JP2015197654A - 光学素子および光学系、並びに光学素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】簡易な構成で、高い反射防止性能が安定して得られる光学素子および光学系、並びに光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】光学素子は、透明基板と、該透明基板の上に形成された反射防止構造と、を有する光学素子であって、前記反射防止構造は、複数の層で構成された第１の反射防止部と、該第１の反射防止部の最上層が前記透明基板の上に他の層を介さずに形成された第２の反射防止部と、を含むことを特徴とする。【選択図】図１

Description

本発明は、低屈折率材を用いた反射防止膜を有する光学素子および光学系、並びに光学素子の製造方法に関し、特に一眼レフカメラレンズ、デジタルカメラレンズ等に好適なものに関する。

従来、ビデオカメラ、写真カメラ、テレビカメラ等の撮影レンズに代表される結像光学系に用いられる光学素子には、両面或いは片面に透過光量を上げると共に、不要光によるゴースト、フレアを回避するための反射防止膜が施されている。
そして、近年、ビデオカメラやテレビカメラはＨＤなどの高精細化になり、また、写真カメラは高画質化に伴い、高性能な反射防止膜が必要とされている。

一般的に、光学素子に反射防止機能を付与するには、反射防止膜を素子表面上に作製する。従来、光学素子表面に付与される反射防止膜は、膜ムラの無い均一な膜が理想とされている。一般的な反射防止膜は、レンズの中心（光線入射角度が０度）付近で、反射防止効果が最大となるような膜厚で設計する場合が多い。このように設計した反射防止膜は、開角の大きいレンズにおいては、誘電体膜を真空蒸着で形成する場合、基板に推積する膜厚が基板面の法線方向と蒸着粒子の飛来方向とのなす角の余弦に比例するので、レンズ周辺の膜厚が薄くなってしまう。

このような面内の膜厚が不均一なレンズの周辺部に、光軸に対し大きな角度で光線が入射すると、レンズ周辺部での光線入射角度が大きくなり、反射防止効果は弱まってしまう。即ち、中心部での反射防止効果には優れるが、周辺部での反射防止効果が中心部と比較し劣ってしまう。

これを解決するため、レンズ周辺領域の曲率の大きい部分に、高精度マスター型を使用した樹脂成形による反射防止構造体を形成することが開示されている（特許文献１）。この反射防止構造体は、反射を防止すべき光の最短波長よりも小さいピッチで、周期的にアレイ状に配列された構造単位が所定の形状を有する構造体である。

ＷＯ２００７／０１８１４９号公報

しかしながら、上述の特許文献１に開示された従来技術では、曲率の大きい部分に樹脂成形を行おうとすると、型の先端まで樹脂が入っていかず、構造体にバラツキが生じて安定して形成することが困難であり、有効な反射防止効果が得られない。また、レンズの周辺部（周辺領域）は、レンズを組み立てる際に触れることが多いため、構造体が破壊してしまうという課題もあった。

本発明の目的は、簡易な構成で、高い反射防止性能が安定して得られる光学素子および光学系、並びに光学素子の製造方法を提供することにある。

上記目的を達成するために、本発明に係る光学素子は、透明基板と、該透明基板の上に形成された反射防止構造と、を有する光学素子であって、前記反射防止構造は、複数の層で構成された第１の反射防止部と、該第１の反射防止部の最上層が前記透明基板の上に他の層を介さずに形成された第２の反射防止部と、を含むことを特徴とする。

また、本発明に係る光学系は、上記光学素子を有することを特徴とする。

また、本発明に係る光学素子の製造方法は、透明基板の上に２層以上で構成される反射防止膜の内、最上層を除く層を第１領域に成膜する第１工程と、前記最上層を前記第１領域および前記第１領域と異なる第２領域に成膜する第２工程と、を有することを特徴とする。

