JP2015195266A5 - ダイシングシート付きダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法 - Google Patents

ダイシングシート付きダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2015195266A5
JP2015195266A5 JP2014072175A JP2014072175A JP2015195266A5 JP 2015195266 A5 JP2015195266 A5 JP 2015195266A5 JP 2014072175 A JP2014072175 A JP 2014072175A JP 2014072175 A JP2014072175 A JP 2014072175A JP 2015195266 A5 JP2015195266 A5 JP 2015195266A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
die
dicing sheet
film
bonding
die bond
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014072175A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6073263B2 (ja
JP2015195266A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2014072175A priority Critical patent/JP6073263B2/ja
Priority claimed from JP2014072175A external-priority patent/JP6073263B2/ja
Priority to KR1020150038727A priority patent/KR102326099B1/ko
Priority to CN201510145546.0A priority patent/CN104946149B/zh
Priority to TW104110264A priority patent/TWI643269B/zh
Publication of JP2015195266A publication Critical patent/JP2015195266A/ja
Publication of JP2015195266A5 publication Critical patent/JP2015195266A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6073263B2 publication Critical patent/JP6073263B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (9)

  1. ダイシングシート上にダイボンドフィルムが設けられたダイシングシート付きダイボンドフィルムであって、
    前記ダイボンドフィルムの0℃での損失弾性率が20MPa以上500MPa以下であることを特徴とするダイシングシート付きダイボンドフィルム。
  2. 前記ダイシングシートの0℃での損失弾性率が10MPa以上500MPa以下であることを特徴とする請求項1に記載のダイシングシート付きダイボンドフィルム。
  3. 測定温度0℃、引張速度300mm/分、T型剥離試験の条件下における、前記ダイシングシートから前記ダイボンドフィルムを剥離する際の剥離力が0.01N/20mm以上2N/20mm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のダイシングシート付きダイボンドフィルム。
  4. 測定温度0℃、引張速度300mm/分、T型剥離試験の条件下における、前記ダイシングシートから前記ダイボンドフィルムを剥離する際の剥離力の、0℃で72時間放置前後における変化率が、−75%〜75%の範囲であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1に記載のダイシングシート付きダイボンドフィルム。
  5. 前記ダイボンドフィルムの0℃での引張破断伸度が10%以上500%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1に記載のダイシングシート付きダイボンドフィルム。
  6. 前記ダイボンドフィルムは、有機樹脂成分全体に対して、アクリル系共重合体を85重量%以上含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1に記載のダイシングシート付きダイボンドフィルム。
  7. 前記ダイボンドフィルムは、ブチルアクリレート、及び、アクリロニトリルを含むモノマー原料を重合して得られ、且つ、官能基としてエポキシ基、又は、カルボキシル基を有するアクリル系共重合体を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1に記載のダイシングシート付きダイボンドフィルム。
  8. 前記ダイボンドフィルムは、軟化点が0℃以下の熱架橋剤を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1に記載のダイシングシート付きダイボンドフィルム。
  9. 請求項1〜8のいずれか1に記載のダイシングシート付きダイボンドフィルムを準備する工程と、
    前記ダイシングシート付きダイボンドフィルムのダイボンドフィルムと、半導体ウエハの裏面とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
    前記半導体ウエハを前記ダイボンドフィルムと共にダイシングして、チップ状の半導体チップを形成するダイシング工程と、
    前記半導体チップを、前記ダイシングシート付きダイボンドフィルムから前記ダイボンドフィルムと共にピックアップするピックアップ工程と、
    前記ダイボンドフィルムを介して、前記半導体チップを被着体上にダイボンドするダイボンド工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP2014072175A 2014-03-31 2014-03-31 ダイシングシート付きダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法 Active JP6073263B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014072175A JP6073263B2 (ja) 2014-03-31 2014-03-31 ダイシングシート付きダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法
KR1020150038727A KR102326099B1 (ko) 2014-03-31 2015-03-20 다이싱 시트가 부착된 다이 본드 필름, 반도체 장치, 및 반도체 장치의 제조 방법
CN201510145546.0A CN104946149B (zh) 2014-03-31 2015-03-30 带有切割片的芯片接合膜、半导体装置及半导体装置的制造方法
TW104110264A TWI643269B (zh) 2014-03-31 2015-03-30 A die-bonding film with a dicing sheet, a semiconductor device, and a method of manufacturing a semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014072175A JP6073263B2 (ja) 2014-03-31 2014-03-31 ダイシングシート付きダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015195266A JP2015195266A (ja) 2015-11-05
JP2015195266A5 true JP2015195266A5 (ja) 2016-06-16
JP6073263B2 JP6073263B2 (ja) 2017-02-01

