JP2015197654A - 光学素子および光学系、並びに光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
そして、近年、ビデオカメラやテレビカメラはHDなどの高精細化になり、また、写真カメラは高画質化に伴い、高性能な反射防止膜が必要とされている。
(光学素子)
図1(a)は、本実施形態に係る光学素子(透明基板と、透明基板の上に形成された反射防止構造と、を有する)を示す模式図である。また、図1(b)は本実施形態に係る光学素子を光軸方向から眺めた図である。この光学素子は、光学系(例えばカメラ等の撮像光学系)の光路中に設けられるもので、透明基材レンズ11を構成する透明基板の上に成膜された反射防止膜101を備える。ここで、反射防止膜とは、一般的な光学干渉の理論に従って薄膜材料を透過基材表面に積層することで、反射防止効果を有した薄膜のことである。
本実施形態では、反射防止膜101の中心領域(第1領域P)での多層反射防止膜102と周辺領域(第2領域Q)での単層反射防止膜103との境界位置は、透明基材レンズ11の中心軸Oに対し半開角37度とした。
なお、塗工回数は通常1回が好ましいが、乾燥と塗工を複数回繰り返しても良い。
以下、図1(a)を参照して、本実施形態に係る実施例1としての光学素子について、より具体的に説明する。透明基材レンズ11は、d線(587.6nm)での屈折率が1.835の透明ガラス基板を用いた。反射防止膜101の中心領域(第1領域)での多層反射防止膜102の最上層である低屈折率層17を除く12、13、14、15、16の5層構成を誘電体膜とした。これらの誘電体膜は、真空蒸着にて形成した。
以下、図4を参照して、本実施形態に係る実施例2としての光学素子について説明する。透明基材レンズ21は、d線(587.6nm)での屈折率が1.518の透明ガラス基板を用いた。透明基材レンズ11は、光学面の高さLDが25mm、曲率半径が30.0の半開角56.4度のレンズである。反射防止膜201の中心領域(第1領域)で、多層反射防止膜202の低屈折率層27を除く誘電体膜の層22、23、24、25、26の5層構成とした。これらの誘電体膜は、真空蒸着にて形成した。
以下、図7を参照して、上述した実施例2との比較を行う光学素子について説明する。透明基材レンズ31は、実施例2と同じ形状のd線(587.6nm)での屈折率が1.518の透明ガラス基板を用いた。反射防止膜301は、透明基材レンズ31を洗浄後、透明基材レンズ31のほぼ全領域に形成されるような保持治具に載せて、低屈折率層37を除く誘電体膜の層32、33、34、35、36の5層構成を真空蒸着にて形成した。
上述したような本発明に係る光学素子は、以下の製造方法によって製造可能である。即ち、透明基板の上に2層以上で構成される反射防止膜の内、最上層を除く層を第1領域に成膜する第1工程と、前記最上層を前記第1領域および前記第1領域と異なる第2領域に成膜する第2工程と、を有する。そして、第2工程は、湿式成膜法で行うと好ましい。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
上述した実施形態では、反射防止膜101の中心領域(第1領域)での多層反射防止膜102と周辺領域(第2領域)での単層反射防止膜103との境界位置は、透明基材レンズ11の中心軸Oに対し半開角37度とした。しかし、本発明において、反射防止膜101の中心領域(第1領域)での多層反射防止膜102と周辺領域(第2領域)での単層反射防止膜103との境界位置は、半開角37度の場合に限定されるものでなく、半開角を任意に設定しても良い。
上述した実施形態では、第1領域での2層以上で構成される反射防止膜、第2領域での単層の反射防止膜が、レンズを構成する透明基板における凹面のレンズ面の上に形成されたが、本発明はこれに限られず、凸面のレンズ面の上に形成されても良い。また、このような反射防止膜が形成されたレンズ面は、片側の端面(1面)だけでなく両側の端面(2面)に設けられても良い。また、貼り合わせレンズの貼り合わせ面に設けられても良い。
Claims (11)
- 透明基板と、該透明基板の上に形成された反射防止構造と、を有する光学素子であって、
前記反射防止構造は、複数の層で構成された第1の反射防止部と、該第1の反射防止部の最上層が前記透明基板の上に他の層を介さずに形成された第2の反射防止部と、を含むことを特徴とする光学素子。 - 前記透明基板は、レンズを構成することを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 前記第1の反射防止部、前記第2の反射防止部が凹面のレンズ面の上に形成されることを特徴とする請求項2に記載の光学素子。
- 前記第2の反射防止部は、前記第1の反射防止部が設けられる領域の外側にリング状に設けられることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記第1の反射防止部が形成される領域と前記第2の反射防止部が形成される領域との境界位置での半開角をθとするとき、以下の条件式を満足することを特徴とする請求項4に記載の光学素子。
37≦θ - 前記最上層の屈折率は、1.15以上1.30以下であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記最上層は、平均粒子径が20nm以上70nm以下である中空微粒子から成ることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記中空微粒子は、SiO2もしくはMgF2から成ることを特徴とする請求項7に記載の光学素子。
- 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光学素子を有することを特徴とする光学系。
- 透明基板の上に2層以上で構成される反射防止膜の内、最上層を除く層を第1領域に成膜する第1工程と、
前記最上層を前記第1領域および前記第1領域と異なる第2領域に成膜する第2工程と、
を有することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記第2工程は、湿式成膜法で行うことを特徴とする請求項10に記載の光学素子の製造方法。
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JP2019113735A (ja) * | 2017-12-25 | 2019-07-11 | マクセル株式会社 | 膜付きレンズ、レンズユニットおよびカメラモジュール |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009168852A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-30 | Hoya Corp | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP2011191395A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Alps Electric Co Ltd | 光学素子 |
JP2012018286A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-26 | Hoya Corp | 3層構成の反射防止膜を有する光学部材 |
JP2012145748A (ja) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、および反射防止フィルムの製造方法 |
JP2012215790A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-08 | Tamron Co Ltd | 反射防止膜及び光学素子 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009168852A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-30 | Hoya Corp | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP2011191395A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Alps Electric Co Ltd | 光学素子 |
JP2012018286A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-26 | Hoya Corp | 3層構成の反射防止膜を有する光学部材 |
JP2012145748A (ja) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、および反射防止フィルムの製造方法 |
JP2012215790A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-08 | Tamron Co Ltd | 反射防止膜及び光学素子 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019113735A (ja) * | 2017-12-25 | 2019-07-11 | マクセル株式会社 | 膜付きレンズ、レンズユニットおよびカメラモジュール |
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