を印加する工程、
集成スタックを、中間層の軟化温度にあるかまたはそれより高いソーク温度に加熱する工程、及び
中間層を脱気し、中間層を第１のガラス板及び第２のガラス板に張り付けるに十分な時間（ソーク時間）の間、真空及びソーク温度を維持する工程、
を含むプロセスが開示される。第１のガラス板及び第２のガラス板はいずれも１ｍｍをこえない厚さを有することができる。また第１のガラス板及び第２のガラス板はいずれも化学的に強化されたガラス板とすることができる。

本開示のいくつかの態様において、プロセスはさらに、集成スタックをオートクレーブに入れ、ソーク時間中、８０ｐｓｉ（５.５×１０^５Ｐａ）をこえない圧力で集成スタックをオートクレーブ処理する工程を含む。ソーク温度は１５０℃をこえず、約１２０℃、約１００℃または約９０℃とすることができる。集成スタックの周縁に印加される真空は、約−０.９バール（−９×１０^４Ｐａ）をこえず、約−０.６バール（−６×１０^４Ｐａ）、約−０.５バール（−５×１０^４Ｐａ）または約−０.３バール（−３×１０^４Ｐａ）とすることができる。

真空を印加する工程は、集成スタックの周縁部に真空リングをクランプして、真空リングに真空を印加することによって、実施される。

本開示に説明されるようなプロセスは、集成スタックをオートクレーブ内に入れる工程及びソーク時間中オートクレーブ内の圧力を約１５０ｐｓｉ（１.０３ＭＰａ）から約２００ｐｓｉ（１.３８ＭＰａ）の範囲内に維持する工程も含む。

本開示のいくつかの実施形態において、プロセスは、集成スタックを形成するためにガラス積層板の所望の形状に実質的に一致する形状を有する基準面をもつ基準金型を提供する工程を含むことができ、真空を印加する工程は基準金型を含む集成スタックの周縁に真空を印加する。プロセスは、必要に応じ、基準金型の基準面上に２つ以上の集成スタックを載せる工程を含むことができ、真空を印加する工程は集成スタックの全ての周縁及び基準金型に同時に真空を印加する。

本開示のいくつかの実施形態において、プロセスは集成スタックの上面上に少なくとも１枚の追加の薄ガラス板を重ねる工程を含むことができ、真空印加工程は、集成スタックを真空バッグまたは真空リングの一方に入れる工程及び真空バッグまたは真空リングの一方に真空を印加する工程を含む。基準金型は約４ｍｍ厚から約６ｍｍ厚の成形ソーダ石灰ガラス板で形成することができる。

真空を印加する工程は、集成スタックを真空バッグまたは真空リングの一方に入れる工程及び真空バッグまたは真空リングの一方に真空を印加する工程を含むことができる。

中間層は、標準ポリビニルブチラール（ＰＶＢ），遮音性ＰＶＢ、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）またはアイオノマーからなる群からの高分子材で形成することができる。

さらなる特徴及び利点は以下の詳細な説明に述べられ、ある程度は、当業者にはその説明から容易に明らかであろうし、あるいは記述及び添付される特許請求の範囲に、また添付図面にも、説明されるように実施形態を実施することによって認められるであろう。

上記の全般的説明及び以下の詳細な説明がいずれも例示に過ぎず、特許請求の範囲の本質及び特質を理解するための概要または枠組みの提供が目的とされていることは当然である。

添付図面はさらに深い理解を提供するために含められ、本明細書に組み入れられて本明細書の一部をなす。図面は１つ以上の実施形態を示し、記述とともに様々な実施形態の原理及び動作の説明に役立つ。

図１は本説明の一実施形態にしたがう積層ガラス構造の簡略な部分断面図である。 図２Ａは本説明の一実施形態にしたがう薄ガラス積層板を積層するための真空リング成形プロセスの略図である。 図２Ｂは本説明の一実施形態にしたがう薄ガラス積層板を積層するための真空リング成形プロセスの略図である。 図２Ｃは本説明の一実施形態にしたがう薄ガラス積層板を積層するための真空リング成形プロセスの略図である。 図３Ａは本説明の別の実施形態にしたがう薄ガラス積層板を積層するための真空リング成形プロセスの略図である。 図３Ｂは本説明の別の実施形態にしたがう薄ガラス積層板を積層するための真空リング成形プロセスの略図である。 図４は湾曲薄ガラス積層板を積層するための、図３Ａ及び３Bに示されるような、真空リング成形プロセスの略図である。 図５は、本開示にしたがう、スタック内の初期ガラス板、基準金型、脱気／張付け後（例えば積層板形成直後）のガラス積層板及びオートクレーブ内の脱気／張付けに続く（例えば積層板形成に続く）緩和後のガラス積層板の形状を示すグラフである。 図６は、１つより多くの積層薄ガラス構造を同時に積層するための、本開示の一実施形態の略図である。 図７は、１つより多くの積層薄ガラス構造を同時に積層するための、本開示の別の実施形態の略図である。