本発明によれば、簡易な構成で、高い反射防止性能が安定して得られる光学素子および光学系、並びに光学素子の製造方法を提供することができる。

（ａ）は本発明の実施形態に係る光学素子を示す概略断面図、（ｂ）は光学素子を光軸方向から眺めた図である。 第１の実施例に係る光学素子の中心領域反射率特性を示す図である。 第１の実施例に係る光学素子の周辺領域反射率特性を示す図である。 第２の実施例に係る光学素子を示す概略断面図である。 第２の実施例に係る光学素子の中心領域反射率特性を示す図である。 第２の実施例に係る光学素子の周辺領域反射率特性を示す図である。 比較例の光学素子を示す概略断面図である。 比較例の光学素子の中心領域反射率特性を示す図である。 比較例の光学素子の周辺領域反射率特性を示す図である。

以下に、本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。

《第１の実施形態》
（光学素子）
図１（ａ）は、本実施形態に係る光学素子（透明基板と、透明基板の上に形成された反射防止構造と、を有する）を示す模式図である。また、図１（ｂ）は本実施形態に係る光学素子を光軸方向から眺めた図である。この光学素子は、光学系（例えばカメラ等の撮像光学系）の光路中に設けられるもので、透明基材レンズ１１を構成する透明基板の上に成膜された反射防止膜１０１を備える。ここで、反射防止膜とは、一般的な光学干渉の理論に従って薄膜材料を透過基材表面に積層することで、反射防止効果を有した薄膜のことである。

この反射防止膜１０１として、透明基材レンズ１１の凹面に対して、光軸Ｏを通る中心領域（第１領域Ｐ［図１（ｂ）］）に２層以上として６層構成の多層反射防止膜１０２が形成されている。また、透明基材レンズ１１の凹面に対して、第１領域の外側のリング状の周辺領域（第２領域Ｑ［図１（ｂ）］）に１層膜から成る単層反射防止膜１０３が形成されている。

ここで、後に詳述するが、第２領域における１層膜は、第１領域における多層反射防止膜１０２の最上層となっている。即ち、本実施形態に係る光学素子は、透明基板の上に２層以上で構成される反射防止膜が形成された第１の反射防止部としての第１構造部１０２（図１（ａ））を第１領域Ｐ（図１（ｂ））に有する。また、透明基板の上に反射防止膜の最上層が他の層を介さずに形成された第２の反射防止部としての第２構造部１０３（図１（ａ））を第２領域Ｑに、有する。

このように、本実施形態に係る光学素子における透明基板の上に形成された反射防止構造は、第１の反射防止部としての第１構造部１０２と、第２の反射防止部としての第２構造部１０３を含む。

第１領域における透明基材レンズ１１の上の多層反射防止膜１０２は、無機系被膜から成る誘電体多層膜の層１２、１３、１４、１５、１６、１７（最上層である１７は低屈折率層）の６層構成の膜である。無機系被膜から成る誘電体多層膜の層１２、１３、１４、１５、１６は、酸化物からなる誘電体多層膜である。誘電体多層膜は、透明基材レンズ１１の周辺領域に膜が付かない様な保持治具を使用し、真空蒸着法により形成（成膜）されている。

一般的に誘電体膜を真空蒸着で形成した場合、基板に推積する膜厚は基板面の法線方向と蒸着粒子の飛来方向とのなす角の余弦に比例するので、曲率、口径の大きいレンズの周辺ほど、膜厚が薄くなる傾向が強い。膜厚が８０％以下になると、反射防止の効果が著しく低下する。

このため、第１構造部が形成される第１領域Ｐと第２構造部が形成される第２領域Ｑとの境界位置での半開角をθとするとき、以下の条件式を満足することが好ましい。ここで、開角とは光学面の有効径がその曲率中心に張る角であり、半開角とは開角の１／２の角である。

３７≦θ
本実施形態では、反射防止膜１０１の中心領域（第１領域Ｐ）での多層反射防止膜１０２と周辺領域（第２領域Ｑ）での単層反射防止膜１０３との境界位置は、透明基材レンズ１１の中心軸Ｏに対し半開角３７度とした。