Family

ID=54161228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014072175A Active JP6073263B2 (ja) 2014-03-31 2014-03-31 ダイシングシート付きダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6073263B2 (ja)
KR (1) KR102326099B1 (ja)
CN (1) CN104946149B (ja)
TW (1) TWI643269B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6791701B2 (ja) * 2016-09-28 2020-11-25 日東電工株式会社 ダイシングダイボンディングテープおよび半導体装置の製造方法
CN109863428B (zh) * 2016-12-28 2021-07-30 日本瑞翁株式会社 光学膜的制造方法、偏振片及显示装置
JP7007827B2 (ja) * 2017-07-28 2022-01-25 日東電工株式会社 ダイボンドフィルム、ダイシングダイボンドフィルム、および半導体装置製造方法
CN109037124B (zh) * 2018-09-30 2023-10-20 汕头大学 一种大尺寸超薄芯片阶段化高速剥离装置及其方法
CN113348533B (zh) * 2019-05-10 2022-06-03 昭和电工材料株式会社 拾取性的评价方法、切晶粘晶一体型膜及其评价方法及分选方法、半导体装置的制造方法
WO2022264546A1 (ja) * 2021-06-16 2022-12-22 日東電工株式会社 導電性シート及びダイシングダイボンドフィルム

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05179211A (ja) 1991-12-30 1993-07-20 Nitto Denko Corp ダイシング・ダイボンドフイルム
JP3913372B2 (ja) * 1998-09-18 2007-05-09 リンテック株式会社 半導体素子を実装した回路基板および導電性粘弾性体
JP4780828B2 (ja) * 2000-11-22 2011-09-28 三井化学株式会社 ウエハ加工用粘着テープ及びその製造方法並びに使用方法
JP2006245352A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Nitta Ind Corp ウエハのダイシング用テープ、半導体チップのピックアップ方法
JP2010129700A (ja) * 2008-11-26 2010-06-10 Nitto Denko Corp ダイシング・ダイボンドフィルム及び半導体装置の製造方法
JP2010262973A (ja) * 2009-04-30 2010-11-18 Renesas Electronics Corp 半導体装置
JP4976522B2 (ja) * 2010-04-16 2012-07-18 日東電工株式会社 熱硬化型ダイボンドフィルム、ダイシング・ダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法
JP5770995B2 (ja) * 2010-12-01 2015-08-26 デクセリアルズ株式会社 熱硬化性樹脂組成物、熱硬化性接着シート及び熱硬化性接着シートの製造方法
JP5398083B2 (ja) * 2011-03-11 2014-01-29 日東電工株式会社 ダイボンドフィルム及びその用途
JP5976326B2 (ja) * 2012-01-25 2016-08-23 日東電工株式会社 半導体装置の製造方法、及び、当該半導体装置の製造方法に用いられる接着フィルム
WO2014021450A1 (ja) 2012-08-02 2014-02-06 リンテック株式会社 フィルム状接着剤、半導体接合用接着シート、および半導体装置の製造方法
JP6128970B2 (ja) * 2012-08-13 2017-05-17 東京応化工業株式会社 接着剤組成物、接着フィルム、貼付方法、および処理方法
JP6264126B2 (ja) * 2014-03-20 2018-01-24 日立化成株式会社 ウエハ加工用テープ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015195266A5 (ja) ダイシングシート付きダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法
JP2016033215A5 (ja)
JP2010171402A5 (ja)
JP2015507040A5 (ja)
JP2016521306A5 (ja)
JP2014218672A5 (ja)
PH12017501228B1 (en) Film, method for its production, and method for producing semiconductor element using the film
TWI633013B (zh) 接著膜及半導體裝置的製造方法
JP2016539202A5 (ja)
JP2010199541A5 (ja)
WO2015156891A3 (en) Method of providing a flexible semiconductor device and flexible semiconductor device thereof
PH12017500374B1 (en) Adhesive film and semiconductor package using adhesive film
JP2010199542A5 (ja)
WO2009131405A3 (ko) 에폭시계 조성물, 접착 필름, 다이싱 다이본딩 필름 및 반도체 장치
MY178666A (en) Dicing tape
MY185983A (en) Curable resin film and first protective film forming sheet
MY160731A (en) Method for manufacturing electronic parts
MX2016013042A (es) Adhesivos para superficie húmeda y seca.
JP2017500221A5 (ja)
JP2016528323A5 (ja)
JP2012196906A5 (ja)
WO2008105169A1 (ja) 半導体用接着フィルムおよびそれを用いた半導体装置
MY162038A (en) Die bonding apparatus
JP2017514005A5 (ja)
JP6454580B2 (ja) 熱硬化性接着シート、及び半導体装置の製造方法