図１は本開示の一実施形態にしたがう薄ガラス積層板１０の簡略な（原寸に比例していない）部分断面図である。薄ガラス積層板（積層または積層構造）１０は、高分子材中間層１６の両面に張り付けられた２枚の薄ガラス板１２及び１４を含むことができる。あるいは、薄ガラス積層板は１枚の薄ガラス板及び比較的厚い第２のガラス板を含むことができる。高分子材中間層１６は、標準ＰＶＢ，遮音性ＰＶＢ，エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ），熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）あるいはその他の適する高分子材または熱可塑性材料とすることができるが、これらは例に過ぎない。本開示の一実施形態にしたがえば、薄ガラス板の少なくとも一方は、またはいずれも、コーニング社のコーニングゴリラガラスのような、イオン交換プロセスを用いて化学的に強化された薄ガラス板で形成することができる。このタイプのプロセスにおいては、ガラス板が一般に溶融塩浴にあらかじめ定められた時間浸漬される。ガラス板の表面または表面近傍のガラス板内のイオンが、例えば、塩浴からの大径金属イオンに交換される。一実施形態において、溶融塩浴の温度は約４３０℃であり、あらかじめ定められた時間は約８時間である。ガラスへの大径イオンの導入は表面近傍領域に圧縮応力をつくりだすことでガラス板を強化する。圧縮応力と釣り合うように、対応する引張応力がガラス板の中央領域内に誘起される。

本開示及び添付される特許請求の範囲においてガラス板に関して用いられる語「薄（い）」は、約１.０ｍｍをこえない、約０.７ｍｍをこえない、約０.５ｍｍをこえない、約１.０ｍｍをこえない、あるいは、約０.５ｍｍから約１.０ｍｍまたは約０.５ｍｍから約０.７ｍｍの範囲内の、厚さを有するガラス板を意味する。

米国特許第７６６６５１１号、同第４４８３７００号及び同第５６７４７９０号の各明細書に説明されているように、コーニングゴリラガラスは、ガラス板をフュージョンドローし、次いでそのガラス板を化学的に強化することでつくられる。コーニングゴリラガラスは比較的深い圧縮応力の層深さ（ＤＯＬ）を有し、比較的高い、曲げ強さ、耐引掻性及び耐衝撃性を有する表面を提供する。ガラス板１２及び１４と高分子材中間層１６は、ガラス板１２，中間層１６及びガラス板１４が順次に重ね合わされ、高分子材中間層１６がガラス板に接合するように、高分子材中間層の軟化温度より若干高い温度に加熱される、本開示にしたがう積層形成プロセス中に相互に接合させることができる。

本開示の一実施形態にしたがう真空リング積層形成プロセスが、図２Ａから２Ｃに簡略に（原寸に比例せずに）示される。図２Ａに示されるように、本開示にしたがうプロセスは、
２枚の薄ガラス板１２及び１４と高分子材中間層１６を、第１のガラス板１２の上に中間層１６を載せ、次いで中間層１６の上に第２のガラス板１４を載せることで、スタック１８に集成する工程、
集成スタック１８の周縁に真空を印加するための封止を形成するため、図２Ｂ及び２Ｃに示されるように、集成スタック１８の周縁部を囲んで真空リング２０，２２をクランプする工程、
真空リング２０でクランプされたままの集成スタック１８をオートクレーブまたはオーブン２４内に入れる工程、
真空リング上の真空管路／チューブを介して真空リング２０を真空引きする工程、
オートクレーブ内の温度を高分子材中間層１６の軟化温度より若干高い温度（ソーク温度）まで上げる工程、
中間層１６を軟化させ、２枚のガラス板１２と１４の間の空間を脱気して、軟化した中間層１６を２枚のガラス板１２，１４に接合／張付けし、よって集成スタック１８を積層し合わせるため、真空リング内の真空を維持しながら、真空及びソーク温度を維持する工程、
−同様の時間／温度環境を真空バッグ積層形成プロセスに用いることができる、
集成スタックをオートクレーブから取り出す工程、
真空リングを取り外す工程、
最後に、真空ロングをスタックから分離する工程、
を含むことができる。得られた積層板は、完全に封止されているべき、周縁部において、ほとんど透明または透明であろう。必要であれば、積層板を完成し、透明にするため、積層板を高温／高圧においてオートクレーブ処理することができる。上述したように、積層されているガラス板の少なくとも一方が１.０ｍｍをこえない厚さを有する薄ガラス板である場合、ここで説明される手順により、いかなる以降のオートクレーブ工程の必要も排除することができる。

本開示は、集成スタックがオートクレーブ内で積層化されるプロセスを説明する。しかし、集成スタックが積層化されているチャンバを加圧する必要がない場合には、真空リングまたは真空バッグを真空引きする真空ポートを備える、より低費用のオーブンをオートクレーブの代わりに用いることができる。

１ｍｍをこえない厚さを有する薄ガラス板がガラス積層板を形成するために用いられる場合、薄ガラス板（及び得られるガラス積層板）は、積層化プロセス中にガラス板内及び集成スタック１８内に生じる不等応力による変形を受け易い。集成スタック内の応力は得られるガラス積層板に光学歪及び形状変化を生じさせる。一般的な真空バッグ積層プロセスが薄ガラス板を積層するために用いられる場合、真空バッグが収縮するにつれて、真空バッグにより積層化されている集成スタックに不規則な不等応力が発生することが多い。そのような応力は、ガラス板が積層されている間に、薄ガラス積層板の比較的薄くしなやかなガラスに変形を生じさせることが多く、変形は積層後もガラス積層板に残り、ガラス積層板に先述した光学歪及び形状変化を生じさせる。１ｍｍをこえる厚さを有する比較的厚いガラス板を積層する場合、真空バッグによってつくられる不等応力は、一般に厚ガラス板の剛性により、ガラス板または積層構造のいかなる有意な変形も生じさせるに十分には大きくない。真空リングプロセスについては、集成スタックに押し付けられたゴム製真空リングが、特にスタックを脱気し、接合／張付けするために真空がリングに印加されるときに、ガラス積層板の周縁に光学歪及び形状変化を生じさせ得る不等応力をスタックの周縁に発生させる。他方で、スタックの中央部は一様な真空圧を受け、よって有意な光学歪みは生じない。