真空蒸着法で形成された誘電体多層膜の層１２、１３、１４、１５、１６の上には、最上層として無機系被膜の低屈折率層１７が形成されている。そして、低屈折率層１７は、多層反射防止膜１０２の最上層として光学素子の第１領域の他、単層反射防止膜１０３として光学素子の第２領域にも形成（成膜）されている。

低屈折率層１７が透明基材レンズ１１に直接形成（他の層を介さずに形成）された場合、中心領域（第１領域）の多層反射防止膜１０２に比べると反射抑制効果は少し低下するものの、開角の大きい周辺領域（第２領域）において、良好な反射防止効果が得られる。そして、この低屈折率層１７は、中空微粒子をバインダーで結合した膜から成っている。

この中空微粒子は内部に空孔を有し、空孔の外側の周囲にシェルを有する粒子から成る。このような中空微粒子は、空孔に含まれる空気（屈折率１．０）によって、屈折率を下げることができる。なお、空孔は単孔、多孔どちらでも良く、適宜選択することができる。中空微粒子のシェルを構成する材料としては、屈折率の低いものが好ましく、ＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２、フッ素、シリコーンなどの有機樹脂が挙げられるが、粒子の製造が容易であるＳｉＯ_２がより好ましい。

低屈折率層１７の中空微粒子の平均粒子径は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下が望ましい。より好ましくは、３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下が望ましい。中空微粒子の平均粒径が２０ｎｍ未満の場合、空孔の大きさが小さくなり、屈折率を低くすることが難しくなってしまう。また、平均粒径が６０ｎｍを超えると、粒子間の空隙の大きさが大きくなり、粒子の大きさに伴う散乱が発生するため好ましくない。低屈折率層１７の屈折率は、１．１５以上１．３０以下が望ましい。また、低屈折率層１７の膜厚は、反射防止性能を得るために、９０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが望ましい。

本実施形態では、低屈折率層１７の成膜は、透明基材の全領域に形成するためにスピンコート法で行っている。レンズのような曲面を有する基材へ膜厚を均一に成膜できる観点から、塗料をスピンコートで成膜することが好ましい。但し、ディップコート法、スプレーコート法、ロールコート法など液状塗工液の一般的な塗工方法を用いることもできる。

そして、塗工後は、乾燥を行う。乾燥は、乾燥機、ホットプレート、電気炉などを用いることができる。乾燥条件は、基材に影響を与えず、且つ中空粒子内の有機溶媒を蒸発できる程度の温度と時間とする。一般的には、３００℃以下の温度を用いることが好ましい。
なお、塗工回数は通常１回が好ましいが、乾燥と塗工を複数回繰り返しても良い。

また、最上層の低屈折率膜１７と透明基材レンズ１１との間には、無機系被膜から成る誘電体多層膜の層１２、１３、１４、１５、１６、１７として、高屈折率層及び中屈折率層などを複数層設ける場合の他、１層だけ（単層）設けるようにしても良い。この場合、最上層と合わせて２層となる。即ち、第１領域には、透明基板の上に２層以上で構成される反射防止膜が形成された第１構造部が形成されれば良い。

高屈折率層、中屈折率層としては、酸化ジルコニウム酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、アルミナ、シリカ、フッ化マグネシウムなどが挙げられる。また低屈折率層１７の表面に撥水、撥油などの機能性を有する層を形成しても良い。例えば、フッ素を含有した塗料や、シリコーン塗料などが挙げられる。

これらの屈折率層や、機能性を有する層は、真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法などを用いて形成することができる。一般に、反射防止膜の作製方法としては、ドライ法（真空成膜法）や、ウエット法（湿式成膜法）等が挙げられ、ドライ法は、蒸着法やスパッタリング法のように、低屈折率の金属フッ化物や金属酸化物を透過基材表面にコートし、反射防止膜を作製する方法である。また、ウエット法は、ディッピング法、スピンコート法などにより、透過基材表面に低屈折率材料を含むコート液を塗布した後、乾燥や焼成などにより反射防止膜を作製する方法である。

