JP2015506826A - フィルタを洗浄する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
21 フィルタ膜
205 バックフラッシュライン
1008 気体印加ライン
1010 除去される堆積物
Claims (14)
- A)交差流フィルタ(20)を与える段階であって、該交差流フィルタ(20)が、フィルタ膜(21)を含み、かつ該フィルタ膜(21)を通過して流れるフィードストリームから液体浸透物ストリームを除去するように構成され、該フィルタ膜(21)が、該浸透物ストリームに面する第1の側と、該第1の側と反対側で該フィードストリームに面する第2の側とを含み、除去される堆積物(1010)の少なくとも一部が、該フィルタ膜(21)の該第2の側に位置付けられる、前記与える段階と、
B)前記フィルタ膜(21)を通してバックフラッシング液体ストリームを印加する段階と、
を含むフィルタを洗浄する方法であって、
段階B)で前記バックフラッシング液体ストリームを印加する前に、前記フィルタ膜(21)の前記第1の側に位置付けられた浸透物が、気体によって該フィルタ膜(21)の該第1の側から少なくとも部分的に置換され、
前記バックフラッシング液体ストリームと接触する前記気体は、少なくとも段階B)中に1バールよりも大きい圧力を有し、
段階B)で前記バックフラッシング液体ストリームを印加する前記段階は、該バックフラッシング液体ストリームの圧力が最小圧力と最大圧力の間で繰り返し切り換わるように行われる、
ことを特徴とする方法。 - 段階B)における前記バックフラッシング液体ストリームは、以前に除去された浸透物を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記交差流フィルタは、前記フィードストリームが垂直方向に流れるように配置されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の方法。
- 前記交差流フィルタは、限外濾過ユニットであり、前記フィードストリームは、半導体処理工程からのスラリ廃水を含むことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記バックフラッシング液体ストリームと接触する前記気体は、段階B)中に1.5バール以上で2.5バール以下の圧力を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の方法。
- 段階B)における前記最小圧力は、0バール以上で0.5バール以下であり、及び/又は、前記最大圧力は、2.5バール以上で3バール以下であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の方法。
- 段階B)における前記バックフラッシング液体ストリームの圧力が、0.5Hz以上で1Hz以下の周波数で、前記最小圧力と前記最大圧力の間で切り換わることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の方法。
- 段階B)後に、C)前記フィルタ膜の前記第2の側を、分散された気泡を含む液体と接触させる段階であって、該気泡内の圧力が最小圧力と最大圧力の間で繰り返し切り換わる前記接触させる段階が、実施されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記方法が、フィルタ膜(21)を有する交差流フィルタ(20)と、濾過される材料混合物のためのフィードライン(201)と、該交差流フィルタ(20)を出る保持物のための排出ライン(103)と、該交差流フィルタ(20)を出る前記浸透物のための液体抽出ライン(203)と、バックフラッシュライン(205)とを含むシステムにおいて実施され、
前記排出ライン(103)は、第1の制御可能弁(1001)が配置された気体印加ライン(1008)に接続され、
前記気体印加ライン(1008)及び前記液体抽出ライン(203)は、第2の制御可能な弁(1002)が配置された接続ライン(1009)によって互いに接続され、前記第1の制御可能な弁(1001)は、該接続ライン(1009)と前記排出ライン(103)の間で該気体印加ライン(1008)に配置され、
第3の制御可能弁(1003)が、前記液体抽出ライン(203)に配置され、該液体抽出ライン(203)と前記接続ライン(1009)の間の接続が、前記交差流フィルタ(20)と該第3の制御可能弁(1003)の間でなされ、
第4の制御可能弁(1004)が、前記バックフラッシュライン(205)に配置され、
前記フィードライン(201)は、第5の制御可能弁(1005)が配置された廃水ライン(1007)に接続される、
ことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の方法。 - フィルタシステムであって、
フィルタ膜(21)を有する交差流フィルタ(20)、濾過される材料混合物のためのフィードライン(201)、該交差流フィルタ(20)を出る保持物のための排出ライン(103)、該交差流フィルタ(20)を出る浸透物のための液体抽出ライン(203)、及びバックフラッシュライン(205)、
を含み、
前記排出ライン(103)は、第1の制御可能弁(1001)が配置された気体印加ライン(1008)に接続され、
前記気体印加ライン(1008)及び前記液体抽出ライン(203)は、第2の制御可能な弁(1002)が配置された接続ライン(1009)によって互いに接続され、前記第1の制御可能な弁(1001)は、該接続ライン(1009)と前記排出ライン(103)の間で該気体印加ライン(1008)に配置され、
第3の制御可能弁(1003)が、前記液体抽出ライン(203)に配置され、該液体抽出ライン(203)と前記接続ライン(1009)の間の接続が、前記交差流フィルタ(20)と該第3の制御可能弁(1003)の間でなされ、
第4の制御可能弁(1004)が、前記バックフラッシュライン(205)に配置され、
前記フィードライン(201)は、第5の制御可能弁(1005)が配置された廃水ライン(1007)に接続される、
ことを特徴とするフィルタシステム。 - 前記交差流フィルタ(20)は、限外濾過ユニットであることを特徴とする請求項12に記載のフィルタシステム。
- 半導体処理工程からのスラリ廃水の再処理のための再処理ユニットであって、
請求項12又は請求項13に記載のフィルタシステムと、
スラリを含む廃水を保持するための循環タンク(10)と、
前記循環タンク(10)に接続された廃水フィードライン(101)と、
濾過される材料混合物(201)のためのフィードライン(201)によって前記循環タンク(10)に接続され、請求項11から請求項14のうちの1つ又はそれよりも多くの項に記載のフィルタシステムの一部であり、液体抽出によって該循環タンク(10)から除去された混合廃水を連続的に濃縮するための交差流フィルタ(20)と、
前記濃縮された廃水を前記循環タンク(10)に経路指定するための廃水戻りライン(105)と、
前記循環タンク(10)からの混合廃水の連続的な除去及び前記限外濾過ユニットによる該廃水の濃縮が行われている間の該循環タンク(10)への新しい廃水の連続的な供給を含む濾過段階と、次に、該循環タンク(10)からの混合廃水の該連続的な除去及び該限外濾過デバイスによる該廃水の濃縮が行われている間に該循環タンク(10)への該新しい廃水の供給が低減されるか又は実質的に遮断される濃縮段階と、を時間的に連続して実施するように構成され、かつ更に、請求項1から請求項11のうちの1つ又はそれよりも多くの項に記載の方法を実行させるように構成された、コントローラと、
を含むことを特徴とする再処理ユニット。
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