本開示で説明したように、しなやかな薄ガラス板は変形を一層受け易いが、可撓性薄ガラス板は、ガラス板が張り付けられる表面と同形になることができる薄ガラス板の能力により、積層化が一層容易であることが分かった。本開示は、真空リング積層形成プロセスまたは真空バッグ積層形成プロセスに一般に用いられるより低い真空を真空リングまたは真空バッグに用いながら、薄ガラス板のこのしなやかで形状整合性のある特性を、薄ガラス板を用いる積層製品にどのように利用するかを説明する。

上で説明したように、真空リング積層形成プロセスにおいては、ガラス板の外周に押し付けられる真空リングによる不等応力がスタックの周縁にかかる。しかし、真空リングに印加する真空を弱めることで、または集成スタックの周縁に真空リングがクランプされる圧力／力を減じることで、積層化中の薄ガラス板またはスタックの変形傾向を弱めることが可能である。真空を弱め、かつ真空リングのクランプ圧力を減じることで、積層板の周縁における変形のかなりの低減を得ることができ、よって積層板の周縁の歪の最小化を達成することができる。スタックに印加される積層形成温度及び圧力（例えばオートクレーブ内圧力）を低めることで、積層板の応力及び変形をさらに一層減じることも可能である。

上述したように、オートクレーブ２４内部の圧力を高めることで２枚のガラス板の中央部を押し合わせるため、必要に応じて集成スタックの中央部に圧力を印加することができる。しかし、薄ガラス板のしなやかな性質により、本開示の集成スタックは、オートクレーブ内を大気圧に維持したまま、単に真空リングを介して真空を印加することによって十分に押し合わされ、脱気されて張り合わされることが分かったから、そのようなオートクレーブは必要ではなく、真空ポートをもつオーブンで十分であろう。薄ガラス板１２及び１４の薄く可撓の／しなやかな性質により薄ガラス板１２及び１４は容易に相互に整合し、よって薄ガラス板と中間層１６の間のいかなる空隙も閉じ、気泡を排除する。必要に応じ、オートクレーブ内の圧力が８０ｐｓｉ（５.５×１０^５Ｐａ）をこえないように、オートクレーブ内の圧力を一般的な積層形成プロセスに比較して低めることができ、あるいはオートクレーブ内の圧力を高め、制御する工程を完全に排除することができる。

薄ガラス板のしなやかな性質により、一般的な真空リング積層形成プロセスまたは真空バッグ積層形成プロセスに比較して、低いソーク温度及び弱い真空圧が可能になる。例えば、薄ガラス板は、本開示にしたがう真空リングプロセスまたは真空バッグプロセスにおいて、大気圧のあるオートクレーブまたはオーブン内で、約１５０℃をこえない、約１２０℃をこえない、約１００℃をこえない、あるいは約９０℃から約１２０℃の範囲内のまたは約９０℃から約１００℃の範囲内の、脱気／張付け温度（ソーク温度）において、あるいは、約−０.９バール（−９×１０^４Ｐａ）をこえない、約−０.６バール（−６×１０^４Ｐａ）をこえない、約−０.５（−５×１０^４Ｐａ）バールをこえない、約−０.３バール（−３×１０^４Ｐａ）をこえない、または約０.２バール（−２×１０^４Ｐａ）から約−０.６バールの範囲内の、真空を（真空リングまたは真空バッグを介して）集成スタックの周縁に印加しながら、積層することができ、その後の追加のオートクレーブまたはオーブンによる処理は不要である。

一般的な真空リング（または真空バッグ）プロセスはその後の追加オートクレーブ工程を用いるが、先述した脱気／張付けは、ガラス積層板を形成するために、オートクレーブ内で約１２０℃から約１５０℃のソーク温度及び１５０ｐｓｉ（１.０３ＭＰａ）から２００ｐｓｉ（１.３８ＭＰａ）の圧力を用いることができ、その後のいかなる処理も不要である。したがって、本開示は、１ｍｍをこえない厚さを有する薄ガラス板を積層する場合に、一般的な真空リングプロセスを用いたときに可能であるよりも改善された光学歪及び形状一貫性を有する薄い積層ガラス構造を、以降のオートクレーブ内の高温／高圧処理を必要とせずに、作製するための改善された真空リングプロセスを提供する。しかし、そのような以降の処理は、必要に応じて、本開示の範囲及び特許請求の範囲を逸脱することなく用いられ得る。

０.７ｍｍ厚ゴリラガラス（ＧＧ）／Ｓｏｌｕｔｉａ Ｉｎｃ．からの０.７６ｍｍ厚Ｓａｆｌｅｘ（登録商標）ＱＢ５１遮音性ＰＶＢ／１.６ｍｍ厚ソーダ石灰ガラス（ＳＬＧ）の平薄ガラススタックを、真空リング積層形成プロセスを用い、−０.７バール（−７×１０^４Ｐａ）の真空、１００℃の脱気／張付け温度において積層した。追加の積層形成圧力、例えばオートクレーブまたはオーブン内の大気圧は全く用いていない。得られたガラス積層板は透明であり、積層板の中央部の光学歪は最小限であったが、積層板の周縁部周りに目に見える光学歪があった。