（実施例１）
以下、図１（ａ）を参照して、本実施形態に係る実施例１としての光学素子について、より具体的に説明する。透明基材レンズ１１は、ｄ線（５８７．６ｎｍ）での屈折率が１．８３５の透明ガラス基板を用いた。反射防止膜１０１の中心領域（第１領域）での多層反射防止膜１０２の最上層である低屈折率層１７を除く１２、１３、１４、１５、１６の５層構成を誘電体膜とした。これらの誘電体膜は、真空蒸着にて形成した。

透明基材レンズ１１を洗浄後、レンズ１１の半開角３７度までの開口を有する保持治具にのせて真空蒸着装置にセットした。真空蒸着にて第１の層１２として、ｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ_２Ｏ_５を物理膜厚２７．４ｎｍ成膜した。続けて層１３としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．６３のＡｌ_２Ｏ_３を物理膜厚１１．３ｎｍ、層１４としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ_２Ｏ_５を物理膜厚７７．８ｎｍ成膜した。

更に続けて、層１５としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．６３のＡｌ_２Ｏ_３を物理膜厚２５．４ｎｍ成膜、層１６としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ_２Ｏ_５を物理膜厚２６．７ｎｍ成膜した。そして、層１６まで成膜した透明基材レンズ１１を保持治具より外し、低屈折率膜１７を第１領域、第１領域の周辺領域である第２領域を含め、透明基材レンズ１１の光学面全面に形成した。

低屈折率膜１７は、屈折率が１．２５になるように、中空ＳｉＯ_２含有溶液に対するバインダー溶液の重量比率を調整し、混合した。混合した塗工液を透明基材レンズ１１上に滴下し、物理膜厚が１０６ｎｍになるように、スピンコーター３０００ｒｐｍで３０秒間回転し塗工した。塗工後は、２００℃のクリーンオーブンで１時間焼成を行った。形成された透明基材レンズ１１の中心及びレンズ１１の半開角４５度の位置において、反射率測定器で波長４００ｎｍから７００ｎｍの反射率を測定した。その結果を図２、図３に示す。

図２はレンズ１１の中心位置を測定したもので、横軸に波長、縦軸に反射率を示し、実線は入射角０度の反射特性、点線は入射角４５度の反射特性である。図２に示すように、波長４００ｎｍから７００ｎｍ全域で０度反射において０．８％以下、４５度反射においてもほぼ２．０％以下の良好な反射防止性能が確認できた。

図３はレンズの半開角が４５度の位置を測定したもので、図２同様、横軸に波長、縦軸に反射率を示し、実線は入射角０度の反射特性、点線は入射角４５度の反射特性である。図３に示すように、０度反射において、波長４００ｎｍで３％以下、４５０ｎｍから７００ｎｍで２％以下、４５度反射においても７００ｎｍで３．８％以下の良好な反射防止性能が確認できた。ここで、反射防止膜１０１の構成及び膜厚を表１に示す。

また、コットンワイパークリント（ユニチカ株式会社の商品名）で３００ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけ、２０回往復させた後、低屈折率層１０１の表面を確認したところ、傷は観察されなかった。

（実施例２）
以下、図４を参照して、本実施形態に係る実施例２としての光学素子について説明する。透明基材レンズ２１は、ｄ線（５８７．６ｎｍ）での屈折率が１．５１８の透明ガラス基板を用いた。透明基材レンズ１１は、光学面の高さＬＤが２５ｍｍ、曲率半径が３０．０の半開角５６．４度のレンズである。反射防止膜２０１の中心領域（第１領域）で、多層反射防止膜２０２の低屈折率層２７を除く誘電体膜の層２２、２３、２４、２５、２６の５層構成とした。これらの誘電体膜は、真空蒸着にて形成した。

透明基材レンズ１１を洗浄後、レンズ２１の半開角４０度までの開口を有する保持治具に載せて真空蒸着装置にセットした。真空蒸着にて第１の層２２、ｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ_２Ｏ_５を物理膜厚１１．５ｎｍ成膜した。続けて、層２３としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．６３のＡｌ_２Ｏ_３を物理膜厚３６．８ｎｍ、層２４としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ_２Ｏ_５を物理膜厚７３．４ｎｍ成膜した。