実施例１と同じ薄ガラススタックを真空リングにより、真空を−０.５バール（−５×１０^４Ｐａ）に制御したことを除いて、同じプロセス条件を用いて積層した。得られたガラス積層板は同じく透明で、積層板の中央部の光学歪は最小限であった。周縁周りの光学歪は、より強い真空を用いた実施例１の積層板に比較して改善されているように見えた。

実施例１と同じ薄ガラススタックを真空リングにより、真空を−０.３バール（−３×１０^４Ｐａ）に制御したことを除いて、同じプロセス条件を用いて積層した。得られたガラス積層板の積層板中央部における光学歪は同じく極めて僅かであった。得られたガラス積層板の周縁部周りの光学歪は、より強い真空を用いて実施例１または実施例２で達成された光学歪みよりさらに一層改善されていた。

上記の実施例は、真空リング内の真空強さを、約−０.６バール（−６×１０^４Ｐａ）をこえない、−０.３バールをこえない、あるいは約−０.２バール（−２×１０^４Ｐａ）から約−０.６バールの範囲の、または約−０.２バールから約−０.３バールの範囲の、レベルまで弱めることで、積層形成中にスタックの周縁部に生じる応力が低められ、得られるガラス積層板の周縁部周りの光学歪が改善されることを実証している。

実施例１と同じ薄ガラススタックを真空リングにより、ソーク温度を１００℃の代わりに９０℃に下げたことを除いて、真空が−０.３バールの実施例３と同じプロセス条件を用いて積層した。積層板の周縁周りの光学歪は１００℃で処理したときよりさらに一層改善されているように見えた。この実施例は、１００℃をこえないかまたは９０℃をこえない、低いソーク温度が周縁周りの光学歪の軽減に役立つことを実証している。

本開示の別の実施形態にしたがう真空リング（または真空バッグ）／基準金型積層形成プロセスを図３Ａ，３Ｂ及び４を参照して次に説明する。そのようなプロセスは以下の、
所望の積層板形状の基準及び形成のための基準表面としてはたらくための、所望の最終積層板形状の形にある基準面３４を有する、高剛基板または基準金型３２を提供する工程、
基準金型３２の上面に第１の薄ガラス板１２を重ねる工程、
第１の薄ガラス板の上面に接合性中間層材料１６を重ねる工程、
集成された基準金型／ガラス／中間層／ガラスの集成スタック３８を完成させるため、中間層１６の上面に第２の薄ガラス板１４を重ねる工程、
（高剛基板を含む）集成スタック３８の周縁を囲んで適切な寸法につくられた真空リング２０を嵌める工程、
−スタック３８の周縁にかかる真空リング２０の弾力が、スタックを容易にハンドリングできるように、スタックを合わせて保持する、
−真空リングの代わりに真空バッグが用いられる場合、基準金型を含む、集成スタックを、スタックのコンポーネントが相互に対して動かないように注意を払いながら、垂直（または水平）方位で真空バッグ内に入れることができる、
集成スタック３８をオートクレーブまたはオーブンに入れる工程、
真空リング（または、用いられる場合には、真空バッグ）に−０.２バールから−０.６バール（または−０.９バール）の範囲にある真空を印加する工程、
−真空が確立されると、オートクレーブ（またはオーブン）内の大気圧（またはさらに高い圧力）が薄ガラス板１２及び１６と中間層１６を曲げて、基準金型３２の形状をとらせる、
−スタックは次いで中間層材料の軟化温度より若干高い温度（例えば、ＰＶＢ中間層に対して約１００℃のソーク温度）に加熱される、
少なくとも積層構造の周縁を封止するかまたは中間層をガラス板に完全に張り付けるに十分な時間（例えば約１０分間から約６０分間の範囲の、ソーク時間）、高められたソーク時間及び温度を維持する工程、
−同様の時間／温度環境を真空バッグ積層形成プロセスに用いることができる、
集成スタック３８を真空リング（または真空バッグ）とともにオートクレーブから取り出す工程、
真空リング（または真空バッグ）をスタックから取り外す工程、及び
最後に、基準金型をガラス積層板から分離する工程、
からなることができる。得られた積層板は、完全に封止されているべき、周縁部において特に、ほとんど透明または透明であろう。必要であれば、積層板を完成し、透明にするため、積層板を高温及び高圧においてオートクレーブ処理することができる。上述したように、積層されているガラス板の少なくとも一方は１.０ｍｍをこえない厚さを有する薄ガラス板である場合、以降のオートクレーブ工程を排除することができる。

前の段落で説明したプロセスにおいて、基準金型３２は、所望の最終積層板形状に応じて、図３Ａ及び３Ｂに示されるように平形とすることができ、あるいは図４に示されるように最終積層板の所望の湾曲形状に形成することができる。湾曲形状は単一の軸及び曲率半径をもつ単純な湾曲形状とすることができ、あるいは複数の軸及び変化する曲率半径または複数の曲率半径をもつ複雑な湾曲形状とすることができる。基準金型は、例えば、約４ｍｍ厚から約６ｍｍ厚とすることができ、製造業において十分に理解されているような（自動車窓ガラス製造業で普通に用いられている曲げ／整形プロセスのような）通常のガラス成形／整形プロセスを用いて所望の形状に形成された、ソーダ石灰ガラス板のような、ガラス板とすることができる。集成スタック内に配置される薄ガラス板１２及び１４の初期形状は平坦／平面とすることができ、あるいはガラス板は所望の最終積層板形状に公称上つくることができる。ガラス板を湾曲形状につくる際には一般に形状変化が生じてガラス板毎に形状不一致が生じるから、ガラス板は所望の最終積層板形状に公称上つくられ得るといわれる。真空は積層スタックの層の間から空気を取り除き、同時に可撓性ガラス板１２及び１４を曲げて、高剛基準金型３２の形状を相互にとらせる。脱気／張付けサイクル中の高いソーク温度により、中間層１６は軟化してガラス板を中間層に張り付け、ガラス構造を接合／積層し、真空によるスタックの層の間のいかなる空隙／気泡の除去も可能にする。

本開示の真空リングプロセス及び真空バッグプロセスは薄ガラス板１２及び１４のしなやかで可撓な性質を利用する。薄ガラス板の可撓性は、オートクレーブ（またはオーブン）内で真空リング２２が真空引きされてスタックが加熱される積層形成プロセスの脱気／張付け部分中に、ガラス板がより剛性の高い基準金型３２と、また相互に、同形になることを可能にする。２枚のガラス射て１２と１４の間のいかなる形状不一致も、しなやかなガラス板は積層形成プロセス中に基準金型と、また相互に、同形になるから、排除される。したがってここで説明されるプロセスは、積層される薄ガラス板の形状の精確な一致を必要としない。この結果、本開示のプロセスの使用は、厚さが１ｍｍより薄いガラスが用いられる場合、積層形成プロセス中の精密な形状制御に関する要件を緩和する。ガラス成形中に日常的に生じるガラス形状の小さな差異は薄ガラス板の可撓性を利用することで排除することができる。湾曲薄ガラス積層板の積層に対し、集成スタックに配置される薄ガラス板の初期形状は、平形、所望の最終積層板形状に至る途中のいずれかの中間形状、または完全な公称最終積層板形状の間にわたることができる。最終積層板形状は積層形成プロセスの脱気／張付け部分中に基準金型によって決定される。この成形プロセス及び積層形成プロセスは真空リングまたは真空バッグのいずれを用いても実施することができる。

０.７ｍｍ厚ゴリラガラス／０.７６ｍｍ厚ＱＢ５１ ＰＶＢ／０.７ｍｍ厚ゴリラガラスの平薄ガラススタックを、形状一貫性を促進するために基準金型を用い、真空リングを用いて積層した。プロセス条件は実施例３と同じく−０.３バール及び１００℃とした。ガラス板は全てほぼ同じ曲率を有していた。やはり、サンプルの周縁に最小の光学歪がある透明積層板が達成された。この実施例は。基準金型が、光学特性が高められた薄ガラス積層板をつくると同時に、変形を低減して形状一貫性を促進することを実証している。

半径が６０インチ（１.５２４ｍ）の円筒曲面をもつ高剛基準金型をソーダ石灰ガラスで作製した。第１の０.７ｍｍ厚化学的硬化コーニングゴリラガラス板、１枚の０.８１ミリ厚Ｓｏｌｕｔｉａ Ｓａｆｌｅｘ ＱＢ５１ ＰＶＢ中間層、及び第２の０.７ｍｍ厚ゴリラガラス板を含むスタックを集成した。スタックの総厚は６.２ｍｍであった。適切な寸法につくられた真空リングをスタックの周縁を囲んで嵌めた。そのようなスタックが図４に簡略に示されている。リングを−０.３バールのレベルの真空まで排気した。このレベルは、スタックから空気を適切に除去し、ＧＧ／ＰＶＢ／ＧＧスタックを基準金型の形状に合わせるに十分な真空であることが分かった。このスタックを１００℃で３０分間加熱して、脱気／張付けプロセスを完了させた。ＧＧ／ＰＶＢ／ＧＧ積層板を高剛基板から分離して、試験した。積層板はほとんどが透明であり、優れた周縁封止を有していた。

図５は、スタック内のガラス板の初期形状（Ａ及びＢ）、基準金型の形状（Ｅ）、脱気／張付け後（例えば、１３０℃及び８０ｐｓｉ（５.５×１０^４Ｐａ）で、３６分のソーク時間のオートクレーブ処理における積層形成直後）の積層板の形状（Ｄ），及びオートクレーブにおける積層形成に続く緩和後の積層板の形状（Ｃ）をグラフで示す。脱気／張付け後に積層板は緩和して初期ガラス板形状に（例えばＤからＣに）向けて若干戻った。この緩和効果は、本実施例においては、薄ガラス板とソーダ石灰ガラス基準金型の間の初期形状の大きな差のため、強調されすぎている。実際の製造において、積層形成に続く緩和の大きさは、薄ガラス板の初期形状を基準金型の形状に一層近づけることによって大きく減じることができる。

集成されたガラス／中間層／ガラス／基準金型３８のスタックの周縁を囲んで真空リングをクランプして真空リングを−０.３バールのレベルまで排気し、集成スタックをオートクレーブ内において８０ｐｓｉ及び１３０℃で３５分のソーク時間の処理を行った。結果は、中央部の光学歪は僅かでしかないが、周縁部の光学歪が甚だしい、積層板であった。この光学歪は中央部に向かってかなり内側まで広がっていた。この光学歪はオートクレーブ処理中の、真空リングのクランプ圧力、１３０℃におけるＰＶＢの軟化及びスタックの周縁に印加された圧力の相乗効果によって生じる、積層板周縁へのＰＶＢの滲出によって生じていた。積層板は基準金型を所定の位置においてオートクレーブ処理されていたから、脱気／張付け後のスタック／積層板の形状は基本的に所望の積層板形状（例えば基準金型の形状）と同等であった。