更に続けて、層２５としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．６３のＡｌ_２Ｏ_３を物理膜厚１３．２ｎｍ成膜、層２６としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ_２Ｏ_５を物理膜厚３２．１ｎｍ成膜した。層２６まで成膜した透明基材レンズ２１を保持治具より外し、第１領域、第１領域の周辺領域である第２領域を含め、低屈折率膜２７を透明基材レンズ１１の光学面全面に形成した。

低屈折率膜２７は、屈折率が１．２８になるように中空ＳｉＯ_２含有溶液に対するバインダー溶液の重量比率を調整し、混合した。混合した塗工液を透明基材レンズ２１上に滴下し、物理膜厚が１００ｎｍになるようにスピンコーター３０００ｒｐｍで３０秒間回転し塗工した。塗工後は、２００℃のクリーンオーブンで１時間焼成を行った。形成された透明基材レンズ２１の中心及びレンズ２１の半開角４５度の位置において、反射率測定器で波長４００ｎｍから７００ｎｍの反射率を測定した。その結果を、図５、図６に示す。

図５は、レンズ２１の中心位置を測定したもので、横軸に波長、縦軸に反射率を示し、実線は入射角０度の反射特性、点線は入射角４５度の反射特性である。図５に示すように、波長４００ｎｍから７００ｎｍ全域で０度反射においてほぼ１％以下、４５度反射においても波長４００ｎｍから６５０ｎｍで１．５％以下、７００ｎｍで３．５％の良好な反射防止性能が確認できた。

図６はレンズの半開角が４５度の位置を測定したもので、図５同様、横軸に波長、縦軸に反射率を示し、実線は入射角０度の反射特性、点線は入射角４５度の反射特性である。図６に示すように、０度反射において波長４００ｎｍから７００ｎｍで１％以下、４５度反射においてもほぼ２％以下の良好な反射防止性能が確認できた。ここで、反射防止膜２０１の構成及び膜厚を表２に示す。

また、コットンワイパークリント（ユニチカ株式会社の商品名）で３００ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけ、２０回往復させた後、低屈折率層１０１の表面を確認したところ、傷は観察されなかった。

（比較例１）
以下、図７を参照して、上述した実施例２との比較を行う光学素子について説明する。透明基材レンズ３１は、実施例２と同じ形状のｄ線（５８７．６ｎｍ）での屈折率が１．５１８の透明ガラス基板を用いた。反射防止膜３０１は、透明基材レンズ３１を洗浄後、透明基材レンズ３１のほぼ全領域に形成されるような保持治具に載せて、低屈折率層３７を除く誘電体膜の層３２、３３、３４、３５、３６の５層構成を真空蒸着にて形成した。

真空蒸着にて第１の層３２として、ｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ２Ｏ５を物理膜厚１１．５ｎｍ成膜した。続けて、層３３としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．６３のＡｌ_２Ｏ_３を物理膜厚３６．８ｎｍ、層３４のｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ２Ｏ５を物理膜厚７３．４ｎｍ成膜した。更に続けて、層３５としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率１．６３のＡｌ_２Ｏ_３を物理膜厚１３．２ｎｍ成膜、層３６としてｄ線（波長５８７．６ｎｍ）での屈折率２．１１のＴａ_２Ｏ_５を物理膜厚３２．１ｎｍ成膜した。

そして、層３６まで成膜した透明基材レンズ３１を保持治具より外し、低屈折率膜３７を実施例２と同様な方法で透明基材レンズ３１の光学面全面に形成した。形成された透明基材レンズ３１の中心及びレンズ３１の半開角４５度の位置において、実施例２と同様に反射率測定器で波長４００ｎｍから７００ｎｍの反射率を測定した。その結果、図８、図９に示す様な反射率であった。