同じガラス／中間層／ガラス集成スタックを、−０.３バールへの真空リング排気及び２０分間の常温脱気、次いで積層の張り合わせを行うための１００℃まで温度を上げて３０分間の加熱、からなるが、オートクレーブ処理中に基準金型または真空リングは用いていない、脱気／張付けを用いて積層した。この積層板は薄ガラス板の初期形状に向けて緩和した。側面からのＰＶＢの滲出はなく、光学歪は最小であった。

本開示にしたがう真空積層形成プロセスの別の実施形態において、複数の積層構造を、単一の積層／脱気／張付けプロセスにおいて単一の真空バッグ内で、または単一の真空リングを用いて同時に、図３Ａ，３Ｂ及び４に関して説明したように、積層／処理することができる。このようにすれば、複数回の真空バッグ積層形成プロセスまたは真空リング積層形成プロセスを排除することができる。

図６に簡略に示されるように、本開示にしたがうそのようなプロセスは、
複数のガラス／中間層／ガラス集成積層スタック、例えば単一集成スタック４８として同時処理するために単一の基準金型３２の上の、一方が他方の上に載っている、２つの積層スタックＳ１及びＳ２を、重ねる工程、
基準金型３２を含む集成スタック４８を（図６には示されていない）真空バッグに入れる工程（または、集成スタック及び基準金型の周縁に品空リングをクランプする工程）、
−図６には２つの積層スタックＳ１及びＳ２しか示されていないが、いくつかのガラス／中間層／ガラス積層スタックを単一の基準金型上に集成して同時処理できることは理解されるであろう、
集成スタック４８を入れている真空バッグ（基準金型は真空バッグ内部にある）をオートクレーブに入れる工程、
真空バッグに真空を印加する工程、
オートクレーブ内の圧力を大気圧より若干高いソーク圧力、例えば、約１０ｐｓｉ（６.８９×１０^４Ｐａ）から約１５ｐｓｉ（１.０３×１０^４Ｐａ）の圧力まで高める工程、
オートクレーブ（またはオーブン）及び集成スタックを、中間層の軟化温度より若干高いソーク温度、例えば、ＰＶＢ中間層については、１５０℃をこえない、１２０℃をこえない、１００℃をこえない、あるいは約９０℃から約１２０℃または約９０℃から約１００℃の範囲の、ソーク温度まで加熱する工程、
オートクレーブ内のソーク温度及びソーク圧力を、少なくとも積層スタックの周縁を封止するに十分な時間あるいは積層スタックＳ１及びＳ２のガラス板に中間層を完全に張り付けるに十分な時間、例えば、約１０分間から約６０分の範囲のソーク時間にわたって、維持する工程、
−オートクレーブ内の圧力が薄ガラス板１２及び１４と中間層１６を曲げて基準金型３２の形状と同形にするであろう、
−積層スタックＳ１及びＳ２の周縁からの中間層滲出は本明細書に説明されるようにソーク温度及びソーク圧力を制御することによって防止することができる、
−同様の時間／温度環境を真空リング積層形成プロセスに用いることができる、
−真空リングプロセスにおいては、１ｍｍより薄い厚さを有する薄ガラス板を積層する場合、オートクレーブ内の圧力は大気圧のままとすることができる。したがって、より高価なオートクレーブの代わりにオーブンを用いることができる、
積層されたスタック／積層板が入っている真空バッグ（または真空リング）をオートクレーブから取り出す工程、
真空リングから集成スタックを取り外す工程、及び
最後に、積層された薄ガラス積層板Ｓ１及びＳ２を基準モールド３２から、また相互に、分離する工程、
を含むことができる。得られた薄ガラス積層板は、特に、完全に封止されているべき、周縁部においてほとんど透明であるかまたは透明であろう。必要であれば、積層板を完璧にし、透明にするため、次いで、高温及び高圧において積層板をオートクレーブ処理することができる。上述したように、それぞれの積層スタックにおいて積層されているガラス板の少なくとも一方が１.０ｍｍをこえない厚さを有する薄ガラス板である場合、特にいずれもが１.０ｍｍをこえない厚さを有する薄ガラス板であれば、ここで説明される手順は引き続くいかなるオートクレーブ工程も排除することができる。

図７は複数の薄ガラス積層板を同時に形成及び積層するための本開示の別の実施形態を示す。この実施形態は、
複数のガラス板１６／中間層１６／ガラス板１４積層スタックＳ１及びＳ２を基準金型３２上に重ねる工程、
積層スタックＳ１及びＳ２の最上面の上に１枚以上の追加のガラス板を、次々に、重ねて、追加のガラス板、積層スタック及び基準金型を含む、集成スタック５８を形成する工程、
先述したように、真空バッグに集成スタック５８を入れる工程または真空リングに集成スタックをクランプする工程、
集成スタックを含む真空バッグまたは真空リングをオートクレーブまたはオーブンに入れる工程、
真空バッグまたは真空リングに真空を印加する工程、
中間層の軟化温度より若干高いソーク温度にオーブンを加熱する工程、
ガラス板が基準金型の形状をとること及び中間層１６を脱気してガラス板に張り付けることが可能になるに十分な時間の間、ソーク温度及び真空を維持する工程、
真空バッグまたは真空リングをオートクレーブまたはオーブンから取り出す工程、
集成スタック５８を真空バッグまたは真空リングから取り外す工程、及び
最後に、ガラス積層板Ｓ１及びＳ２を、相互に、また基準金型及び追加のガラス板４４から分離する工程、
−これでガラス積層板Ｓ１及びＳ２が完成されている、
を含む。

図７に示されるように積層スタックＳ１及びＳ２の最上面の上に１枚または多くの追加のガラス板４４を重ねることは少なくとも２つの目的に役立つ。追加のガラス板は、それぞれの可撓性により、上部積層スタックＳ２の形状と同形になるであろう。真空バッグによるいかなる不等応力または集中応力も層から層へと下るにつれて一層広い面積にわたって一層一様に分布するようになり、したがって積層スタックＳ１及びＳ２に光学歪みを生じさせる不等歪を有効に減じるであろう。また、最上部の追加ガラス板４４以外の全てのガラス板が、真空バッグまたは真空リングではなく、別のガラス板４４，１２または１４によって押し合わされるから、積層スタックを形成するガラス板１２または１４のいずれに対しても、光学歪を生じさせる変形をおこさせるような、直接の不等な表面押し合わせはない。

複数枚の積層板または複数枚のガラス板を同時に積層または成形するための、本明細書に説明されるプロセスは、１.０ｍｍより薄い厚さを有する薄ガラス板及びそのような薄ガラス板で形成される積層板を含む積層板に、そのようなガラス板は容易に撓んで、合わさるガラス板の形状と、また基準金型と、同形になるため、最も有効である。堅固であるかまたは高剛性の基準金型を提供することにより、集成スタック内の薄ガラス板の初期形状に不一致があったとしても、集成スタック内の全ての薄ガラス板が相互に押し合わされて、全てが基準金型の形状をとるであろう。さらに、薄ガラス板は、真空下にあるバッグからの、及び真空リングからの、不等応力による変形を受け易いが、そのような応力は本明細書に説明されるプロセスによって実質的に低減または排除される。また、厚いガラス板を含む集成／積層スタックに対しては、厚いガラス板を基準金型と同形にするため、真空バッグまたは真空リングに印加される真空に加えて、さらなる圧力を集成スタックに印加することが必要になり得るであろう。しかし、全てが薄ガラス板のサンプルには真空だけで十分であり、したがって比較的厚いガラス板の積層よりも時間及び資源を節約することができる。

２枚の０.７ｍｍ厚コーニングゴリラ平ガラス板及びデュポン(Dupont)社からのＳｅｎｔｒｙＧｌａｓ Ｐｌｕｓフィルム中間層をいずれもが含む、３枚の積層板を単一の真空バッグ内で単一の基準金型上に積層した。４ｍｍ厚成形ソーダ石灰ガラスを基準金型として用い、積層スタックにかかる真空バッグからの不等応力を低減するため、積層スタックの最上面の上に３枚の０.７ｍｍ厚ゴリラガラス板をおいた。約−０.５バール（〜−１５インチ水銀柱）（−５×１０^４Ｐａ）でしかない真空を真空バッグに印加し、オートクレーブ内での真空バッグの外部への別途の圧力印加は行わなかった。集成スタックを２１０°Ｆ（９８.９℃）に加熱し、１時間ソークしてから冷却してオートクレーブから取り出した。サンプルは透明であり、気泡がなく、光学歪は真空バッグを用いて作製された単サンプルよりかなり改善された。

本明細書ではソーダ石灰ガラスで形成されているとして基準金型を説明したが、本開示の全ての実施形態において基準金型は、金属、セラミック、ガラスセラミック、異なるガラス、等のような、ソーク温度においてその形状を保つであろう、他の適する、比較的剛性が高い材料で形成することができるであろう。

ＰＶＢのような熱可塑性材料を予備成形された高分子材中間層として適用することができる。熱可塑性材料層は、いくつかの実施形態において、少なくとも０.１２５ｍｍ（例えば、０.１２５，０.２５，０.３７５，０.５，０.７６，０.８１，１.１４または１.５２ｍｍ）の厚さを有することができる。熱可塑性材料層はガラスの表裏をなす２つの主表面のほとんどを、好ましくは実質的に全てを、覆うことができる。熱可塑性材料層はガラスの端面を覆うこともできる。熱可塑性材料層と接しているガラス板は、熱可塑性材料のガラスへの接合を促進するため、熱可塑性材料の軟化点より高い、例えば熱可塑性材料の軟化点より少なくとも５℃または１０℃高い、温度に加熱することができる。加熱は圧力下において熱可塑性材料層と接しているガラス積層で行うことができる。

本開示に説明されるプロセス及び装置とともに用いることができる、選ばれる市販の高分子中間層材料１６には、ＰＶＢ，ＥＶＡ，ポリウレタン，（デュポン社からのＳｅｎｔｒｙＧｌａｓ（登録商標）のような）アイオノマー及びその他の熱可塑性接合フィルムがある。１つ以上の高分子材中間層をガラス積層板に組み込むことができる。複数の中間層は、接合促進、音響制御、ＵＶ透過制御、及び／またはＩＲ透過制御を含む、相補的であるかまたは独特の機能を提供することができる。