図８のレンズ３１の中心位置を測定したものは、実施例２の図５同様、良好な反射特性であった。図９のレンズ３１の半開角が４５度の位置を測定したものは、実施例２の図６に比べ反射率が高く反射防止性能が劣っていることが確認できた。ここで、比較例の反射防止膜２０１の構成及び膜厚を表３に示す。

また、膜の強度については、実施例２と同様にコットンワイパークリント（ユニチカ株式会社の商品名）で３００ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけ、２０回往復させた後、膜表面を観察したが、傷は確認されなかった。

（光学素子の製造方法）
上述したような本発明に係る光学素子は、以下の製造方法によって製造可能である。即ち、透明基板の上に２層以上で構成される反射防止膜の内、最上層を除く層を第１領域に成膜する第１工程と、前記最上層を前記第１領域および前記第１領域と異なる第２領域に成膜する第２工程と、を有する。そして、第２工程は、湿式成膜法で行うと好ましい。

（変形例）
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

（変形例１）
上述した実施形態では、反射防止膜１０１の中心領域（第１領域）での多層反射防止膜１０２と周辺領域（第２領域）での単層反射防止膜１０３との境界位置は、透明基材レンズ１１の中心軸Ｏに対し半開角３７度とした。しかし、本発明において、反射防止膜１０１の中心領域（第１領域）での多層反射防止膜１０２と周辺領域（第２領域）での単層反射防止膜１０３との境界位置は、半開角３７度の場合に限定されるものでなく、半開角を任意に設定しても良い。

（変形例２）
上述した実施形態では、第１領域での２層以上で構成される反射防止膜、第２領域での単層の反射防止膜が、レンズを構成する透明基板における凹面のレンズ面の上に形成されたが、本発明はこれに限られず、凸面のレンズ面の上に形成されても良い。また、このような反射防止膜が形成されたレンズ面は、片側の端面（１面）だけでなく両側の端面（２面）に設けられても良い。また、貼り合わせレンズの貼り合わせ面に設けられても良い。

また、レンズは透過型レンズに限らず、反射型レンズであっても良い。反射型レンズの場合、光路中、反射面の前後のレンズ面が透過面であって、この透過面に上述した実施形態の反射防止膜を形成すれば良い。

１１・・透明基材レンズ（透明基板）、１２、１３、１４、１５、１６・・誘電体多層膜の層、１７・・低屈折率層（最上層）

Claims (11)

1. 透明基板と、該透明基板の上に形成された反射防止構造と、を有する光学素子であって、
   前記反射防止構造は、複数の層で構成された第１の反射防止部と、該第１の反射防止部の最上層が前記透明基板の上に他の層を介さずに形成された第２の反射防止部と、を含むことを特徴とする光学素子。
2. 前記透明基板は、レンズを構成することを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
3. 前記第１の反射防止部、前記第２の反射防止部が凹面のレンズ面の上に形成されることを特徴とする請求項２に記載の光学素子。
4. 前記第２の反射防止部は、前記第１の反射防止部が設けられる領域の外側にリング状に設けられることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学素子。
5. 前記第１の反射防止部が形成される領域と前記第２の反射防止部が形成される領域との境界位置での半開角をθとするとき、以下の条件式を満足することを特徴とする請求項４に記載の光学素子。
   ３７≦θ
6. 前記最上層の屈折率は、１．１５以上１．３０以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光学素子。
7. 前記最上層は、平均粒子径が２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である中空微粒子から成ることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学素子。
8. 前記中空微粒子は、ＳｉＯ_２もしくはＭｇＦ_２から成ることを特徴とする請求項７に記載の光学素子。
9. 請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学素子を有することを特徴とする光学系。
10. 透明基板の上に２層以上で構成される反射防止膜の内、最上層を除く層を第１領域に成膜する第１工程と、
    前記最上層を前記第１領域および前記第１領域と異なる第２領域に成膜する第２工程と、
    を有することを特徴とする光学素子の製造方法。
11. 前記第２工程は、湿式成膜法で行うことを特徴とする請求項１０に記載の光学素子の製造方法。