本開示は、薄ガラスの可撓性を利用することで一般的な真空リング成形プロセスに比較して光学歪及び形状一貫性が改善されている透明ガラス積層板を達成する、真空リング積層形成プロセス及び真空バッグ積層形成プロセスを説明する。ここで開示されたプロセスは、特に薄ガラスが含まれる場合に、光学歪に関して積層板の清純な光学品質を保つことができる。本開示は、薄ガラス板が用いられる場合に光学歪及び形状一貫性が改善されている透明ガラス積層板の単一工程で、したがって時間及び資源を節約するために高温及び高圧における追加のオートクレーブ工程を排除して、直接に作製するために真空リングプロセス及び真空バッグプロセスのいずれをもどのように利用するかを教示する。本開示は、特に湾曲サンプルを作成する場合に、全て薄ガラス板でつくられる積層板の形状一貫性を促進するために単一の基準金型をどのように用いるかも教示する。本開示は、複数の積層スタックを同時に処理することにより、一般的な作製プロセスに比較して、作製に必要な時間、労働力及び資源をどのように大幅に低減するかも教示する。本開示は、一般的な厚ガラスプロセスに比較して、薄ガラスを積層する場合に、真空リングまたは真空バッグに印加される真空を弱め、真空リングのクランプ圧力を低めるだけでなく、オートクレーブ工程の温度及び圧力も低め、よって薄ガラス積層板の積層及び成形に必要な時間及び資源を低減するプロセスを説明する。本開示のいくつかのプロセスは、基準金型及び、必要に応じる、積層スタックの最上面の上への追加薄ガラス板を用いることにより光学歪に関する積層板の光学品質も改善する。様々な接合フィルム／中間層及び、化学的に強化されていてもいなくても差し支えない、様々な薄ガラスを用いる積層形成を容易にするかまたな実際に実施するために、本開示の基本原理を適用していくつかの装置及びプロセスを案出することも可能である。本開示は、本開示の改善されたプロセスで作製される、改善された薄ガラス積層板も説明し、含む。

別途に明白に言明されない限り、本明細書に述べられるいかなる方法もその工程が特定の順序で実施される必要があると解されることは全く意図されていない。したがって、その工程がしたがうべき順序を方法特許が実際に挙げていない場合、または、そうではなくとも、工程が特定の順序に限定されるべきであることが特許請求の範囲または説明に言明されていない場合、いかなる特定の順序も推測されることは全く意図されていない。

本発明の精神または範囲を逸脱することなく様々な改変及び変形がなされ得ることが当業者には明らかであろう。本発明の精神及び実質を組み入れている、開示された実施形態の改変、組合せ、下位組合せ及び変形が当業者には思い浮かび得るから、本発明は添付される特許請求項及びそれらの等価形態の範囲内の全てを含むと解されるべきである。

１０ 薄ガラス積層板
１２，１４ 薄ガラス板
１６ 高分子材中間層
１８ スタック
２０ 真空リング
２２ 真空管路／チューブ
２４ オートクレーブ／オーブン
３２ 基準金型

Claims (8)

1. ガラス積層板を形成する方法において、
   第１のガラス板、第２のガラス板及び高分子材中間層を提供する工程であって、前記第１のガラス板及び前記第２のガラス板の少なくとも一方は１ｍｍをこえない厚さを有するものである工程、
   前記第１のガラス板の上に前記中間層を重ね、前記中間層の上に前記第２のガラス板を重ねて、集成スタックを形成する工程、
   前記集成スタックの周縁に真空を印加する工程、
   前記中間層の軟化温度にあるかまたはそれより高いソーク温度に前記集成スタックを加熱する工程、及び
   前記中間層を脱気し、前記中間層を前記第１のガラス板及び前記第２ガラス板に張り付けるに十分な時間（ソーク時間）の間、前記真空及び前記ソーク温度を維持する工程、
   を含むことを特徴とする方法。
2. 前記第１のガラス板及び前記第２のガラス板のいずれもが、（ａ）１ｍｍをこえない厚さを有する、または（ｂ）化学的に強化されたガラスである、の少なくとも一方であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記集成スタックをオートクレーブに入れ、約１２０℃、１００℃または９０℃をこえないソーク温度に対し、前記ソーク時間中、８０ｐｓｉ（５.５×１０^５Ｐａ）をこえない圧力においてオートクレーブ処理する工程、
   をさらに含み、
   前記集成スタックの前記周縁に印加される前記真空が、約−０.６バール（−６×１０^４Ｐａ）、約−０.５バール（−５×１０^４Ｐａ）または約−０.３バール（−３×１０^４Ｐａ）をこえない、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 前記真空を印加する工程が、前記集成スタックの前記周縁に真空リングをクランプして前記真空リングに真空を印加する工程、
   を含み、
   前記加熱する工程が１５０℃をこえないソーク温度に前記集成スタックを加熱する工程を含む、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
5. 前記集成スタックを成形するために前記ガラス積層板の所望の形状に一致する形状を有する基準面をもつ基準金型を提供する工程、
   をさらに含み、
   前記真空を印加する工程が前記基準金型を含む前記集成スタックの前記周縁に真空を印加する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
6. 前記基準金型の前記基準面の上に２つ以上の前記集成スタックを重ねる工程、
   をさらに含み、
   前記真空を印加する工程が前記集成スタックの全て及び前記基準金型の周縁に同時に真空を印加する、
   ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
7. 前記重ねる工程が前記集成スタックの最上面の上に少なくとも１枚の追加の薄ガラス板を重ねる工程を含み、
   前記真空を印加する工程が真空バッグ及び真空リングの一方内に前記集成スタックを入れて真空バッグ及び真空リングの前記一方に真空を印加する工程を含む、
   ことを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
8. 前記基準金型が約４ｍｍから約６ｍｍの厚さを有するソーダ石灰ガラス板で形成されることを特徴とする請求項６に記載の方法。

Images